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[发明专利]等离子体切割用掩模材料、掩模一体型表面保护带和半导体芯片的制造方法-CN201880003768.0有效
发明人：西川拓弥;阿久津晃 -专利权人：古河电气工业株式会社
申请日： 2018-10-15 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： H01L21/301 文献下载
摘要：一种等离子体切割用掩模材料，其为用于等离子体工序的掩模材料，上述掩模材料的不与被粘接体接触的面侧的表面粗糙度Rz为0.1μm～1.5μm；掩模一体型表面保护带和半导体芯片的制造方法。
等离子体切割用掩模材料掩模一体型表面保护半导体芯片制造方法

[发明专利]半导体芯片的制造方法-CN201880005022.3有效
发明人：内山具朗;阿久津晃;横井启时 -专利权人：古河电气工业株式会社
申请日： 2018-11-06 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： H01L21/301 文献下载
摘要：通过从表面(S)侧照射SF6气体等离子体，对在切割道部分露出的半导体晶片(1)进行蚀刻，分割成各个半导体芯片而进行单片化。接着，从表面(S)侧供给除去剂(16)。此时，优选使分割成芯片的半导体晶片(1)高速旋转。通过以上，利用除去剂(16)将残留在表面(S)上的掩模材料层(3b)去除。需要说明的是，作为除去剂(16)，优选为有机溶剂，特别优选为甲基乙基酮、乙醇或乙酸乙酯、或者它们的组合。
半导体芯片制造方法

[发明专利]半导体晶片加工用紫外线固化型胶带和半导体芯片的制造方法以及该带的使用方法-CN202080001315.1有效
发明人：五岛裕介;阿久津晃;西川拓弥 -专利权人：古河电气工业株式会社
申请日： 2020-01-24 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： C09J11/06 文献下载
摘要：一种半导体晶片加工用紫外线固化型胶带和半导体芯片的制造方法以及带的使用方法，该半导体晶片加工用紫外线固化型胶带至少具有基材膜和设置于该基材膜上的紫外线固化型的粘着剂层，其特征在于，在使用特定光源灯的紫外线照射的前后，通过基于JIS Z 0237的对SUS304的90°剥离试验方法所测定的上述胶带的粘着力的值之比在一定范围内。
半导体晶片工用紫外线固化胶带芯片制造方法以及使用方法

[发明专利]半导体芯片的制造方法、表面保护带-CN201980001937.1在审
发明人：三上一辉;内山具朗;阿久津晃 -专利权人：古河电气工业株式会社
申请日： 2019-01-09 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： H01L21/301 文献下载
摘要：在半导体晶片(1)的磨削后，使半导体晶片(1)的表面(S)侧与静电夹头(9)相向，将半导体晶片(1)固定于静电夹头(9)。接着，在贴合有表面保护带(3)的状态下，在经磨削的半导体晶片(1)的背面(B)形成掩模材料层。接着，从背面(B)侧，对与在图案面(2)适宜形成为格子状等的多个切割道相当的部分照射激光，切断掩模带(11)，将半导体晶片(1)的切割道开口。接着，从背面(B)侧照射SF₆等离子体，对在切割道部分露出的半导体晶片(1)进行蚀刻。接着，利用O₂等离子体(19)进行灰化。
半导体晶片切割道等离子体背面静电夹头磨削照射蚀刻掩模材料层表面保护格子状图案面掩模带灰化贴合相向激光开口

[发明专利]掩模一体型表面保护带和使用其的半导体芯片的制造方法-CN201880002974.X在审
发明人： 阿久津晃;内山具朗 -专利权人：古河电气工业株式会社
申请日： 2018-02-22 - 公布日： 2019-04-30 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：[课题]提供一种掩模一体型表面保护带和半导体芯片的制造方法，该掩模一体型表面保护带在使用等离子体切割方式的半导体芯片的制造中，不需要利用光刻工艺形成掩模，在半导体芯片制造的各工序中显示出优异的性能，操作性、作业性也优异。[解决手段]一种掩模一体型表面保护带和半导体芯片的制造方法，该掩模一体型表面保护带至少具有基材膜和掩模材料层，该掩模一体型表面保护带的特征在于，上述掩模材料层与基材膜相接触地设置、或使粘合剂层介于掩模材料层与基材膜之间而设置，上述掩模材料层在355nm的波长区域中的平行光线透射率为30％以下。
掩模表面保护一体型半导体芯片掩模材料层基材膜制造半导体芯片制造平行光线透射率等离子体切割波长区域光刻工艺粘合剂层作业性

[发明专利]晶片加工用带-CN201780007128.2在审
发明人：大田乡史;阿久津晃 -专利权人：古河电气工业株式会社
申请日： 2017-02-23 - 公布日： 2018-09-14 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：提供一种晶片加工用带，在将进行了预切割加工的晶片加工用带以辊的状态存放时，能抑制标签部与晶片加工用带的背面的粘连，且能良好地从辊的状态将标签部抽出。上述晶片加工用带的特征在于，具有：长条的脱模膜(11)；粘合膜(12)，其具有标签部(12a)和包围标签部(12a)的外侧的周边部(12b)，标签部(12a)设置在脱模膜(11)的第1面(11a)上，且具有与环框(R)对应的规定形状；以及支承部件(13)，其设置在脱模膜(11)的短边方向的两端部，且设置在脱模膜(11)的与设置有粘合膜(12)的第1面(11a)相反的第2面(11b)上，粘合膜(12)的与脱模膜(11)不接触的一侧的算术表面粗糙度Ra为0.3μm以下，支承部件(13)的厚度为30～150μm。
标签部脱模膜晶片加工用带粘合膜支承部件算术表面粗糙度不接触两端部片加工预切割周边部粘连短边环框种晶抽出包围加工

