[发明专利]延长研磨垫使用周期的化学机械研磨方法有效

专利信息
申请号: 201110228135.X 申请日: 2011-08-10
公开(公告)号: CN102922415A 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 范怡平;黄勇;张礼丽;杨贵璞 申请(专利权)人: 无锡华润上华科技有限公司
主分类号: B24B37/07 分类号: B24B37/07
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 唐立;高为
地址: 214028 无锡市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种延长研磨垫使用周期的化学机械研磨(CMP)方法,属于半导体制造技术领域。该CMP方法包括第一CMP阶段和第二CMP阶段,在第二CMP阶段应用光学终止点检测装置时存在终止点抓取的准备时间段(tp2);其中,在第二CMP阶段的研磨前准备步骤设置为通过时间控制和终止点检测控制结合的模式,以准备时间段(tp2)从第二CMP阶段的主研磨步骤中前移至所述研磨前准备步骤中;并且,延长第一CMP阶段的主研磨步骤的时间(tp1),以使在该延长的时间(tp1)内的研磨厚度基本等于第二CMP阶段的主研磨在该准备时间段内(tp2)的研磨厚度。该CMP方法容易与现有CMP制程兼容,效率高。
搜索关键词: 延长 研磨 使用 周期 化学 机械 方法
【主权项】:
一种化学机械研磨方法,包括第一化学机械研磨阶段和第二化学机械研磨阶段,在所述第二化学机械研磨阶段应用光学终止点检测装置时存在终止点抓取的准备时间段;其特征在于,所述第二化学机械研磨阶段的研磨前准备步骤被设置为通过时间控制和终止点检测控制结合的模式,以使所述准备时间段从所述第二化学机械研磨阶段的主研磨步骤中前移至所述研磨前准备步骤中;并且,延长所述第一化学机械研磨阶段的主研磨步骤的时间,以使在所述延长的时间内的研磨厚度基本等于第二化学机械研磨阶段的主研磨步骤在所述准备时间段内的研磨厚度。
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  • 本发明提供一种自卸汽车手操纵气阀平面配磨机,阀转盘通过固定柱连接在固定盘上;所述旋摆盘安装于固定盘内,旋摆盘圆周设有多个孔,过渡盘设有多个,设置在旋摆盘的孔内;所述过渡盘内有孔,孔内连接阀固定体;所述旋摆盘中心处连接偏心轮,偏心轮连接减速器输出轴;旋摆盘在偏心轮的作用下即作偏摆运动也围绕偏心轮做区域性圆周移动;所述旋摆盘驱动过渡盘作偏摆运动。采用电机带动摆线针轮减速机直接与偏心轮连接驱动研磨装置,设备制造简单,使用、维护方便,生产效率高。
  • 数控揉搓式研磨机床-201320243301.8
  • 党金行;曹刚;于恒;张彦 - 山东冠泓数控装备有限公司
  • 2013-05-08 - 2013-12-18 - B24B37/07
  • 本实用新型公开了一种数控揉搓式研磨机床,由左支架、右支架、横梁构成桥式框架结构,横梁能够沿左支架、右支架前后移动;横梁上装有溜动箱,溜动箱能够沿横梁的导轨左右移动;溜动箱还能够另外输出绕圈平动动力,溜动箱与研板连接,通过溜动箱驱动研板运动;各种运动由数控系统控制,使研板能够任意行走各种轨迹,并能模拟人工揉搓式动作,完全可以代替人工研磨作业,使平面研磨加工工艺一步跃向机械化、自动化和数控化。
  • 一种二氧化硅晶片研磨机-201320150118.3
  • 华前斌 - 铜陵迈维电子科技有限公司
  • 2013-03-28 - 2013-10-30 - B24B37/07
  • 一种二氧化硅晶片研磨机,涉及一种研磨装置,包括底座,底座上设有工作槽,工作槽内设有主轴,主轴上套有转盘,所述的转盘外圈设有研磨圈,研磨圈上表面设有研磨纹,研磨圈上放置有研磨片,研磨片内设有研磨槽,所述的研磨片一端顶在转盘上,另一端顶在研磨圈外圈的挡圈上,所述的工作槽上方设有由液压升降机带动的封盖。本实用新型结构简单,设计合理,将二氧化硅晶片放置在研磨槽内,通过研磨片转动,使二氧化硅晶片在研磨圈上的研磨纹上进行摩擦研磨,方便快捷,效率高。
  • 一立轴二卧轴雕铣机-201210134521.7
  • 康俊富;陈弘哲;张家豪 - 韶阳科技股份有限公司
  • 2012-05-03 - 2013-10-23 - B24B37/07
  • 一种一立轴二卧轴雕铣机,包含一个机架、一个工作平台、一个横梁,及一个加工单元。该加工单元设置于该横梁上,并包括一个能左右移动的横向滑板、一个能上下移动的纵向滑板、一个设置于该纵向滑板前侧的卧式加工主轴、一个设置于该纵向滑板的立式加工主轴,及一个致动件,当欲对一个试片进行表面研磨时,该致动件拉动该立式加工主轴,使一个第二刀具高于两个第一刀具,以让前述第一刀具进行加工动作,当欲对该试片进行开孔与磨边时,该致动件推动该立式加工主轴,让该第二刀具低于前述第一刀具,以让该第二刀具进行加工动作。
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