[发明专利]设备管理系统和方法、半导体曝光设备及其管理方法、半导体器件的制造方法有效
| 申请号： | 02145784.0 | 申请日： | 2002-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN1412622A | 公开（公告）日： | 2003-04-23 |
| 发明（设计）人： | 稻秀树;铃木武彦;千德孝一;松本隆宏;大石哲 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 杜日新 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在运行中，管理作为管理对象设备的设备管理方法，设定用于运行作为管理对象设备的参数(S205)；按照该设定的参数，运行设备(S220)；在该设备的运行中检查运行设备的结果的检查(S225)。从表示对由检查求出的第1参数值的运行结果的第1评价量，和按照与第1参数值不同的第2参数值(S215)表示运行结果的第2评价量(S210、S230)中决定参数值(S255、S260)。把第1参数值更新为决定的参数值，按照该更新后的参数值运行设备。 | ||
| 搜索关键词： | 设备管理 系统 方法 半导体 曝光 设备 及其 管理 半导体器件 制造 | ||
【主权项】：
1、一种管理设备的系统，包括：设定用于运行上述设备参数值的设定装置；按照由上述设定装置设定的第1参数值，运行上述设备的运行装置；检查上述设备运行结果的检查装置；从表示按照由上述检查求出的第1参数值的运行结果的第1评价量和表示按照与不进行上述检查求出的第1参数值不同的第2参数值的运行结果的第2评价量中决定参数值的决定装置，在这里，上述设定装置把上述参数值，作为由上述决定装置决定的参数值，上述运行装置，按照由上述决定装置决定的参数值，运行上述设备。
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