[发明专利]提高染料掺杂有机薄膜全光开关调制深度的新方法及模型无效
| 申请号： | 200810030072.5 | 申请日： | 2008-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN101526712A | 公开（公告）日： | 2009-09-09 |
| 发明（设计）人： | 许棠;陈桂英 | 申请（专利权）人： | 湛江师范学院 |
| 主分类号： | G02F1/35 | 分类号： | G02F1/35;G02F1/361;G02B27/28 |
| 代理公司： | 广州市南锋专利事务所有限公司 | 代理人： | 潘献民 |
| 地址： | 524000广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种提高染料掺杂有机薄膜全光开关调制深度的新方法。新方法的主要特点是用两束正交且相位相差180°线偏振光交替激发开关，加快开关的回复过程，从而实现了加快开关速度和提高了开关的调制深度，同时实现了在低激发功率下提高全光开关速度和调制深度的目的。本发明还提供了一种基于上述新方法的新的全光开关模型，即正交线偏振光激发染料掺杂有机薄膜全光开关模型。本发明具有全光开关响应速度明显加快、弱激发光功率和高速开关频率条件下全光开关的调制深度明显提高、正交线偏振光激发全光开关相对现有的全光开关简化了光路和调整方法的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 染料 掺杂 有机 薄膜 开关 调制 深度 新方法 模型 | ||
【主权项】：
1.一种提高染料掺杂有机薄膜全光开关调制深度的新方法，其特征在于：用两束正交且相位相差180°的线偏振光交替激发开关，加快开关的回复过程，实现了加快开关速度和提高了开关的调制深度的目的。
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