专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]溅射装置-CN201910547442.0有效
  • 武井纯一;曾根浩;铃木直行;居本伸二 - 东京毅力科创株式会社
  • 2019-06-24 - 2022-01-07 - C23C14/34
  • 本发明提供一种能够容易地改变开口部的形状的技术。本发明的一个方式的溅射装置包括:收纳基片的处理容器;和缝隙板,其将上述处理容器内划分为设置靶材的第一空间和设置上述基片的第二空间,上述缝隙板包括:内侧部件,其具有在板厚方向将该缝隙板贯通的开口部;和设置在上述内侧部件的周围的外侧部件,上述内侧部件相对于上述外侧部件是可拆装的。
  • 溅射装置
  • [发明专利]载置台装置和处理装置-CN201911012343.9在审
  • 中川西学;铃木直行;居本伸二;横原宏行;山形基;前田幸治 - 东京毅力科创株式会社
  • 2019-10-23 - 2020-05-05 - C23C14/50
  • 本发明提供一种能够在将所载置的基板冷却成极低温的状态下使该基板旋转且冷却性能较高的载置台装置和处理装置。载置台装置具备:载置台,其在真空容器内保持被处理基板;冷冻传导体,其以与载置台隔着间隙的方式固定配置于载置台的背面侧,被冷冻机冷却成极低温;冷却流体,其向间隙供给,用于将冷冻传导体的冷能向载置台传导;载置台支承部,其将载置台支承成能够旋转,呈覆盖冷冻传导体的上部的圆筒状,并且具有真空绝热构造;以及旋转部,其支承载置台支承部,在被磁性流体密封着的状态下被驱动机构驱动而旋转。
  • 载置台装置处理
  • [发明专利]载置台装置和处理装置-CN201911013080.3在审
  • 中川西学;铃木直行;居本伸二 - 东京毅力科创株式会社
  • 2019-10-23 - 2020-05-05 - H01L21/67
  • 本发明提供一种能够在将所载置的基板冷却成极低温的状态下使该基板旋转且冷却性能较高的载置台装置和处理装置。载置台装置具备:载置台,其在真空容器内保持被处理基板;冷冻机,其具有被保持在极低温的冷头部;冷冻传导体,其以与冷头部接触了的状态固定配置,与载置台隔着间隙地设置到载置台的背面侧;绝热构造部,其以覆盖至少冷头部和冷冻传导体的与冷头部之间的连接部的方式设置,具有真空绝热构造;冷却流体,其向间隙供给,用于将冷冻传导体的冷能向所述载置台传导;以及载置台支承部,其被驱动机构驱动而旋转,将所述载置台支承成能够旋转。
  • 载置台装置处理
  • [发明专利]制动器驱动控制装置-CN201310552048.9有效
  • 松本康之;铃木直行 - 发那科株式会社
  • 2013-11-07 - 2014-05-21 - B25J9/10
  • 本发明提供一种可以将制动器的状态迅速从释放状态变更为止动状态的制动器驱动控制装置。二极管(23)具有与制动器线圈(7a、7a’)的另一端连接的阳极以及与滤波电容器(3)的一端连接的阴极。二极管(24)具有与滤波电容器(3)的另一端连接的阳极以及与制动器线圈(7a、7a’)的一端连接的阴极。通过设置二极管(23、24),NPN型晶体管(21)和NPN型晶体管(22)中的至少一方为导通状态时积蓄在制动器线圈(7a、7a’)中的能量,当NPN型晶体管(21、22)为截止时被回馈给滤波用电容器(3)。
  • 制动器驱动控制装置
  • [发明专利]基板热处理设备-CN201080070887.1有效
  • 冈田拓士;中泽俊和;铃木直行 - 佳能安内华股份有限公司
  • 2010-12-21 - 2013-08-28 - H01L21/26
  • 本发明提供了如下基板热处理设备:该基板热处理设备能够在减少由于高温时的热膨胀引起的组成构件的破损的情况下高速、均匀地加热基板。本发明的一个实施方式为对基板进行热处理的基板热处理设备,并且包括:能够支撑基板的外周环(4);连接环(6);升降外周环(4)的升降装置(20);导热率小于外周环(4)的导热率的球(12);以及加热由外周环(4)支撑的基板的灯(11)。球(12)是不同于外周环(4)和连接环(6)两者的构件。升降装置(20)使外周环(4)在靠近灯(11)的第一位置和远离灯(11)的第二位置之间升降。
  • 热处理设备

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