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- [实用新型]一种半导体掩膜版倒角打磨装置及打磨平台-CN202223295499.2有效
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周荣梵
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成都路维光电有限公司
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2022-12-08
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2023-03-21
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B24B9/10
- 本实用新型公开了一种半导体掩膜版倒角打磨装置及打磨平台，以解决现有打磨过程中因人手持掩膜版导致打磨效果不足且具有安全隐患的问题，其包括打磨机、升降机构、第一导向件和第二导向件；升降机构与打磨机连接；第一导向件与升降机构连接且具有第一工作面，第一工作面用以与掩膜版的第一侧面贴合；第二导向件与升降机构连接且具有第二工作面，第二工作面用以与掩膜版上与第一侧面相邻的第二侧面贴合；其中，第一工作面和第二工作面中至少一者设置有与掩膜版厚度匹配的限位槽，第一导向件和第二导向件在打磨机砂带的运动方向上具有间距且第一工作面与砂带打磨面呈夹角。本实用新型使用更加方便、能够保证掩膜版的打磨效果、安全隐患小。
- 一种半导体掩膜版倒角打磨装置平台
- [实用新型]一种用于半导体掩膜版磨边的装置-CN202222167324.7有效
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周荣梵;林超;林伟
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成都路维光电有限公司
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2022-08-17
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2022-11-15
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B24B9/02
- 本实用新型公开了一种用于半导体掩膜版磨边的装置，包括连接组件和打磨机构，连接组件包括连接机构、底座和机架，机架连接于底座上，连接机构一端连接于机架上部，另一端连接打磨机构；打磨机构包括机架本体、砂带和掩膜版装载治具，掩膜版装载治具上部设置有用于嵌入固定非常规尺寸半导体掩膜版的固定卡槽，其下部设置有通槽并固定于机架本体上方的两侧，而砂带设置于机架本体的表面并穿设于掩膜版装载治具下部的通槽，砂带通过连接机构驱动进行往复运动对固定在固定卡槽中的非常规尺寸半导体掩膜版磨边，不仅实现非常规尺寸半导体掩膜版的磨边，而且有效降低了非常规尺寸半导体掩膜版生产报废的风险，从而提高了设备稼动率。
- 一种用于半导体掩膜版磨边装置
- [实用新型]一种半导体掩膜版搬运装置-CN202121748882.1有效
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周荣梵;林超;林伟
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成都路维光电有限公司
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2021-07-29
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2021-12-31
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B65G7/12
- 本实用新型公开了一种半导体掩膜版搬运装置，包括基座、第一滑块、第二滑块、第一夹持爪和第二夹持爪，所述基座的前端面设置有与所述前端面平行的第一滑轨，第一滑块和第二滑块均与所述第一滑轨可滑动连接，所述第一夹持爪与所述第一滑块固定连接，所述第二夹持爪与所述第二滑块固定连接，使用时，掩膜版被固定夹持在所述第一夹持爪与所述第二夹持爪之间。本实用新型通过设置可以在同一平面内移动的第一滑块和第二滑块，并驱动第一夹持爪和第二夹持爪在同一平面内移动，从而可以通过第一夹持爪和第二夹持爪实现对掩膜版的夹持，避免了手动抓取中可能对掩膜版造成的污染。
- 一种半导体掩膜版搬运装置
- [实用新型]一种掩膜版光学膜贴合治具-CN202021763060.6有效
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林伟;郑宇辰;林超;王伟轶;周荣梵
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成都路维光电有限公司
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2020-08-21
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2021-01-29
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G03F1/48
- 本实用新型公开了一种掩膜版光学膜贴合治具，包括底板，还包括内槽、外槽、粘合胶、圆弧挡块和光学膜边框，所述底板上设置内槽和外槽，所述内槽和外槽均为环形结构，所述内槽为外槽底部向下凹陷形成的凹槽，所述粘合胶为环形条状，所述粘合胶设置在内槽内，所述粘合胶的高度高于内槽的深度并且低于外槽的深度，所述圆弧挡块设置在底板上外槽的四个角外侧，所述光学膜边框安装在外槽内，所述光学膜边框的底部与粘合胶的顶部相贴合。本实用新型优点是：减少了人手动贴合产生光学膜的可能性，还提高了产品精度；扩大了可生产产品种类，提高了光学膜的利用率，降低了生产制造成本。
- 一种掩膜版光学贴合
- [实用新型]用于掩膜版光刻胶的缓存装置-CN202020430760.7有效
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林伟;林超;周荣梵
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成都路维光电有限公司
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2020-03-30
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2020-11-24
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B65D25/02
- 本实用新型公开了一种用于掩膜版光刻胶的缓存装置，包括桶体、桶盖和密封圈，桶盖上设置有进气管和进液管，桶体底部设置有出液管，所述桶盖上还设置有清洗管，清洗管伸入桶体内，清洗管伸入桶体一端的侧面上均匀布置有圆孔喷嘴，桶体底部设置有废液排出管；本实用新型通过在清洁管内通入高压的清洁药液，清洁药液再通过圆孔喷嘴喷射至桶体的内壁，将桶体内壁残留的光刻胶清洁干净，清洁后的废液再通过废液排出管排出桶体；相比于传统拆卸式的清洁方式而言，本实用新型的清洁过程无需拆卸装置，省时省力，自动化程度高，提高了工作效率，降低了清洁风险，可更好的保护设备。
- 用于掩膜版光刻缓存装置
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