专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种磷化铟衬底片定位磨边装置及方法-CN202210321372.9有效
  • 周锐;刘桂勇;刘兴达;柯尊斌;王卿伟 - 中锗科技有限公司
  • 2022-03-30 - 2023-03-24 - B24B9/06
  • 本发明公开了一种磷化铟衬底片定位磨边装置及方法,定位磨边装置,包括操作台和plc控制柜,操作台上设有卡塞卡槽、第一抓取装置、定位装置、平边探测装置、第二抓取装置、磨边装置、第三抓取装置、清洗装置、第四抓取装置和存储装置。本发明利用机械手臂工作原理替代人工操作运转,降低了劳动强度,提高了磨边过程的稳定性,提高了衬底片加工效率,提高了产品的一致性及稳定性;操作简单,只需安装晶片卡塞,自动中心定位台可快速中心定位晶片,红外探头可对OF平边精准定位,多磨边工位可同时磨边多片;磨边结束后具备清洗及干燥功能,减去人员采用手动清洗及擦拭的步骤,使得晶片上不容易产生水渍,提升了产品品质;装置简单、紧凑,占地小。
  • 一种磷化衬底定位磨边装置方法
  • [发明专利]一种磷化铟缺陷晶棒分割制备单晶衬底片的方法-CN202211029141.7在审
  • 周锐;刘桂勇;刘兴达 - 中锗科技有限公司
  • 2022-08-26 - 2022-12-06 - H01L21/02
  • 本发明公开了一种磷化铟缺陷晶棒分割制备单晶衬底片的方法,包括如下步骤:切头尾做角度、做定位边标记、切片、避缺陷、划片和磨边。本发明通过切割后的晶片分选可以合理的利用每一个片的有效区域,提升了单晶的利用率,避免了掏棒、定性后,切片的缺陷无法避开的问题,降低了不可控因素的风险;该方法比较灵活,可以依据不同的有效区域分别筛选划片,减少了晶片报废的现象,提升了单片价值;并采用了激光切割,相比掏棒的1.5mm的损耗要节省约94%的材料损耗,比较省时省料;显著提高了晶向角度质量。
  • 一种磷化缺陷分割制备衬底方法
  • [发明专利]一种高强度高韧性超薄锗单晶片腐蚀方法-CN202211006732.2在审
  • 吕春富;王卿伟;常晟;端平;刘桂勇;李志成 - 中锗科技有限公司
  • 2022-08-22 - 2022-11-25 - C30B33/10
  • 本发明公开了一种高强度高韧性超薄锗单晶片腐蚀方法,分两步完成腐蚀,然后甩干,具体包括如下步骤:1)将锗单晶片插入卡塞在酸性腐蚀液1中腐蚀,酸性腐蚀液1的组成以体积比计,包括高纯水:HF:H2O2=(8‑10):(0.5‑1):(0.5‑0.8);2)将完成步骤1)的锗单晶片在酸性腐蚀液2中腐蚀,酸性腐蚀液2的组成以体积比计,包括高纯水:HF:H2O2=(1‑2):(1‑1.5):(0.05‑0.1);3)将完成步骤2)的锗单晶片连同卡塞放入甩干机甩干。本发明解决了晶片表面腐蚀花纹等问题,腐蚀后晶片表面透亮、腐蚀操作简单、腐蚀效率高等,同时本方法腐蚀的超薄锗单晶片强度高、韧性大,可很好地满足超薄锗单晶片的制作要求。
  • 一种强度韧性超薄晶片腐蚀方法
  • [发明专利]一种超薄锗单晶抛光片的清洗方法-CN202210878246.3在审
  • 吕春富;常晟;刘桂勇 - 中锗科技有限公司
  • 2022-07-25 - 2022-09-02 - H01L21/02
