[发明专利]等离子体处理装置有效

专利信息
申请号: 201010589363.5 申请日: 2010-12-10
公开(公告)号: CN102148125A 公开(公告)日: 2011-08-10
发明(设计)人: 佐佐木和男 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H01L21/00
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供一种使温度调节设备简易化的同时,能够防止在处理容器内产生附着物和电弧放电的等离子体处理装置。在形成处理室(5)的主体容器(2)的侧壁(2a)的内侧,配置设置有载热体流路(43)的保护板(41)的同时,通过在侧壁(2a)内面与保护板(41)之间充填绝热部件(42),能够确切地对主体容器(2)和保护板(41)进行热分离。另外,在感应耦合等离子体处理装置(1)中,保护板(41)对于高频电源(29)供给基座(22)的高频电力所形成的偏置电场作为阳极电极起作用。
搜索关键词: 等离子体 处理 装置
【主权项】:
一种等离子体处理装置,其特征在于,包括:形成处理被处理基板的处理室的处理容器;设置在所述处理室内,载置所述被处理基板的载置台;向所述处理室内供给处理气体的处理气体供给装置;使所述处理室内处于真空状态的排气装置;在所述处理室内使所述处理气体的等离子体生成的等离子体生成机构;配置在所述处理容器的壁的内侧的保护板;对所述保护板的温度进行调节的温度调节机构;和紧贴地安装在所述处理容器的内壁面与所述保护板之间,遮断或抑制所述处理容器的内壁面与所述保护板之间的热传导的绝热部件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010589363.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top