[发明专利]光刻装置，器件制造方法和可变衰减器

摘要

一种光刻装置，包括用于提供辐射投影束的照明系统，用于支撑将图案传给投影束的构图结构的支撑结构，用于支持晶片的基板台和用于将构图射束投影到晶片的目标部位的投影系统。为了控制在晶片上的辐射剂量以提高晶片的生产量，提供可变衰减器，以便改变投影束的强度而不改变射束的位置。可变衰减器包括两个平行设置的反射镜，使得辐射输入射束入射到第一反射镜，辐射被第一反射镜朝第二反射镜反射，辐射被第二反射镜反射以产生所需强度的辐射输出射束以输入到照明系统；以及包括用于倾斜反射镜的机制，使得反射镜保持彼此平行，并且改变射束在反射镜上的入射角，以便改变输出射束的强度。这允许连续改变投影束的强度而不改变射束的位置。

主权项

1.一种光刻装置，包括：照明系统，其用于提供辐射投影束；支撑构图结构的支撑结构，所述构图结构构造和设置成将图案传给投影束；基板台，其用于支持基板；和投影系统，其用于将构图射束投影到基板的目标部位；可变衰减器，其形成部分照明系统，并包括：两个基本上平行的反射表面，定位成使得辐射输入射束入射到第一反射表面，再被第一反射表面朝第二反射表面反射，辐射被第二反射表面反射以产生所需强度的辐射输出射束，和倾斜反射表面的致动器，使得反射表面基本保持彼此平行，并且改变输入射束在第一反射表面的入射角和反射射束在第二反射表面的入射角，从而改变输出射束的强度，而基本保持输出射束的位置。