[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 200510071696.8 | 申请日： | 2005-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN1702555A | 公开（公告）日： | 2005-11-30 |
| 发明（设计）人： | K·J·J·M·扎亚;J·J·S·M·梅坦斯;J·J·奥坦斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种在湿浸式光刻技术中使用的凸块板，其在周边部分的凸块密度比中间部分的凸块密度高，这样当在周边部分施加高压力差时，凸块的压缩基本上仍与中间部分的相同。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、光刻设备包括：-用于提供辐射投影光束的照射系统；-用于支撑构图部件的支撑结构，该构图部件用于给投影光束在其横断面赋予图案；-用于固定基底的基底台，所述基底台包括凸块板和真空系统，真空系统用于在固定在所述凸块板上的基底两侧产生压力差，所述压力差在所述基底的周边部分比在其中间部分大；-用于将已构图光束投影到基底的靶部上的投影系统；和-用于将高折射率液体供应到所述投影系统的最后元件和固定于所述基底台上的基底之间的液体供应系统；-其中所述凸块板上的凸块密度在所述周边部分比在所述中间部分高。
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