[发明专利]减少烃产物中的有机卤化物杂质无效

专利信息
申请号: 200880121712.1 申请日: 2008-11-04
公开(公告)号: CN101970382A 公开(公告)日: 2011-02-09
发明(设计)人: M·S·德莱弗;H·S·拉驰恩;M·A·侯赛因 申请(专利权)人: 雪佛龙美国公司
主分类号: C07C2/56 分类号: C07C2/56
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 任永利
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 公开了减少有机卤化物含量为50-4000ppm的烃产物中的卤化物浓度的方法,所述烃产物是使用包含含卤素的酸性离子液体的离子液体催化剂由烃转化方法生产的,所述方法包括使至少一部分所述烃产物与孔尺寸为4-16埃的至少一种分子筛在有机卤化物吸附条件下接触,以将该烃产物中的卤素浓度减少至小于40ppm。
搜索关键词: 减少 产物 中的 有机 卤化物 杂质
【主权项】:
减少有机卤化物含量为50‑4000ppm的烃产物中的卤化物浓度的方法,所述烃产物是使用包含含卤素的酸性离子液体的离子液体催化剂由烃转化方法生产的,所述方法包括使至少一部分所述烃产物与孔尺寸为4‑16埃的至少一种分子筛在有机卤化物吸附条件下接触,以将该烃产物中的卤素浓度减少至小于40ppm。
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