专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光刻系统-CN201010620463.X有效
  • 莫少文;陈尧;施灵;段恒山 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2010-12-31 - 2012-07-11 - G03F7/20
  • 本发明提供光刻系统,所述光刻系统能够对光刻晶圆进行返工,所述光刻系统包括工艺片架、返工片架、返工单元和控制单元,其中所述返工单元用于利用返工程序对所述待返工晶圆进行光刻返工,所述控制单元用于统计所述光刻完毕晶圆的数目和所述待返工晶圆的数目,用于计算所述光刻完毕晶圆的数目和所述待返工晶圆的数目之和,在所述光刻完毕晶圆的数目和所述待返工晶圆的数目之和等于所述第一晶圆数的情况下,所述控制单元用于锁定所述虚拟批号,将所述虚拟批号中与所述待返工晶圆对应的虚拟位置号转移至缓冲区,将所述返工晶圆对应的虚拟位置号分配对应的虚拟返工批号,并用于启动所述返工单元。本发明解决由于无法对准的晶圆的光刻返工问题。
  • 光刻系统

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