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[实用新型]一种激光相干长度可调的装置-CN202320824947.9有效
发明人：范元媛;彭锦;王倩;亓岩;韩春蕊;颜博霞;周密;韩哲;王延伟;崔惠绒 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2023-04-13 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01S3/10 文献下载
摘要：本公开提供一种激光相干长度可调的装置，装置包括：激光器、色散部件和发散角控制部件；所述色散部件设置于所述激光器输出激光的光路上，激光光束在输出之前以第一角度入射到所述色散部件后发生色散，使得出射激光光束的各光谱成分按照顺序依次排列，所述第一角度可变，激光光束的色散随着所述第一角度的变化而相应变化；所述发散角控制部件设置于经所述色散部件色散的出射激光光束的光路上，可对该出射激光光束的发散角的大小进行控制，相较于现有技术，本公开可以通过改变光束经过色散部件的色散和/或光束发散角，实现连续调节输出激光相干长度的目的。
一种激光相干长度可调装置

[发明专利]一种偏振泵浦功率占比可调的激光系统-CN202310295622.0在审
发明人：范元媛;林政吉;亓岩;王倩;颜博霞;周密;韩哲;王延伟;崔惠绒 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2023-03-23 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： H01S3/10 文献下载
摘要：本公开提供一种偏振泵浦功率占比可调的激光系统，包括：泵浦模块、第一半波片、偏振分光器件、第一光学腔体、第二光学腔体和调节装置；泵浦模块输出泵浦光；第一半波片设置于泵浦模块和偏振分光器件之间，对泵浦光的偏振方向进行调整；偏振分光器件将对入射的泵浦光分成水平方向出射的P偏振光和垂直方向出射的S偏振光；P偏振光进入第一光学腔体，S偏振光进入第二光学腔体；调节装置调节第一半波片，以调节P偏振光和S偏振光的比例，以对两腔体泵浦功率占比进行调节，相较于现有技术，本公开可以利用同一泵浦源同时实现对不同光学腔体的泵浦，且泵浦功率比例可根据实际需要进行不同比例的实时调节，可以极大地节约成本，提升能量利用率。
一种偏振功率可调激光系统

[发明专利]一种控制激光相干长度的装置和方法-CN202310395963.5在审
发明人：范元媛;彭锦;王倩;亓岩;韩春蕊;颜博霞;周密;韩哲;王延伟;崔惠绒 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2023-04-13 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： H01S3/10 文献下载
摘要：本公开提供一种控制激光相干长度的装置及方法，装置包括：激光器、色散部件和发散角控制部件；所述色散部件设置于所述激光器输出激光的光路上，激光光束在输出之前以第一角度入射到所述色散部件后发生色散，使得出射激光光束的各光谱成分按照顺序依次排列，所述第一角度可变，激光光束的色散随着所述第一角度的变化而相应变化；所述发散角控制部件设置于经所述色散部件色散的出射激光光束的光路上，可对该出射激光光束的发散角的大小进行控制，相较于现有技术，本公开可以通过改变光束经过色散部件的色散和/或光束发散角，实现连续调节输出激光相干长度的目的。
一种控制激光相干长度装置方法

[发明专利]一种零件涂层制备装置及零件涂层制备方法、终端装置-CN202011075185.4有效
发明人：郭馨;江锐;王倩;崔惠绒;周翊;赵江山;王宇 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2020-10-09 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： C23C24/10 文献下载
摘要：本发明公开一种零件涂层制备装置及零件涂层制备方法、终端装置，涉及准分子激光器放电腔用涂层制造技术领域，以解决零件被卤素工作气体腐蚀生成有害气体以及放电产生的声波、激波引起放电环境不稳定的问题，从而影响激光器的输出性能的问题。所述零件涂层制备装置，包括：真空样品室，送粉装置，用于向真空样品室内的零件表面提供涂层粉末。涂层粉末的材质至少包括高熵合金。激光成形装置，用于对送粉装置提供的涂层粉末进行成形处理，得到零件涂层，所述零件涂层至少包括致密涂层和形成于致密涂层上的多孔涂层。所述零件涂层制备方法包括上述技术方案所提的零件涂层制备装置。本发明提供的零件涂层制备装置用于制备零件涂层。
一种零件涂层制备装置方法终端

