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- [发明专利]带有机功能膜的基板的制造方法-CN202180059938.9在审
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牧岛知佳
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日产化学株式会社
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2021-07-21
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2023-05-23
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C09D11/30
- 制造方法，是具有基板、在该基板上规定开口部的隔壁、和该隔壁内的有机功能膜的带有机功能膜的基板的制造方法，该方法包括：用喷墨法在隔壁内涂布包含有机功能材料和含有低挥发性高粘度溶剂的溶剂的有机功能墨的工序；和通过减压从涂布于隔壁内的有机功能墨除去溶剂而形成有机功能膜的工序；低挥发性高粘度溶剂在25℃下的粘度为200mPa·s以上，在150℃下加热低挥发性高粘度溶剂的同时用1分钟从常压减压至140Pa时，该低挥发性高粘度溶剂的残存率为80质量％以上，上述溶剂中低挥发性高粘度溶剂的含量为2.5质量％以上。由此，可抑制因墨涂布时刻的不同引起的有机功能层的形状的偏差，可制造具有平坦性良好的有机功能膜的带有机功能膜的基板。
- 有机功能制造方法
- [发明专利]液晶表示元件-CN201980019749.1有效
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保坂和义;片山雅章
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日产化学株式会社
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2019-03-18
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2023-05-16
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G02F1/1334
- 提供即使长时间暴露于高温高湿、光的照射的苛刻环境下，也可以抑制元件的剥离、气泡的产生、以及光学特性的降低的液晶表示元件。一种液晶表示元件，其特征在于，其具有液晶层，并且在基板的至少一者上具备树脂膜，所述液晶表示元件在没有施加电压时成为散射状态、在施加电压时成为透明状态，所述液晶层是对于配置于具备电极的一对基板之间的含有液晶和聚合性化合物的液晶组合物照射紫外线进行固化而成的，前述液晶具有正的介电各向异性，前述液晶组合物含有下述式[1]所示的化合物，并且前述树脂膜由含有具有选自由下述式[2‑a]～式[2‑i]组成的组中的至少一种结构的聚合物的树脂组合物得到。(式中的记号的定义如说明书中记载所述。)
- 液晶表示元件
- [发明专利]压印用光固化性组合物-CN201880086705.6有效
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长泽伟大;首藤圭介;加藤拓;铃木朋哉;今井翔太
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日产化学株式会社
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2018-12-21
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2023-05-12
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C08G75/045
- 本发明的课题是提供能够形成光学特性优异、压印后的支持体的翘曲量远小于以往的高弹性模量的固化物(成型体)，并且通过热处理而在该固化物的上层的防反射层不易产生裂缝的光固化性组合物。解决手段是包含下述(a)成分、下述(b)成分、下述(c)成分、下述(d)成分和下述(e)成分的压印用光固化性组合物。(a)：1分子中具有至少1个(甲基)丙烯酰氧基的脂环式(甲基)丙烯酸酯化合物(但是，(b)成分的化合物除外。)(b)：氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物或环氧(甲基)丙烯酸酯化合物(c)：一次粒径为1nm～100nm的进行了表面修饰的二氧化硅粒子(d)：下述式(1)所示的多官能硫醇化合物(e)：光自由基引发剂(式中，R1表示单键或碳原子数1～6的直链状或支链状的亚烷基，X表示单键、酯键或醚键，A1表示包含至少1个杂原子或不包含杂原子的碳原子数2～12的有机基、或杂原子，r1表示2～6的整数。)
- 压印用光固化组合
- [发明专利]单链寡核苷酸-CN202211379310.X在审
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入山友辅;中嶋宏之;金木达朗
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日产化学株式会社
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2017-01-26
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2023-05-05
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C12N15/113
- 本申请涉及单链寡核苷酸。本发明提供能高效地控制靶基因、并且能容易地制造的单链寡核苷酸。其为由式X‑L‑Y表示、X和Y以第一核苷酸序列部分和第二核苷酸序列部分进行杂交的单链寡核苷酸。X由7～100个核苷酸形成，包含至少1个修饰核苷酸，具有能与第二寡核苷酸杂交、且含有可被RNaseH识别的至少4个连续核苷酸的第一核苷酸序列。Y由4～100个核苷酸形成，具有能与所述第一寡核苷酸杂交、且含有至少1个核糖核苷酸的第二核苷酸序列。核苷酸序列X及Y中的至少一者具有能与靶RNA杂交的反义序列。L为来源于在生理条件下被分解的第三寡核苷酸的基团。
- 寡核苷酸
- [发明专利]抗蚀剂下层膜形成用组合物-CN202180057971.8在审
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德永光;中岛诚;西卷裕和
