专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]肢体运动仿生结构和包括肢体运动仿生结构的仿生机器鼠-CN201710429026.1有效
  • 王子荣;乔红;宋永博 - 中国科学院自动化研究所
  • 2017-06-08 - 2023-09-12 - B62D57/032
  • 本发明涉及仿生结构技术领域,具体涉及一种肢体运动仿生结构和包括肢体运动仿生结构的仿生机器鼠。本发明旨在解决现有技术中肢体运动仿生结构的紧凑性以及形状与动物肢体形状一致性的问题。为此目的,本发明的肢体运动仿生结构包括机架、连接在机架上的第一肢体、与第一肢体连接的第二肢体以及连接到第一肢体和第二肢体的驱动装置,该肢体运动仿生结构还包括连接杆,连接杆分别与第二肢体和驱动装置枢转连接。通过本发明的技术方案,提高了肢体运动仿生结构的灵巧性、功能完善性、结构紧凑性,从而提高了肢体运动仿生结构和真实肢体结构的一致性,有助于生物学家、神经科学家以及脑研究者对肢体的研究,实现对肢体行为的有效控制。
  • 肢体运动仿生结构包括机器
  • [发明专利]一种晶片承载装置及刻蚀设备-CN202010031142.X有效
  • 王子荣;陆前军;陈术文 - 广东中图半导体科技股份有限公司
  • 2020-01-13 - 2023-08-25 - H01L21/687
  • 本发明属于半导体制造相关领域,公开了一种晶片承载装置及刻蚀设备,其中晶片承载装置包括放置有晶片的托盘,以及置于所述托盘上且压紧所述晶片的盖板,所述托盘和所述盖板之间绝缘设置并形成电容。本发明通过托盘和盖板之间绝缘设置并形成电容,能够弱化射频系统在盖板上形成的鞘层的强度和厚度,进而减小在晶片边缘产生的向盖板方向偏转的附加电场力,减弱带电粒子在刻蚀过程中的偏转,控制刻蚀过程中图形的畸变,有效改善晶片边缘的刻蚀均一性,降低甚至完全消除边缘图形畸变。
  • 一种晶片承载装置刻蚀设备
  • [实用新型]一种多功能高分子蓄冷降温服-CN202320708663.3有效
  • 卢孟爽;段然;吴涛;刘景春;王春龙;林道庞;王子荣;晋明 - 国家移民管理局出入境管理信息技术研究所
  • 2023-04-03 - 2023-08-22 - A41D13/005
  • 本实用新型公开了一种多功能高分子蓄冷降温服,从外向内分别由外层降温服、中间防刺层、高分子蓄冷层组成。本实用新型选用相变潜热较大的高分子聚合物蓄冷材料,通过缝合的方式将多单元相变蓄冷材料用特殊透气布料缝合成高分子蓄冷条,并将多个蓄冷条组成高分子蓄冷层,高分子蓄冷条浸水之后可以伸缩、弯曲、扭转,增大蓄冷量的同时也增强了使用者穿戴后的灵活性,可以快速、有效的为穿戴者降低体表热量。中间防刺层在降温服前部左右两侧及背部分别放置一块防刺板,能阻挡锐器、利器从穿戴者前后两个方向的攻击,对人体起到防护作用,实现降温服的防刺功能。同时该降温服采用拉链式一体化结构设计,优化肩部负重受力结构,穿戴快速、方便、舒适。
  • 一种多功能高分子降温
  • [实用新型]极板涂胶机-CN202223604927.5有效
  • 王子荣;阎皓;胡玉涛;何康 - 北京天山新材料技术有限公司;富乐(苏州)新材料有限公司
  • 2022-12-31 - 2023-08-04 - B05C3/20
  • 本实用新型提供了一种极板涂胶机,包括:机架;融胶槽,设置在机架上,融胶槽在其长度方向上具有第一端和第二端,融胶槽的第一端的端壁上设置有沿融胶槽的高度方向延伸的第一卡槽,第一卡槽用以容纳极板;加热装置,设置在融胶槽的下方并对融胶槽进行加热;多个导热结构,设置在融胶槽内并在融胶槽的宽度方向上间隔设置,相邻的两个导热结构之间的间隔形成容纳极板的容纳空间。应用本实用新型的技术方案能够有效地解决相关技术中的极板的涂胶工艺复杂的问题。