[发明专利]关联成像方法及装置-CN201910202155.6有效
发明人：张罗莎;王宇;王魁波;朱精果;杨光华;赵复生;亓岩;颜博霞;韩春蕊;郭馨;陈进新;崔惠绒;罗艳;谢婉露;周翊;吴晓斌 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2019-03-15 - 公布日： 2021-07-27 - 主分类号： G01J1/00 文献下载
摘要：一种关联成像方法及装置，方法包括：采用激光照射旋转的毛玻璃形成随机涨落光场，其中，该光场的光强通过求解激光与毛玻璃表面微纳结构的交互结果得到；使用随机涨落光场照明成像目标，形成携带有成像目标振幅和相位信息的光波；探测光波的光强，对随机涨落光场的光强及光波的光强进行关联计算以重建生成成像目标的图像。该方法及装置省去了分光镜与面阵探测器、数字微透镜阵列或者投影系统等复杂的光学模块，简化了成像系统的复杂度，提高了成像速度；直接通过麦克斯韦方程求解入射光波与毛玻璃表面微纳结构的交互结果，得到照明成像目标的随机涨落光场分布，提高了图像重建的分辨率；并且可实现亚波长结构成像，扩大了关联成像的使用范围。
关联成像方法装置

[实用新型]一种垂直偏振态准分子激光器-CN202021950108.4有效
发明人：李慧;赵江山;崔惠绒;鲍洋 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2020-09-08 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： H01S3/034 文献下载
摘要：本申请提供一种垂直偏振态准分子激光器，包括：种子腔、放大腔以及设置在种子腔至放大腔的光路上的第一高反射镜、第二高反射镜和转置棱镜；第一高反射镜和第二高反射镜的表面均设有偏振方向平行于镜片入射面的高反射膜；转置棱镜的入射表面和出射表面设有偏振方向与转置棱镜入射面相互垂直的增透膜。本申请中，偏振膜层能提高特定偏振方向的激光传输效率，从而，在激光的传输过程中，通过设有偏振膜层的高反射镜和转置棱镜对种子腔输出的激光和放大腔输出的激光进行多次提纯，补偿长距离光路传输过程中的退偏影响，实现最终具有高偏振度的大能量垂直偏振态激光的输出。
一种垂直偏振准分子激光

[实用新型]一种准分子激光器光学系统-CN202021331706.3有效
发明人：李慧;赵江山;范元媛;谢婉露;罗艳;崔惠绒;张立佳 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2020-07-08 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： H01S3/08 文献下载
摘要：本申请提供一种准分子激光器光学系统，包括：种子腔、能量放大腔以及第一高反射镜、第二高反射镜、第三高反射镜、第四高反射镜和第五高反射镜；第一高反射镜和第二高反射镜的表面设有垂直偏振态高反射膜层；第三高反射镜、第四高反射镜和第五高反射镜的表面设有水平偏振态高反射膜层。本申请中，偏振膜层能提高特定偏振方向的激光传输效率，在激光的传输过程中，通过设有偏振膜层的高反射镜对种子腔输出的激光(种子激光)和能量放大腔输出的激光(放大激光)进行多次提纯(提高特定偏振方向的激光传输效率)，补偿长距离光路传输过程中的退偏影响，实现最终具有高偏振度的大能量目标偏振态(水平偏振态)激光的输出。
一种准分子激光光学系统

[实用新型]一种准分子激光器-CN202021331707.8有效
发明人：李慧;赵江山;范元媛;谢婉露;罗艳;崔惠绒;张立佳 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2020-07-08 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： H01S3/08 文献下载
摘要：本申请提供一种准分子激光器，包括：线宽压窄模块、种子腔、能量放大腔以及第一高反射镜、第二高反射镜、第三高反射镜、第四高反射镜和第五高反射镜；第一高反射镜、第四高反射镜和第五高反射镜的表面设有水平偏振态高反射膜层；第二高反射镜和第三高反射镜的表面设有垂直偏振态高反射膜层。本申请中，偏振膜层能提高特定偏振方向的激光传输效率，从而，在激光的传输过程中，通过设有偏振膜层的高反射镜对种子腔输出的激光(种子激光)和能量放大腔输出的激光(放大激光)进行多次提纯(提高特定偏振方向的激光传输效率)，补偿长距离光路传输过程中的退偏影响，实现最终具有高偏振度的大能量目标偏振态(水平偏振态)激光的输出。
一种准分子激光