[外观设计]半导体加工胶带-CN201630451980.7有效
发明人：大田乡史;阿久津晃 -专利权人：古河电气工业株式会社
申请日： 2016-08-31 - 公布日： 2017-06-13 - 主分类号： 19-02 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称半导体加工胶带。2．本外观设计产品的用途本外观设计产品用于使用在半导体晶片切割程序中。3．本外观设计产品的设计要点本外观设计产品的形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片设计1主视图。5．各设计左视图与右视图相对称，故省略各设计左视图。各设计仰视图与俯视图相对称，故省略各设计仰视图。设计2和3后视图与主视图相对称，故省略设计2和3的后视图。6．指定基本设计设计1。7．各设计中的离型膜、切片胶带和周边胶带是透明的。设计1支撑胶带具有透光性。设计2支撑胶带是白色透明。设计3支撑胶带为透明。8．本外观设计产品不定长，在主视图中向左右两方连续。9．请求保护的外观设计2包含色彩。
半导体加工胶带

[发明专利]切割胶带-CN201380054399.5有效
发明人：佐野透;矢吹朗;玉川有理;大田乡史;阿久津晃;松原侑弘 -专利权人：古河电气工业株式会社
申请日： 2013-10-15 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： H01L21/301 文献下载
摘要：本发明提供一种切割胶带，其在切割工序后的拾取工序中，不会使薄型的半导体芯片产生芯片破裂，且可在短时间内效率良好地拾取。本发明的切割胶带(1)的粘合剂层，相对于选自丙烯酸聚合物、乙酸乙烯酯聚合物及具有碳-碳双键的丙烯酸系聚合物中的1种或2种以上的聚合物100质量份，含0.5～30质量份的邻苯二甲酸酯类，且剥离力在放射线固化前为0.5N/25mm以上，放射线固化后为0.05～0.4N/25mm，在将放射线固化后的在剥离速度50mm/min下的剥离力设为(i)、且将1000mm/min下的剥离力设为(ii)时，(ii)/(i)为1以下。
切割胶带

[发明专利]半导体加工用划片胶带-CN201280028334.9有效
发明人： 阿久津晃 -专利权人：古河电气工业株式会社
申请日： 2012-10-22 - 公布日： 2014-03-05 - 主分类号： H01L21/301 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种半导体加工用划片胶带，其在将半导体晶片进行划片处理的工序中具有充分保持晶片的粘合力，且在封装体划片后，不会发生被单片化的封装体贴合至托盘或装置等。本发明提供一种半导体加工用划片胶带，其特征在于，在基材薄膜的至少一面，形成有放射线固化型粘合剂层；上述粘合剂层由含有丙烯酸系聚合物作为基础聚合物的树脂组合物构成；上述粘合剂层的厚度为10～30μm；上述粘合剂层在进行90°剥离试验时相对于根据JISZ0237的SUS304的放射线照射后的粘合力为1.0～2.0N/25mm胶带宽度；并且上述粘合剂层在大气气氛条件下放射线照射后的探头粘着性峰强度为50～150mN/mm2。
半导体工用划片胶带

[发明专利]旋转电机的转子-CN201210040386.X无效
发明人： 阿久津晃;丰田荣治 -专利权人：日立空调·家用电器株式会社
申请日： 2012-02-20 - 公布日： 2012-10-24 - 主分类号： H02K1/27 文献下载
摘要：本发明以提供易于装配、磁特性良好的旋转电机的转子为目的。本发明的旋转电机的转子具备层叠钢板而成的旋转铁心和设置于旋转铁心的永久磁铁，具有：设置于旋转铁心的、从外周向内侧凹入的、用于安装永久磁铁的磁铁安装凹槽；以及从外周侧支撑存在于磁铁安装凹槽的上述永久磁铁的磁铁支撑部件，磁铁支撑部件通过永久磁铁与上述旋转铁心分离。其特征在于，采用由固定铁心板从两端侧夹住分离开的磁铁支撑部件和旋转铁心而夹持的结构。
旋转电机转子

[发明专利]洗涤干燥机的风扇驱动用永磁体式旋转电机-CN200810166387.2无效
发明人： 阿久津晃;饭塚政二;小原木春雄;丰田荣治 -专利权人：日立空调·家用电器株式会社
申请日： 2008-09-26 - 公布日： 2009-04-08 - 主分类号： H02K1/27 文献下载
摘要：本发明涉及洗涤干燥机的风扇驱动用永磁体式旋转电机，该洗涤干燥机的风扇驱动用永磁体式旋转电机从低速对应到高速旋转尤其是能够抑制轻负载时的温度上升。形成于定子铁心上的多个槽内具有实施了电枢绕组的定子，在形成于转子铁心上的多个永磁体插入孔中容纳有永磁体的转子通过规定的间隙旋转自如地被支撑在定子的内周上，在转子铁心的永磁体之间的外周面上形成切面，在将位于永磁体上部的转子磁极的开度设为θ1、将齿宽的开度设为θ2、将槽的槽间距设为θ3时，构成为满足θ2≤θ1≤θ3的条件，并且使(θ2/θ3)之比为55％以上，在将位于齿内周侧并在圆周方向延长的磁极片的开度设为θ4时，使(θ2/θ4)之比为64％以上。
洗涤干燥机风扇驱动永磁体式旋转电机

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