  • 本发明公开了一种超薄锗单晶抛光片的清洗方法,包括:1)用高纯水冲洗干净、甩干,揭去背面的UV膜,按照抛光面朝卡塞U头方向,插入卡塞的插槽中;2)浸入3%‑40%的碱液中浸泡2‑5分钟,再用去离子水冲洗3‑5分钟,然后置于甩干机甩干;3)浸入四甲基氢氧化氨水溶液中泡洗30‑120秒,然后纯水冲洗30‑90S;4)再放入温度低于6℃以下的腐蚀液中泡洗120‑300s,然后纯水冲洗30‑90S,甩干,检查表面质量合格后充氮气包装。本发明可以有效去除抛光片表面磨料颗粒、损伤氧化层、抛光残留药水,通过三种药水清洗,可以得到达到高质量的锗单晶抛光片清洗表面,其表面颗粒度大于0.3微米的几乎没有,清洗后表面清洁透亮,表面均匀细腻、粗糙小于0.2纳米;本方法操作简单,容易实现量产。
  • 一种超薄锗单晶抛光清洗方法
  • [发明专利]一种太阳能电池用超薄Ge单晶衬底的加工方法-CN202210309234.9在审
  • 刘桂勇;周锐;刘兴达;柯尊斌;王卿伟 - 中锗科技有限公司
  • 2022-03-28 - 2022-06-28 - H01L31/18
  • 本发明公开了一种太阳能电池用超薄Ge单晶衬底的加工方法,包括依次相接的如下步骤:1)切片;2)倒角;3)研磨;4)镀膜:采用双离子束镀膜机在研磨后清洗干净的衬底背面沉积厚度为1‑3um的CNx薄膜或Si3N4薄膜,沉积时的工作气体为Ar与N2的混合气体,系统的本底真空度为0.5‑1.5E‑3Pa,工作气压为0.1‑0.5Pa;5)减薄;6)腐蚀;7)抛光;8)清洗,得到厚度为90‑110微米的超薄Ge单晶衬底。本发明在研磨后的锗衬底背面镀沉积了一定厚度的CNx薄膜或Si3N4薄膜,显著提高了耐磨、耐腐蚀和强度,便于后续工艺(减薄、腐蚀、抛光、清洗)的加工;延长了寿命,降低了成本;通过优化各步骤,使锗衬底的出货厚度降低到90‑110微米,锗衬底的强度提高到20磅以上。
  • 一种太阳能电池超薄ge衬底加工方法
  • [实用新型]一种循环过滤的磷化铟研磨液稳定供药装置-CN202123168539.2有效
  • 周锐;刘桂勇;刘兴达;刘于;柯尊斌;王卿伟 - 中锗科技有限公司
  • 2021-12-16 - 2022-05-13 - B01F27/90
  • 本实用新型公开了一种循环过滤的磷化铟研磨液稳定供药装置,包括搅拌缸、搅拌电机、搅拌桨、硬质套管、第一输液软管、蠕动泵、循环过滤装置、第二输液软管和回液循环泵;搅拌缸的顶部设有端盖;搅拌电机安装在端盖中央,搅拌桨位于搅拌缸内侧,搅拌桨的顶部穿出端盖与搅拌电机的转轴连接;搅拌缸内侧底部呈与搅拌桨底部角度相适应的锥形;硬质套管位于搅拌缸内侧、且可拆卸连接在端盖上;第一输液软管一端穿过硬质套管伸入搅拌缸的底部、另一端分支为第一支管和第二支管;第一支管与蠕动泵的进料口连通;回液循环泵安装在端盖上,第二支管、循环过滤装置、第二输液软管、回液循环泵和搅拌缸依次连通。上述装置解决了卡死问题,提高了研磨质量。
  • 一种循环过滤磷化研磨稳定装置
  • [实用新型]一种超薄Ge单晶衬底双面清洗装置-CN202122593967.3有效
  • 刘桂勇;周锐;柯尊斌;王辉 - 中锗科技有限公司
  • 2021-10-27 - 2022-03-11 - B08B3/02