[发明专利]成像方法及装置-CN201910202151.8有效
发明人：张罗莎;王宇;王魁波;朱精果;杨光华;赵复生;亓岩;颜博霞;韩春蕊;郭馨;陈进新;崔惠绒;罗艳;谢婉露;周翊;吴晓斌 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2019-03-15 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： G01J1/00 文献下载
摘要：一种成像方法，应用于光学成像技术领域，包括：将激光照射旋转的毛玻璃形成随机涨落光场，使用该随机涨落光场照明成像目标，形成携带有成像目标振幅和相位信息的光波，并探测该光波的光强，然后，计算随机涨落光场中所有像素的光强值，当随机涨落光场中连续多个像素的光强值相同时，重建随机涨落光场，对重建后的随机涨落光场的光强和光波的光强进行关联计算，得到对重建后的随机涨落光场的光强和光波的光强的强度关联项，根据该强度关联项，生成成像目标的图像。本发明还公开了一种成像装置，提高了图像的重建速度及分辨率。
随机涨落光场光强光波重建成像目标关联项像素成像方法及装置光学成像技术图像成像装置激光照射相位信息照明成像毛玻璃分辨率成像探测关联携带应用

[发明专利]一种基于随机光强涨落的成像方法和系统-CN201910196450.5有效
发明人：王宇;张罗莎;王魁波;朱精果;杨光华;赵复生;亓岩;颜博霞;韩春蕊;郭馨;陈进新;崔惠绒;罗艳;谢婉露;周翊;吴晓斌 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2019-03-14 - 公布日： 2020-01-17 - 主分类号： G02B27/00 文献下载
摘要：本公开提供了一种基于随机光强涨落的成像方法和系统，所述方法包括：光源(1)照射毛玻璃(2)并在所述毛玻璃(2)表面形成随机涨落光场，所述随机涨落光场照明成像目标(3)后被单像素探测器(4)收集，得到总光强；旋转N次所述毛玻璃(2)，获取N个总光强值，其中N≥1；建立所述成像目标(3)的分布函数表达式，根据所述随机涨落光场、所述N个总光强值和所述分布函数表达式之间的预设关系，确定所述成像目标(3)的分布函数和位置信息；根据所述成像目标(3)的分布函数和位置信息，重建成像目标(3)的像。在无需获取随机涨落光场分布实际值的条件下，实现对成像目标的重建。
成像目标分布函数随机涨落毛玻璃光场总光光强涨落成像表面形成光场分布预设关系照明成像重建探测器像素光源照射

[发明专利]准分子激光器窗片的更换装置和更换方法-CN201810070856.4有效
发明人：郭馨;丁金滨;刘斌;张立佳;白路军;王宇;崔惠绒 -专利权人：中国科学院光电研究院
申请日： 2018-01-25 - 公布日： 2019-11-08 - 主分类号： H01S3/034 文献下载
摘要：本发明一种涉及准分子激光器窗片的更换装置及其更换方法，包括一端开口的更换主腔体，更换主腔体的腔壁设有多个用于观测更换主腔体内部的观察窗、用于检测更换主腔体内部气压的气压计、抽真空通道、充气通道、多个指套孔和窗片室，抽真空通道和充气通道与更换主腔体内部相通，指套孔密封配有方便在更换主腔体内部进行窗片更换的操作指套。本发明能够显著降低准分子激光器窗片更换过程中卤素介质的扩散现象，能够有效避免零部件在大气暴露中发生污染，并可有效减少放电腔清洗的次数及其对操作人员的危害，免除钝化工艺或显著减少钝化时间，提高激光器的使用效率和能源的使用率。
窗片体内部主腔准分子激光器抽真空通道充气通道更换装置指套孔主腔体大气暴露钝化工艺卤素介质使用效率一端开口有效减少激光器操作指放电腔观察窗气压计使用率钝化气压腔壁密封清洗零部件观测相通扩散检测能源污染

