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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]辐射源和光刻设备-CN201280042339.7有效
发明人： H·斯希梅尔;J·迪吉克斯曼;D·兰贝特斯基 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-07-31 - 公布日： 2014-04-30 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：提供用于促进通过用于光刻设备中的辐射源液滴束流生成装置生成的束流中的燃料液滴的聚结的方法和设备。描述了多个示例，其中调制电压源被应用于发射器，使得液滴的电特性可以被控制。这导致束流中的液滴的加速和减速，引起它们合并和促进聚结。
辐射源光刻设备

[发明专利]辐射源和光刻设备-CN201310166910.2有效
发明人： A·亚库宁;V·班尼恩;V·伊万诺夫;E·鲁普斯特拉;V·克里夫特苏恩;G·斯温克尔斯;D·兰贝特斯基 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-07-21 - 公布日： 2013-08-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种辐射源及光刻设备。所述辐射源配置成生成极紫外辐射。所述辐射源包括等离子体形成部位，所述等离子体形成部位位于燃料将通过与辐射束接触而形成等离子体所在的位置；出口，所述出口配置成允许气体出离辐射源；和污染物阱，所述污染物阱至少部分地设置在辐射源的壁上。所述污染物阱配置成俘获由生成等离子体所产生的碎片粒子。
辐射源光刻设备

[发明专利]辐射源-CN201210347809.2有效
发明人： H·G·希梅尔;J·F·迪克斯曼;D·兰贝特斯基 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2012-09-18 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种辐射源，包括贮存器、喷嘴、激光器以及正透镜。贮存器配置成保持一体积的燃料。喷嘴与贮存器流体连接并配置成沿着朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料流。激光器配置成将激光辐射引导到在等离子体形成位置处的所述流上，以在使用中产生用于产生辐射的等离子体。正透镜布置配置成朝向等离子体形成位置聚焦燃料流的轨迹的至少潜在的展度范围，透镜包括电场生成元件和/或磁场生成元件。
辐射源

[发明专利]收集器反射镜组件以及用于产生极紫外辐射的方法-CN201180019319.3有效
发明人： D·兰贝特斯基;E·鲁普斯特拉;A·凯姆鹏 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-03-18 - 公布日： 2013-01-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种收集器反射镜组件(302)包括：包括反射表面(304)的收集器反射镜(co’)和具有边缘(308)的孔(306)。所述孔延伸通过反射表面。所述组件还包括管状主体(310)，所述管状主体(310)具有内表面(312)和外表面(314)。所述管状主体构造和布置成沿着大致横向于反射表面的方向引导气流(GF)。所述管状主体的外表面和孔的边缘形成开口(316)，所述开口布置成引导另外的气流(GF’)，所述另外的气流与大致横向于反射表面的气流分开。
收集反射组件以及用于产生紫外辐射方法

[发明专利]辐射源、光刻设备以及器件制造方法-CN201180012640.9无效
发明人： D·兰贝特斯基;V·班尼恩;E·鲁普斯特拉;A·亚库宁 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-01-31 - 公布日： 2012-11-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于产生极紫外辐射束用于光刻设备的辐射源具有碎片抑制装置，碎片抑制装置包括布置在辐射束的中间焦点(IF)处或其附近的喷嘴。喷嘴用作朝向辐射源或收集器光学元件引导气流(330)，以便偏转由辐射源发射的微粒碎片(43)。
辐射源光刻设备以及器件制造方法

[发明专利]源收集器设备、光刻设备以及器件制造方法-CN201080042458.3有效
发明人： E·鲁普斯特拉;V·班尼恩;G·斯温克尔斯;S·皮克尔德;D·兰贝特斯基;U·斯坦姆;W·N·帕特劳 -专利权人： ASML荷兰有限公司;赛默股份公司
申请日： 2010-09-24 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种EUV光刻设备(100)，包括：源收集器设备(SO)，其中通过激发燃料以提供发射辐射的等离子体(210)来产生极紫外辐射。所述源收集器设备(SO)包括腔(310)，所述腔(310)与腔外部的引导通路(320)流体连通。用于循环缓冲气体的泵(BPS)是引导通路(320)的一部分，并提供闭合回路缓冲气体流(222)。流动通过引导通路(320)的气体穿过气体分解器(TD1)，其中燃料材料和缓冲气体材料的化合物被分解，使得分解的缓冲气体材料可以被供给回至闭合回路流动路径(222)中。
收集设备光刻以及器件制造方法

[发明专利]辐射源和光刻设备-CN200980134710.0有效
发明人： A·亚库宁;V·班尼恩;V·伊万诺夫;E·鲁普斯特拉;V·克里夫特苏恩;G·斯温克尔斯;D·兰贝特斯基 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-07-21 - 公布日： 2011-08-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种辐射源(SO)配置成生成极紫外辐射。所述辐射源(SO)包括等离子体形成部位(2)，所述等离子体形成部位位于燃料将通过与辐射束(5)接触而形成等离子体所在的位置；出口(16)，所述出口配置成允许气体出离辐射源(SO)；和污染物阱(23)，所述污染物阱至少部分地位于所述出口(16)内部。所述污染物阱(23)配置成俘获由生成等离子体所产生的碎片粒子。
辐射源光刻设备

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