专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]RF功率放大器-CN202310266990.2在审
  • 赵俊雷;诸毅;拉金勒帕赛德·加亚德哈森 - 安普林荷兰有限公司
  • 2023-03-14 - 2023-09-19 - H03F3/195
  • 本发明涉及一种射频RF功率放大器以及包括RF功率放大器的RF功率放大器系统。本发明还涉及一种多尔蒂放大器,在该多尔蒂放大器中,该RF功率放大器用作主放大器和/或峰值放大器。根据本发明,RF功率放大器的场效应晶体管包括至少一个辅助栅极接合盘组件,辅助栅极接合盘组件与多个栅极指状部间隔开,其中每个辅助栅极接合盘组件被布置成相比于栅极接合盘组件更靠近漏极接合盘组件,并且其中,每个辅助栅极接合盘组件电连接到栅极接合盘组件。每个辅助栅极接合盘组件被连接到使用RF接地接合线形成的分流感应器,用于至少部分地补偿与场效应晶体管的栅极‑漏极电容相关联的不利影响,从而提高RF功率放大器的稳定性。
  • rf功率放大器
  • [发明专利]封装式射频功率放大器-CN201811519727.5有效
  • 罗伯·马蒂兹·赫里斯;弗雷尔克·范瑞哲 - 安普林荷兰有限公司
  • 2018-12-12 - 2023-07-04 - H03F3/19
  • 本发明涉及封装式射频RF功率放大器。本发明还涉及用于该功率放大器中的半导体芯片,以及包括该半导体芯片和/或功率放大器的电子设备或电子系统。根据本发明,半导体芯片包括与第一漏极接合组件间隔开设置并且电连接至第一漏极接合组件的第二漏极接合组件。其中,相比于第一漏极接合组件,第二漏极接合组件更靠近半导体芯片的输入侧。RF功率放大器包括在第一漏极接合组件与输出引线之间延伸的第一组多个接合线以及从第二漏极接合组件延伸至接地电容器的第一端的第二组多个接合线。
  • 封装射频功率放大器
  • [发明专利]功率放大器-CN202111350252.3在审
  • 蒋小川;夏言;张兵辉 - 安普林荷兰有限公司
  • 2021-11-15 - 2023-05-16 - H03F1/56
  • 本发明涉及一种功率放大器。本发明特别涉及可在0.5GHz至40GHz之间的频率范围内工作的开关式功率放大器,该放大器被配置为输出1W至1kW范围内的功率。本发明还涉及用于这种功率放大器的阻抗匹配级。本发明的阻抗匹配级包括位于其输入的短路短截线,位于其输出的开路短截线,以及连接输入和输出的串联支路。通过选择合适的短截线和串联支路的特征阻抗和电气长度,可以独立地选择在基波和二次谐波频率下呈现给功率晶体管的阻抗。
  • 功率放大器
  • [发明专利]功率放大器和包括功率放大器的多尔蒂放大器-CN202211231096.3在审
  • 耿知;诸毅 - 安普林荷兰有限公司
  • 2022-10-09 - 2023-04-07 - H03F1/02
  • 本发明涉及功率放大器和包括功率放大器的多尔蒂放大器。本发明尤其涉及在射频RF频率处运行的氮化镓GaN功率放大器。根据本发明,功率放大器包括:一个或多个RF输出端子;氮化镓GaN半导体裸片,在GaN半导体裸片上集成有功率场效应晶体管FET,其中,FET包括相邻地成行排列的多个FET单元,其中,FET单元通过相应的第一电感器直接或间接地连接到一个或多个RF输出端子。根据本发明,布置在FET单元的行的相对端的FET单元的总FET单元栅极宽度大于布置在FET单元的行的中部的一个或多个FET单元的总FET单元栅极宽度,以及布置在FET单元的行的相对端的FET单元的第一电感器的电感小于布置在FET单元的行的中部的一个或多个FET单元的第一电感器的电感。
  • 功率放大器包括多尔蒂放大器
  • [发明专利]半导体设备及其制造方法-CN202110395444.X在审
  • 张安邦 - 安普林荷兰有限公司
  • 2021-04-13 - 2022-10-18 - H01L29/10
  • 公开了半导体设备及其制造方法。本发明涉及一种基于氮极性GaN的高电子迁移率晶体管HEMT。本发明还涉及一种制造这种HEMT的方法。根据本发明,基于氮极性GaN的HEMT包括:设置在缓冲层上的AlGaN背势垒、设置在缓冲层上的沟道层、设置在沟道层上的AlGaN帽层、以及设置在AlGaN帽层上的第二GaN层。根据本发明,沟道层包括第一GaN层和AlGaN沟道层,其中,AlGaN沟道层设置在第一GaN层和AlGaN背势垒之间。此外,肖特基接触设置在第一GaN层上。
  • 半导体设备及其制造方法

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