专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]计数装置-CN202110546056.7在审
  • 林哲民 - 华邦电子股份有限公司
  • 2021-05-19 - 2022-11-22 - H03K21/40
  • 本发明提供一种可提升工作速度的计数装置。计数装置包括多个计数电路级以及第一逻辑运算电路。计数电路级依序串联耦接。第一级的计数电路级根据第一时钟信号执行计数动作,并产生第一级计数结果。第二级的计数电路级至第N级的计数电路级根据第二时钟信号以进行计数动作,N为大于2的正整数。第一逻辑运算电路根据指示信号以提供第一级计数结果以作为第二时钟信号。
  • 计数装置
  • [发明专利]恒流电路及半导体装置-CN202011252907.9有效
  • 中谷真史 - 华邦电子股份有限公司
  • 2020-11-11 - 2022-11-22 - G05F1/56
  • 本发明提供一种恒流电路及半导体装置,供给经温度补偿的恒流。本发明的恒流电路(100)包含BGR电路(110)、温度依存电流生成部(120)、基准电流生成部(130)以及输出电流生成部(140)来构成。BGR电路(110)生成电压依存性少的基准电压(VBGR)。温度依存电流生成部(120)生成正的温度系数的温度依存电流。基准电流生成部(130)利用基准电压(VBGR)及温度依存电流来生成经温度补偿的基准电流(IREF)。输出电流生成部(140)根据由基准电流生成部(130)所生成的基准电流(IREF)来生成输出电流。
  • 流电半导体装置
  • [发明专利]电压产生电路以及使用该电压产生电路的半导体装置-CN202011299442.2有效
  • 村上洋树 - 华邦电子股份有限公司
  • 2020-11-19 - 2022-11-22 - G05F1/567
  • 本发明提供了一种电压产生电路以及使用该电压产生电路的半导体装置,该电压产生电路能够追求省空间化、构成简易、并且产生高信赖性的电压。本发明的电压产生电路包含基准电压产生部、PTAT电压产生部、比较部以及选择部。基准电压产生部产生几乎没有温度依存性的基准电压。PTAT电压产生部产生具有正或负的温度依存性的温度依存电压,且温度依存电压在目标温度时具有与基准电压相等的电压。比较部比较基准电压以及温度依存电压。选择部基于比较部的比较结果,选择基准电压及温度依存电压的其中一个,并输出所选择的基准电压或温度依存电压。
  • 电压产生电路以及使用半导体装置
  • [发明专利]动态随机存取内存的制造方法-CN202210147927.2在审
  • 黒田聡;王芯雅;蔡昌翰;蔡明庭 - 华邦电子股份有限公司
  • 2022-02-17 - 2022-11-11 - H01L21/8242
  • 本发明提供一种动态随机存取内存的制造方法,包括:在衬底上形成硬掩膜层;在硬掩膜层与衬底中形成开口;在开口的侧壁形成介电层;在开口中形成第一阻障层与第一导体层;进行第一干式刻蚀工艺,以第一阶段部分地移除第一阻障层与第一导体层;进行第一湿式刻蚀工艺,以第二阶段部分地移除第一阻障层与第一导体层,并裸露出开口的上侧壁的介电层;在开口中形成第二阻障层;在开口中形成掩膜层,以覆盖第二阻障层;移除部分第二阻障层与部分掩膜层,以裸露出在开口的上侧壁上的介电层;及在开口中形成第二导体层。
  • 动态随机存取内存制造方法
  • [发明专利]半导体结构及其形成方法-CN202110493679.2在审
  • 庄哲辅;廖修汉 - 华邦电子股份有限公司
  • 2021-05-07 - 2022-11-08 - H01L27/11521
  • 本发明提供一种半导体结构及其形成方法,该方法包含:依序形成第一至第三牺牲层于基板上。基板包含存储器单元区域及周边区域。周边区域包含字线区域。移除字线区域中的第二及第三牺牲层,以暴露位于字线区域中的第一牺牲层的顶表面。移除字线区域中的第一牺牲层以及存储器单元区域中的第三牺牲层。在字线区域中形成字线介电层于基板上。形成第一导电层于字线介电层上。移除存储器单元区域中的第一及第二牺牲层。在存储器单元区域中形成穿隧介电层于基板上。穿隧介电层的厚度小于字线介电层的厚度。形成浮置栅极层于穿隧介电层上。
  • 半导体结构及其形成方法
  • [发明专利]半导体装置和操作方法-CN202210428292.3在审
  • 荒川贤一 - 华邦电子股份有限公司
  • 2022-04-22 - 2022-11-08 - G11C16/30
  • 本发明提供一种能够进行可靠性高的操作的半导体装置和操作方法。本发明的电压监视电路(100)包括:通电检测部(110),检测出外部电源端子的供给电压(EXVDD)是否达到通电电压电平;计时器(120),在检测出供给电压达到通电电压电平时计时预定时间;贯通电流生成部(130),在计时器(120)对预定时间进行计时的期间,使外部电源端子与GND之间产生贯通电流;以及断电检测部(140),检测在产生贯通电流的期间供给电压(EXVDD)的下降是否到达断电电压电平。
  • 半导体装置操作方法

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