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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]载置台和基板处理装置-CN202111482379.0在审
发明人：相川胜芳;曽根浩;居本伸二 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-12-07 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种提高维护性的载置台和基板处理装置。载置台包括：电介质板，其在外周部形成有贯通孔，该电介质板具有用于载置基板的基板载置部；支承构件；第1绝热构件，其配置于所述电介质板与所述支承构件之间；第1施力构件，其配置于所述第1绝热构件与所述支承构件之间；以及紧固构件，其贯穿所述电介质板的贯通孔、所述第1绝热构件、所述第1施力构件，而将所述电介质板以能够装卸的方式固定于所述支承构件。
载置台处理装置

[发明专利]溅射装置-CN201910547442.0有效
发明人：武井纯一;曾根浩;铃木直行;居本伸二 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-06-24 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种能够容易地改变开口部的形状的技术。本发明的一个方式的溅射装置包括：收纳基片的处理容器；和缝隙板，其将上述处理容器内划分为设置靶材的第一空间和设置上述基片的第二空间，上述缝隙板包括：内侧部件，其具有在板厚方向将该缝隙板贯通的开口部；和设置在上述内侧部件的周围的外侧部件，上述内侧部件相对于上述外侧部件是可拆装的。
溅射装置

[发明专利]基片处理装置和基片处理方法-CN202110205233.5在审
发明人：中川西学;前田幸治;居本伸二;山形基 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-02-24 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明提供能够高效地进行构成基片处理装置的载置台与制冷装置之间的热交换的、基片处理装置和基片处理方法。基片处理装置包括：处理容器，其在内部具有载置基片的载置台和保持靶材的靶材保持件；制冷装置，以在其与上述载置台的下表面之间具有间隙的方式配置，具有制冷机和与上述制冷机层叠的制冷载热体；使上述载置台旋转的旋转装置；使上述载置台升降的第一升降装置；致冷剂流路，其设置在上述制冷装置的内部，对上述间隙供给致冷剂；和冷量传递材料，其配置在上述间隙，与上述载置台和上述制冷载热体这两者可热传导地接触。
处理装置方法

[发明专利]温度测定机构、温度测定方法以及载物台装置-CN202010165216.9在审
发明人：中川西学;铃木直行;居本伸二;横原宏行 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-03-11 - 公布日： 2020-09-25 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够以高精度稳定地测定旋转的载物台的温度的温度测定机构、温度测定方法以及载物台装置。一种温度测定机构，其用于测定载物台的温度，该载物台载置被处理基板，并设置成能够旋转，该温度测定机构具有：温度检测用接触部，其设置于载物台的不成为被处理基板的载置的障碍的位置；和温度检测部，其具有温度传感器，在温度测定时以外设置于与所述温度检测用接触部分离开的位置，在测定载物台的温度之际，在载物台未旋转的状态下，使温度检测用接触部与温度检测部接触。
温度测定机构方法以及载物台装置

[发明专利]载置台装置和处理装置-CN201911012343.9在审
发明人：中川西学;铃木直行;居本伸二;横原宏行;山形基;前田幸治 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-10-23 - 公布日： 2020-05-05 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本发明提供一种能够在将所载置的基板冷却成极低温的状态下使该基板旋转且冷却性能较高的载置台装置和处理装置。载置台装置具备：载置台，其在真空容器内保持被处理基板；冷冻传导体，其以与载置台隔着间隙的方式固定配置于载置台的背面侧，被冷冻机冷却成极低温；冷却流体，其向间隙供给，用于将冷冻传导体的冷能向载置台传导；载置台支承部，其将载置台支承成能够旋转，呈覆盖冷冻传导体的上部的圆筒状，并且具有真空绝热构造；以及旋转部，其支承载置台支承部，在被磁性流体密封着的状态下被驱动机构驱动而旋转。
载置台装置处理

[发明专利]载置台装置和处理装置-CN201911013080.3在审
发明人：中川西学;铃木直行;居本伸二 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-10-23 - 公布日： 2020-05-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够在将所载置的基板冷却成极低温的状态下使该基板旋转且冷却性能较高的载置台装置和处理装置。载置台装置具备：载置台，其在真空容器内保持被处理基板；冷冻机，其具有被保持在极低温的冷头部；冷冻传导体，其以与冷头部接触了的状态固定配置，与载置台隔着间隙地设置到载置台的背面侧；绝热构造部，其以覆盖至少冷头部和冷冻传导体的与冷头部之间的连接部的方式设置，具有真空绝热构造；冷却流体，其向间隙供给，用于将冷冻传导体的冷能向所述载置台传导；以及载置台支承部，其被驱动机构驱动而旋转，将所述载置台支承成能够旋转。
载置台装置处理

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