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日产化学株式会社
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2021-08-03
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2023-05-02
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C08G61/00
- 提供应对可以获得显示高的纯水接触角，对上层膜的密合性高，不易剥离的疏水性的下层膜，且涂布性良好这样的要求，并且，能够发挥对抗蚀剂下层膜所使用的药液也显示充分的耐性等其它良好的特性的新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：溶剂；以及包含下述式(1)、和/或下述式(2)所示的单元结构(A)的聚合物。(式中，Ar1和Ar2各自表示苯环、或萘环，Ar3表示可以包含氮原子的碳原子数6～60的芳香族化合物，R1、和R2各自为取代Ar1、和Ar2的环上的氢原子的基团，R3、和R8选自碳原子数1～10的烷基、碳原子数2～10的烯基、碳原子数2～10的炔基、碳原子数6～40的芳基、和它们的组合，R4、和R6选自氢原子、三氟甲基、碳原子数6～40的芳基和杂环基，R5、和R7选自氢原子、三氟甲基、碳原子数6～40的芳基和杂环基，n1和n2各自为0～3的整数，n3为1以上，并且为能够在Ar3上进行取代的取代基数以下的整数，n4为0或1，在n4为0时，R8与Ar3所包含的氮原子结合。)
- 抗蚀剂下层形成组合
- [发明专利]药液耐性保护膜-CN202180061886.9在审
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西田登喜雄;远藤勇树
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日产化学株式会社
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2021-09-09
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2023-05-02
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C08G59/40
- 提供在半导体基板加工时具有针对湿蚀刻液的良好的掩模(保护)功能、低干蚀刻速度，进一步对高低差基板也被覆性和埋入性良好，埋入后的膜厚差小，能够形成平坦的膜的保护膜形成用组合物和使用该组合物而制造的保护膜、抗蚀剂下层膜、带有抗蚀剂图案的基板和半导体装置的制造方法。一种针对半导体用湿蚀刻液的保护膜形成用组合物，其包含：(A)具有下述式(1‑1)所示的单元结构的聚合物：(在式(1‑1)中，Ar表示苯环、萘环或蒽环，R1表示羟基、可以被甲基保护的巯基、可以被甲基保护的氨基、卤代基、或可以被杂原子取代或中断且可以被羟基取代的碳原子数1～10的烷基，n1表示0～3的整数，L1表示单键或碳原子数1～10的亚烷基，E表示环氧基，T1在n2＝1时表示单键、或可以被醚键、酯键或酰胺键中断的碳原子数1～10的亚烷基，T1在n2＝2时表示氮原子或酰胺键)；(B)除儿茶酚以外的具有酚性羟基的化合物或聚合物；(C)热产酸剂；以及(D)溶剂。
- 药液耐性保护膜
- [发明专利]抗蚀剂下层膜形成用组合物-CN202180057444.7在审
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德永光;中岛诚;西卷裕和
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日产化学株式会社
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2021-08-03
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2023-05-02
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C08G12/08
- 提供能够发挥污染装置的升华物量的减少、被覆膜的面内均匀涂布性的改善、并且对也被用于抗蚀剂下层膜的药液也显示充分的耐性等其它良好的特性的新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含溶剂、以及包含下述式(1)所示的单元结构(A)的聚合物。(在式(1)中，Ar1和Ar2各自表示苯环或萘环，R1和R2各自为取代Ar1和Ar2的环上的氢原子的基团，R4选自氢原子、三氟甲基、碳原子数6～40的芳基、和杂环基，R5选自氢原子、三氟甲基、碳原子数6～40的芳基、和杂环基，n1和n2各自为0～3的整数。)。
- 抗蚀剂下层形成组合
- [发明专利]防眩性柔性硬涂层用固化性组合物-CN202080012541.X有效
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原口将幸;辻本晴希
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日产化学株式会社
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2020-01-30
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2023-05-02
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C09D4/02
- 本发明提供一种耐擦伤性、拉伸性以及防眩性优异的硬涂层的形成材料。一种固化性组合物以及具备由该组合物形成的硬涂层的硬涂膜，所述固化性组合物包含：(a)活性能量射线固化性氧化乙烯改性多官能单体100质量份；(b)含有聚(氧化全氟亚烷基)基的全氟聚醚，在其分子链的两末端经由氨基甲酸酯键具有活性能量射线聚合性基团的全氟聚醚(其中，在所述聚(氧化全氟亚烷基)基与所述氨基甲酸酯键之间具有聚(氧化亚烷基)基的全氟聚醚除外。)0.05质量份～10质量份；(c)表面被具有聚(氧化亚烷基)基的化合物修饰的二氧化硅粒子25质量份～65质量份；(d)通过活性能量射线产生自由基的聚合引发剂1质量份～20质量份；以及(e)非质子性溶剂。
- 防眩性柔性涂层固化组合
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