  • 本实用新型公开了一种超薄Ge单晶衬底双面清洗装置,包括承载结构、清洗槽、上表面清洗结构和下表面清洗结构;承载结构位于清洗槽内侧;承载结构包括旋转轴、托盘和固定销;旋转轴竖直设置,旋转轴为中空结构;托盘安装在旋转轴顶部;固定销沿托盘周边均布,所有固定销头部均呈一阶台阶状、形成支撑台;上表面清洗结构包括伸缩臂、上表面药液喷洒管和上表面水冲管;上表面药液喷洒管和上表面水冲管均集成在伸缩臂上;下表面清洗结构包括下表面药液喷洒管和下表面水冲管;下表面药液喷洒管的出水端和下表面水冲管的出水端均穿过旋转轴、并穿出托盘的上表面。上述装置实现了上下表面的同时清洗,提高了腐蚀的均匀性和一致性,提高了清洗效果和效率。
  • 一种超薄ge衬底双面清洗装置
  • [实用新型]一种用于包皮环切的手术套件-CN201920582896.7有效
  • 刘桂勇;邱莉莉;陈志远;刘修恒;魏少忠;郑新民;陈爱民;黄书岚;万齐福;宋洪飞 - 刘桂勇
  • 2019-04-26 - 2020-03-17 - A61B17/326
  • 本实用新型涉及一种用于包皮环切的手术套件,属于医疗器械领域。由安全帽、包皮钳和手术钳组成,所述安全帽由中空的圆柱状筒体和筒体外周上的一圈凸起组成,所述筒体用于放置在龟头和包皮之间,所述凸起与阴茎冠状沟平行,距离阴茎冠状沟越5‑8毫米;所述的包皮钳两个卡口合在一起形成椭圆柱筒状,用于将牵拉好的包皮固定在安全帽上;所述手术钳两个卡口合在一起形成椭圆柱筒状,两个卡口中间有凹槽,凹槽内有电切丝或激光光纤,卡口闭合状态下,对凸起上的包皮进行等离子或激光环切。本实用新型沿着安全帽上的凸起切除过长包皮,既不会残留过多过长的包皮,也不会过多切除包皮,手术操作方便。
  • 一种用于包皮手术套件
  • [发明专利]双面抛光机与抛光方法-CN201810996937.7在审
  • 王乐军;李琳琳;宋士佳;彭东阳;刘桂勇;姜宏 - 东泰高科装备科技(北京)有限公司
  • 2018-08-29 - 2020-03-10 - B24B27/00
  • 本发明提供了一种双面抛光机与抛光方法。该双面抛光机包括机架、上抛光盘、下抛光盘、中心齿轮、外齿轮和驱动组件,上抛光盘、下抛光盘、中心齿轮、外齿轮分别独立地设置于机架上,中心齿轮设置于外齿轮的中心位置处,中心齿轮与外齿轮之间具有容纳空间,用于啮合放置晶片的游星轮,容纳空间位于上抛光盘与下抛光盘之间,驱动组件包括:第一驱动装置,设置于机架上并与上抛光盘连接,用于驱动上抛光盘转动;第二驱动装置,设置于机架上并与下抛光盘连接,用于驱动下抛光盘与上抛光盘同向转动;第三驱动装置,设置于机架上并与中心齿轮连接,用于驱动中心齿轮转动;第四驱动装置,设置于机架上并与外齿轮连接,用于驱动外齿轮转动。
  • 双面抛光机抛光方法
  • [发明专利]游星轮与抛光方法-CN201810997467.6在审
  • 王乐军;宋士佳;李琳琳;彭东阳;刘桂勇;姜宏 - 东泰高科装备科技(北京)有限公司
  • 2018-08-29 - 2020-03-10 - B24B37/08
  • 本申请提供了一种游星轮与抛光方法。该游星轮不具有通孔且不具有凹槽,游星轮侧面具有多个周向排列的齿轮。的游星轮不具有放置晶片或者固定基板的凹槽或者通孔,将其应用在双面抛光机中,对只需要单面抛光的晶片进行抛光时,晶片的需要抛光的表面裸露,不需要抛光的表面设置在游星轮的表面上,被游星轮保护,这样既能使得需要抛光的表面可以利用双面抛光机的一个抛光盘进行抛光,进一步保证了该表面抛光后的粗糙度以及TTV均能满足要求,同时也能保证不需要抛光的表面没有被损坏。
  • 游星抛光方法

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