  • 极板涂胶
  • [发明专利]一种内凹结构的图形化衬底、制备方法及LED外延片-CN202310395421.8在审
  • 张鹏辉;康凯;张剑桥;王子荣;王农华 - 广东中图半导体科技股份有限公司
  • 2023-04-12 - 2023-06-23 - H01L33/00
  • 本发明实施例公开了一种内凹结构的图形化衬底、制备方法及LED外延片,该内凹结构的图形化衬底的制备方法包括:提供基底,在基底的表面上形成光刻胶层,并通过图形转移技术使光刻胶层形成光刻胶胶柱掩膜,其中,光刻胶胶柱掩膜远离基底的表面凹陷;根据光刻胶胶柱掩膜,对基底进行图形化,形成多个凸起微结构,其中,多个凸起微结构均位于基底一侧表面上,多个凸起微结构远离基底的表面凹陷,形成凹陷区域。利用上述方法,能够制备出周期性的内凹结构的图形化衬底,其中的多个凸起微结构远离基底的表面凹陷,在该内凹结构的图形化衬底中可以有效改善光线的传播路径,增加了光线的折射和反射次数,提高了LED芯片的光出射效率,提升了LED芯片的亮度。
  • 一种结构图形衬底制备方法led外延
  • [实用新型]一种抗旱抗寒性植物栽培箱-CN202222571765.3有效
  • 辛美艳;田泽;王子荣;刘彬;郭恺燕 - 包钢绿化有限责任公司
  • 2022-09-27 - 2023-06-09 - A01G9/02
  • 本实用新型公开了一种抗旱抗寒性植物栽培箱,包括主体组件,所述主体组件包括两个收集盒、卡扣、滤网、单向阀、导流管、两个集水罩、纤维吸水条、纤维网、栽培箱体和通槽;所述栽培箱体的两侧均为弧形。本实用新型的抗旱抗寒植物栽培箱体两侧设置为弧形,可以减小栽培箱体内土壤的水分蒸发,收集盒内可以直接加入水源同时可以收集外界的雨水,节约了水源,通过纤维吸水条吸收集水罩内的水分并传输至栽培箱体内的土壤中,可以保持土壤的湿度,增加抗旱抗寒绿植的成活率,抗旱抗寒绿植的根系可以通过纤维网和通槽延伸至栽培箱体的外部,进而可以使抗旱抗寒绿植完全适应矿区及周边的贫瘠土地,以改善该地区的土壤。
  • 一种抗旱抗寒性植物栽培
  • [发明专利]基于复合材料膜层的图形化衬底、制备方法及LED外延片-CN202310175665.5在审
  • 曾广艺;王子荣;卢建航 - 广东中图半导体科技股份有限公司
  • 2023-02-27 - 2023-05-30 - H01L33/00
  • 本发明实施例公开了一种基于复合材料膜层的图形化衬底、制备方法及LED外延片,该基于复合材料膜层的图形化衬底的制备方法包括:提供一平片蓝宝石衬底;通过第一等离子体增强化学气相沉积工艺,在平片蓝宝石衬底上形成第一无机氧化物层;通过第二等离子体增强化学气相沉积工艺,在第一无机氧化物层上形成第二无机氧化物层,其中,第二无机氧化物层的氧含量小于第一无机氧化物层的氧含量。利用上述方法,有助于提高第二无机氧化物层对于光刻胶的粘附性,以提升光刻胶膜层的匀胶良率,减少膜层的表面改性增粘处理的步骤,降低匀胶过程中受时限性的限制,避免图形化衬底的脱胶缺陷,提高图形化衬底的制备效率,降低图形化衬底的生产成本。
  • 基于复合材料图形衬底制备方法led外延
  • [实用新型]一体化内窥镜-CN202222891588.7有效
  • 王应侠;刘发阳;梁诗媚;王子荣 - 珠海明象医用科技有限公司
  • 2022-10-31 - 2023-05-30 - A61B1/005
