专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]磁感应器设备和方法-CN202211002826.2在审
  • 宁鑫;B·C·马林;K·O·李;S·K·阿卢尔;N·艾哈迈德;B·威廉姆斯;M·斯图尔特;N·欧;C·库里亚沙 - 英特尔公司
  • 2022-08-19 - 2023-03-24 - H01L23/64
  • 显示了衬底中的传输路径和相关联的方法。示例传输路径包括:具有芯的半导体衬底、固定在芯上的电介质层、延伸穿过电介质层和芯中的至少一个的至少一个第一电传输路径。第一路径包括:设置在至少一个第一电传输路径的至少芯内的磁性材料、延伸穿过磁性材料的至少一个第二电传输路径、设置在至少第二电传输路径内的磁性材料的内圆周表面上的镍层、设置在第二电传输路径内的至少镍层上的铜层。电介质间隔体或镍层将铜层与磁性材料分离。至少一个第三路径延伸穿过电介质层和芯中的至少一个,至少一个第三路径与至少一个电传输路径分离。
  • 感应器设备方法
  • [发明专利]用于多个层之上的对准过孔的技术-CN202210546872.2在审
  • 刘昌华;L·R·阿拉纳;J·D·埃克顿;S·纳德;B·C·马林 - 英特尔公司
  • 2022-05-18 - 2022-12-20 - H01L21/768
  • 公开了用于低错位或零错位过孔的技术。在一个实施例中,向衬底施加高光敏度层、中等光敏度层和低光敏度层,并且同时利用多色调掩模对这些层曝光。在受到显影之后,一个层形成了用于第一过孔的模制物,一个层形成了用于导电迹线和第二过孔的模制物,并且一个层形成了在第二过孔的位置之上伸出物。利用铜填充由这些光敏层形成的模制物,并且然后对其进行蚀刻。伸出物防止位于伸出物区域下方的铜填充物的顶部受到蚀刻。照此,位于伸出物之下的区域在蚀刻之后形成了可以被用作过孔的支柱或立柱。还公开了其他实施例。
  • 用于多个层之上对准技术

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