[发明专利]光刻参数的修正方法及系统有效

专利信息
申请号: 201110348440.2 申请日: 2011-11-07
公开(公告)号: CN103091996A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 许宗能;蔡建祥;周玮;杨兆宇 申请(专利权)人: 无锡华润上华科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 何平
地址: 214028 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种光刻参数修正方法及系统,该方法包括多个机台将产品输送至光刻机进行处理;于光刻机已处理批次产品中,分别收集各个机台所输送产品的数据;根据收集的各个机台所输送产品的数据,分别获取各个机台对应的修正值,每个机台对应的修正值仅根据该机台所输送产品的数据获取;根据光刻机当前批次产品对应的机台,将机台对应的修正值交予光刻机,修正光刻参数,修正后光刻机对当前批次产品进行处理。本发明获取准确的修正值,准确的对当前及以后批次产品进行修正,减少光阻返工问题,使得光阻返工率大大降低,保证产品批与批之间的稳定性,节约大量的人力和材料的浪费,保证产品出货时间,也提高了光刻机的利用率。
搜索关键词: 光刻 参数 修正 方法 系统
【主权项】:
一种光刻参数修正方法,包括如下步骤:多个机台将产品输送至光刻机进行处理;于光刻机已处理批次产品中,分别收集各个机台所输送产品的数据;根据收集的各个机台所输送产品的数据,分别获取各个机台对应的修正值,每个机台对应的修正值仅根据该机台所输送产品的数据获取;根据光刻机当前批次产品对应的机台,将机台对应的修正值交予光刻机,修正光刻参数,修正后光刻机对当前批次产品进行处理。
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