[发明专利]浸润式光刻系统用的洁净膜清洗片、成分、用法及其应用无效
| 申请号： | 200710008126.3 | 申请日： | 2007-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN101231469A | 公开（公告）日： | 2008-07-30 |
| 发明（设计）人： | 黄义雄;林陵杰 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00;B08B3/08;B08B3/02;C11D1/88 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元;赵仁临 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种原位清洗半导体机台的物镜的方法。在进行清洗工艺时，仅需将具有洁净膜的清洗片放置在扫瞄支座上，通过溶剂溶解洁净膜中的洁净成分，使洁净成分与物镜上的污染物反应，再由浸润式光刻系统中的液体(水)冲洗物镜，即可将物镜清洗干净。 | ||
| 搜索关键词： | 浸润 光刻 系统 洁净 清洗 成分 用法 及其 应用 | ||
【主权项】：
1.一种半导体机台的物镜的清洗方法，包括：提供清洗片，该清洗片包括晶圆与洁净膜，该洁净膜包括洁净成分；提供第一溶剂，溶解部分该洁净膜的该洁净成分，并使该洁净成分与该物镜上的污染物反应；以及以第二溶剂冲洗该物镜。
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