[发明专利]用于在真空操作中处理气体的设备有效
| 申请号： | 200880001711.3 | 申请日： | 2008-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN101631890A | 公开（公告）日： | 2010-01-20 |
| 发明（设计）人： | O·拉特滕德 | 申请（专利权）人： | OC欧瑞康巴尔斯公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C14/34 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 原绍辉;曹 若 |
| 地址： | 列支敦士*** | 国省代码： | 列支敦士登;LI |
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| 摘要： | 在真空处理工艺中用于控制气相上升模式的设备中，气体入口(1)与质量流量控制器MFC(2)的一端可操作地连接；所述MFC(2)的另一端经由第一阀(5)与真空室(3)可操作地连接，并且经由第二阀(6)与排气管(4)连接，第一阀(5)和第二阀(6)并联，真空室(3)和排气管(4)并联。与排气管(4)的所述连接还包括用于改变所述排气管(4)的泵横截面的装置。在真空处理工艺中用于控制气相上升模式的设备，包括经由阀(11)与真空室(3)可操作连接的气体入口(13)，其中气体入口(13)和阀(11)之间的连接还包括隔板(12)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 真空 操作 处理 气体 设备 | ||
【主权项】：
1.在真空处理工艺中用于控制气相上升模式的设备，包括：与质量流量控制器MFC(2)的一端可操作连接的气体入口(1)；所述MFC(2)经由第一阀(5)和真空室(3)可操作地再连接，并且经由第二阀(6)与排气管(4)并联连接；与排气管(4)的所述连接还包括用于改变所述排气管(4)的泵横截面的装置。
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