[发明专利]极紫外辐照材料测试系统的真空获得装置及相应测试方法-CN201510076613.8有效
发明人：陈进新;王宇;吴晓斌;谢婉露;王魁波;崔惠绒 -专利权人：中国科学院光电研究院
申请日： 2015-02-12 - 公布日： 2019-03-19 - 主分类号： G01N27/64 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于EUV辐照材料测试系统的真空获得装置及相应测试方法，测试系统包括EUV光源腔室(A)、收集镜腔室(B)和样品腔室(C)，真空获得装置包括分别连接到各腔室的真空泵单元和真空计单元、连接于腔室之间的第一、第二插板阀(A3、B3)、连通第一、第二插板阀(A3、B3)的第一、第二气源(A4、B4)，以及通过阀门与收集镜腔室(B)的真空泵单元(B1)相连的气体分析单元(C5)。本发明能够对测试系统的各部分进行抽真空，有效阻止污染物由EUV光源腔室和样品腔室问收集镜腔室扩散，并且在真空压力不匹配的情况下能够测得样品腔室中的气体组分及分压。
紫外辐照材料测试系统真空获得装置相应方法

[发明专利]一种可在线测量能量的极紫外辐照损伤测试系统-CN201610548432.5有效
发明人：谢婉露;吴晓斌;陈进新;王魁波;张罗莎;罗艳;周翊;王宇;崔惠绒 -专利权人：中国科学院光电研究院
申请日： 2016-07-13 - 公布日： 2019-01-08 - 主分类号： G01N17/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种极紫外辐照损伤测试系统，包括光源腔室、收集镜腔室和测量腔室，收集镜腔室与测量腔室之间装有快门，快门可通过开/关状态的切换来改变光束的后续传播；测试腔室容纳有样品调节台、能量校准单元和辐照能量在线测试单元，样品调节台用于装载辐照损伤测试样品，辐照能量在线测试单元设置在快门与样品调节台之间的光路上，用于测试辐照在样品表面的能量，能量校准单元设置于在线测试单元与样品调节台之间的光路上，用于校准辐照能量在线测试单元。本发明的系统可在辐照损伤测试过程中实时测试辐照能量，提高辐照损伤测试结果的准确性和可靠性，且结构简单，安装方便，容易操作。
一种在线测量能量紫外辐照损伤测试系统

[发明专利]一种真空密封性能测量装置和方法-CN201610532002.4有效
发明人：张罗莎;吴晓斌;王魁波;陈进新;罗艳;谢婉露;周翊;王宇;崔惠绒 -专利权人：中国科学院光电研究院
申请日： 2016-07-07 - 公布日： 2019-01-01 - 主分类号： G01M3/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种真空密封性能测量装置及方法，该装置包括第一标准漏孔(1)、第二标准漏孔(2)、第三标准漏孔(3)、吸气剂泵(4)、密封容器(5)、角阀(6)、限流小孔(7)、分子泵组(8)、第一干式机械泵(9)、插板阀(10)、真空规(11)、四极质谱计(12)、测量室(13)。该方法采用动态法测量或者静态累积法测量密封容器(5)的整体漏率，表征密封容器的密封性能，其中动态法适用于相对较大的漏率测量，其测量范围与四极质谱计(12)的最小可检信号、小孔流导相关，静态累积法适用于相对较小的氦气漏率测量，利用四极质谱计对测量室内累积的氦分压的测量进一步计算出密封容器(5)的氦漏率。
一种真空密封性能测量装置方法

[发明专利]一种真空环境中的矩形密封装置和密封方法-CN201610862031.7有效
发明人：张罗莎;吴晓斌;王魁波;陈进新;罗艳;谢婉露;周翊;王宇;崔惠绒 -专利权人：中国科学院光电研究院
申请日： 2016-09-28 - 公布日： 2018-10-02 - 主分类号： F16J15/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种真空环境中的矩形密封装置和密封方法，该装置包括矩形上法兰(1)、矩形下法兰(2)、矩形密封盒体(3)、矩形整体轮廓的密封结构(4)、压紧螺钉(5)、待密封系统安装螺钉(6)、矩形截面待密封系统(7)，其中，矩形截面待密封系统(7)容纳于矩形密封盒体(3)，并采用待密封系统安装螺钉(6)固定，矩形上法兰(1)和矩形下法兰(2)经由矩形整体轮廓的密封结构(4)相配合、由压紧螺钉(5)压紧。本发明通过设计矩形密封结构，解决密封装置内部空间利用率低，密封装置外部体积大、重量大、不便于移动及安置等问题，密封效果好，氦气漏率优于5×10‐11Pam3/s。
一种真空环境中的矩形密封装置方法

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