[发明专利]基板洗净方法和基板洗净装置

摘要

本发明是对水的静接触角是85度以上的基板表面进行洗净的方法。包含如下工序：以基板的中心部和旋转中心部一致的方式使基板保持部水平保持基板；使所述基板保持部围绕垂直轴旋转的同时，从洗净喷嘴向基板的中心部喷出洗净液，通过离心力扩展到基板的表面整体；接着在使基板保持部旋转的状态下将基板上的洗净液的喷出位置变更到从基板的中心部偏移的偏心位置上，并在将洗净液的喷出位置的气体喷出位置侧界面和气体喷嘴的气体喷出位置的洗净液喷出位置侧界面的距离设定为9mm～15mm的状态下，从所述气体喷嘴向所述基板的中心部喷出气体形成洗净液的干燥区域；在使基板保持部旋转的状态下，以比所述干燥区域向外扩展的速度慢的速度使洗净液的喷出位置向基板的周缘移动。

主权项

1.一种基板洗净方法，对水的静接触角是85度以上的基板的表面进行洗净，该方法的特征在于，包含：以基板的中心部和旋转中心部一致的方式使基板保持部水平地保持基板的工序；一边使所述基板保持部围绕垂直轴旋转一边从洗净喷嘴向基板的中心部喷出洗净液，并通过离心力扩展到基板的表面整体的工序；接着在使基板保持部旋转的状态下，将基板上的洗净液的喷出位置变更到从基板的中心部偏移的偏心位置，并且在将洗净液的喷出位置中的气体喷出位置侧界面、和气体喷嘴的气体喷出位置的洗净液喷出位置侧界面的距离设定为9mm～15mm的状态下，从所述气体喷嘴向所述基板的中心部喷出气体，形成洗净液的干燥区域的工序；以及之后，在使基板保持部旋转的状态下，以比所述干燥区域向外扩展的速度慢的速度使洗净液的喷出位置向基板的周缘移动的工序。