  • 本实用新型公开了一种一体化内窥镜,包括:操作手柄,一端设置有安装柱,安装柱上设置有第一电触头;镜管,连接在操作手柄的另一端,镜管电连接第一电触头,镜管用于摄像;显示组件,包括显示器和安装壳,显示器设置在安装壳中,安装壳上设置有插筒,插筒中设置有第二电触头,显示器电连接第二电触头,插筒密封连接安装柱,第一电触头抵接第二电触头。显示器通过安装壳与操作手柄密封连接,既保证了显示器与操作手柄的一体化,又能够避免操作手柄上的第二电触头在清洗时的氧化腐蚀,一体化的内窥镜方便使用,直接观察;第二电触头不会被氧化腐蚀使得内窥镜使用的稳定性增强,不会出现接触不良而导致显示器不显示图像的问题。
  • 一体化内窥镜
  • [实用新型]一种可监测弯曲角度的内窥镜-CN202222348629.8有效
  • 梁诗媚;刘发阳;陈述;王子荣;陈怀刚 - 珠海明象医用科技有限公司
  • 2022-09-02 - 2023-05-26 - A61B1/005
  • 本实用新型公开了一种可监测弯曲角度的内窥镜,包括:手柄;角度轮毂,可转动地设置在手柄内;角度旋钮,可转动地设置在手柄上,角度旋钮连接角度轮毂,角度旋钮可驱动角度轮毂转动;角度传感器,设置在手柄内,角度传感器上的转动轴连接角度旋钮;显示器,设置在手柄上,显示器电连接角度传感器,显示器用于显示角度;镜管,一端连接手柄,镜管的另一端设置有弯曲部;角度钢丝,绕制在角度轮毂上,角度钢丝的一端连接弯曲部的一侧,角度钢丝的另一端连接弯曲部的另一侧,角度旋钮在拧转的时候,角度传感器也在监测拧转角度,从而监测到的弯曲角度,显示器可以显示角度传感器所监测到的弯曲角度,方便操作者直接观察。
  • 一种监测弯曲角度内窥镜
  • [发明专利]一种外延片、制备方法及发光二极管-CN202310352331.0在审
  • 向炯;王子荣;卢建航;张锦宏;王农华 - 广东中图半导体科技股份有限公司
  • 2023-04-03 - 2023-05-16 - H01L33/16
  • 本发明公开了一种外延片、制备方法及发光二极管。外延片包括:衬底,衬底一侧设置有多个凸起结构,凸起结构呈周期排布,相邻凸起结构之间形成凹坑结构,相邻凹坑结构相连;第一缓冲层,位于靠近凹坑结构一侧;无掺杂GaN层,位于第一缓冲层远离衬底一侧;无掺杂GaN层内存在至少一种凹形微结构,同一种凹形微结构呈周期排布;沿垂直于衬底的方向,至少部分凹形微结构与凸起结构至少部分交叠;位于无掺杂GaN层远离衬底一侧依次设置的N型GaN层、多量子阱有源层、第二缓冲层和P型GaN层。通过在无掺杂GaN层中引入凹形微结构,降低后续生长GaN层中的位错密度和应力释放,改善晶体质量,提高出光效率。
  • 一种外延制备方法发光二极管
  • [发明专利]一种图形化蓝宝石衬底、制备方法和LED外延片-CN202211462501.2在审
  • 王子荣;康凯;陆前军;向炯 - 广东中图半导体科技股份有限公司
  • 2022-11-21 - 2023-05-09 - H01L33/00
  • 本发明公开了一种图形化蓝宝石衬底、制备方法和LED外延片。该图形化蓝宝石衬底的制备方法包括:在蓝宝石基晶片表面进行光刻胶掩膜制备;通过第一等离子源对所述蓝宝石基晶片进行刻蚀以形成第一图形化区域,并在刻蚀过程中生成刻蚀产物,以及同时通过第二等离子源与所述刻蚀产物反应生成二次掩膜,以使所述二次掩膜沉积在被刻蚀表面,其中,所述第一图形化区域侧面的沉积效果大于底部沉积效果,刻蚀效果大于所述二次掩膜沉积效果;通过第一等离子体源对所述第一图形化区域进行图形修饰刻蚀,以得到蓝宝石基三维图形。通过采用上述方案,解决了现有的图形化蓝宝石衬底的制备方法存在横向刻蚀控制能力不足、整体刻蚀时间过长的问题。
  • 一种图形蓝宝石衬底制备方法led外延

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