[发明专利]光刻系统有效
申请号: | 201010620463.X | 申请日: | 2010-12-31 |
公开(公告)号: | CN102566297A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 莫少文;陈尧;施灵;段恒山 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供光刻系统,所述光刻系统能够对光刻晶圆进行返工,所述光刻系统包括工艺片架、返工片架、返工单元和控制单元,其中所述返工单元用于利用返工程序对所述待返工晶圆进行光刻返工,所述控制单元用于统计所述光刻完毕晶圆的数目和所述待返工晶圆的数目,用于计算所述光刻完毕晶圆的数目和所述待返工晶圆的数目之和,在所述光刻完毕晶圆的数目和所述待返工晶圆的数目之和等于所述第一晶圆数的情况下,所述控制单元用于锁定所述虚拟批号,将所述虚拟批号中与所述待返工晶圆对应的虚拟位置号转移至缓冲区,将所述返工晶圆对应的虚拟位置号分配对应的虚拟返工批号,并用于启动所述返工单元。本发明解决由于无法对准的晶圆的光刻返工问题。 | ||
搜索关键词: | 光刻 系统 | ||
【主权项】:
一种光刻系统,其特征在于,包括:工艺片架,用于放置光刻完毕晶圆;返工片架,用于放置待返工晶圆,所述待返工晶圆与所述光刻完毕晶圆对应同一虚拟批号,所述待返工晶圆和所述工艺晶圆分别对应所述虚拟批号中的不同的虚拟位置号,所述虚拟批号对应有第一晶圆数;返工单元,用于利用返工程序对所述待返工晶圆进行光刻返工;控制单元,用于统计所述光刻完毕晶圆的数目和所述待返工晶圆的数目,用于计算所述光刻完毕晶圆的数目和所述待返工晶圆的数目之和,在所述光刻完毕晶圆的数目和所述待返工晶圆的数目之和等于所述第一晶圆数的情况下,所述控制单元用于锁定所述虚拟批号,将所述虚拟批号中与所述待返工晶圆对应的虚拟位置号转移至缓冲区,将所述返工晶圆对应的虚拟位置号分配对应的虚拟返工批号,并用于启动所述返工单元。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010620463.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种光伏电站的性能预报及故障报警方法
- 下一篇:一种获取星历数据的方法及系统