[发明专利]基板处理装置以及处理方法无效
| 申请号： | 200910007455.5 | 申请日： | 2004-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN101620382A | 公开（公告）日： | 2010-01-06 |
| 发明（设计）人： | 城户秀作 | 申请（专利权）人： | NEC液晶技术株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;H01L21/027;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;郭国清 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种可适合进行半曝光工艺的基板处理装置以及处理方法。整体性配置进行基板传送的基板传送机构(12)、用于对基板实施药液处理的药液处理单元(21)、用于对基板实施显影处理的显影处理单元20。或整体性配置进行基板传送的基板传送机构(12)、用于对基板实施药液处理的第1药液处理单元(21)、用于对基板实施药液处理的第2药液处理单元(21)。或整体性配置进行基板传送的基板传送机构(12)、用于对基板实施显影处理的第1显影处理单元(20)、用于对基板实施显影处理的第2显影处理单元(20)。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理装置，包括用于对基板实施显影处理的显影处理单元，其中，所述显影处理单元分复数次处理所述基板，并且具有使所述基板在每次处理时朝向不同方向的机构。
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