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- [发明专利]各向异性导电膜的制造方法-CN202110420313.2有效
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三宅健;塚尾怜司;深谷达朗
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迪睿合株式会社
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2017-10-18
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2023-10-20
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H01R11/01
- 本发明提供一种各向异性导电膜，其能够减少进行了各向异性导电连接的连接结构体的导通电阻，并且能够确实地抑制短路发生，所述各向异性导电膜具有在绝缘性树脂层(5)中分散有带有绝缘粒子的导电粒子(3)的结构，所述带有绝缘粒子的导电粒子(3)中，在导电粒子(1)的表面附着有绝缘粒子(2)。关于各向异性导电膜中的带有绝缘粒子的导电粒子(3)，与导电粒子(1)在膜厚方向上接触的绝缘粒子(2)的个数比与导电粒子(1)在膜面方向上接触的绝缘粒子(2)的个数少。在各向异性导电性膜的表背面中的一方的膜面的俯视观察时与导电粒子重合的绝缘粒子的个数优选比在另一方的膜面的俯视观察时与导电粒子重合的绝缘粒子的个数少。
- 各向异性导电制造方法
- [发明专利]含填料膜-CN202211291848.5在审
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塚尾怜司;三宅健
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迪睿合株式会社
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2017-08-31
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2023-04-25
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C08J7/04
- 在树脂层中分散有填料的含填料膜，其中，含填料膜与物品压接时，因树脂层不必要地流动所致的填料的流动得到抑制。该含填料膜10A具有：在树脂层2中分散有填料1的填料分散层3。填料l附近的树脂层2的表面相对于相邻填料l间的中央部处树脂层2的切面具有凹陷2b、2c。树脂层2的层厚La与填料l的粒径D之比(La/D)优选为0.6~10，填料l的最深部距树脂层2的形成有凹陷2b、2c的表面的相邻填料l间的中央部处切面的距离Lb与填料的粒径D之比(Lb/D)优选为60%以上且105%以下。
- 填料
- [发明专利]曝光装置及曝光方法-CN202180021552.9在审
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三宅健;高木俊博
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三荣技研股份有限公司
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2021-03-22
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2022-11-11
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G03F7/20
- 提供能够进行高精度的电路描绘的曝光装置及曝光方法。曝光装置具备：描绘头(4X)，其相对于基板载台(5)向规定方向相对移动而在基板(10)上描绘电路；基准标记(9C)，其与所述基板载台(5)一体设置；基板位置检测单元(6)，其相对于所述基板载台(5)向所述规定方向相对移动而读取所述基板(10)上的位置标记(10a)；及描绘头位置检测单元(8)，其与所述基板载台(5)一体设置，所述描绘头位置检测单元(8)基于将所述基准标记(9C)与来自所述描绘头(4X)的光束(4a)重叠地读取的结果来对描绘头坐标系进行校正，所述基板位置检测单元(6)基于读取所述基准标记(9C)的结果对基板位置检测坐标系进行校正，从而使所述描绘头坐标系与所述基板位置检测坐标系相互一致。
- 曝光装置方法
- [发明专利]各向异性导电膜-CN201780062727.4有效
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三宅健;塚尾怜司;深谷达朗
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迪睿合株式会社
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2017-10-18
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2021-05-07
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H01R11/01
- 本发明提供一种各向异性导电膜，其能够减少进行了各向异性导电连接的连接结构体的导通电阻，并且能够确实地抑制短路发生，所述各向异性导电膜具有在绝缘性树脂层(5)中分散有带有绝缘粒子的导电粒子(3)的结构，所述带有绝缘粒子的导电粒子(3)中，在导电粒子(1)的表面附着有绝缘粒子(2)。关于各向异性导电膜中的带有绝缘粒子的导电粒子(3)，与导电粒子(1)在膜厚方向上接触的绝缘粒子(2)的个数比与导电粒子(1)在膜面方向上接触的绝缘粒子(2)的个数少。在各向异性导电性膜的表背面中的一方的膜面的俯视观察时与导电粒子重合的绝缘粒子的个数优选比在另一方的膜面的俯视观察时与导电粒子重合的绝缘粒子的个数少。
- 各向异性导电
- [发明专利]曝光装置、曝光方法-CN201480017126.8有效
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三宅健;高木俊博
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三荣技研股份有限公司
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2014-03-24
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2017-07-11
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G03F7/20
- 本发明提供能够以简单的结构遍及基板的曝光面整个区域稳定地成像的曝光技术。对柔性的带状基板S进行曝光的曝光装置具备两个夹持部(20)，其具备由透光性的构件形成且具有呈平坦面的透过部、并且通过各个平坦面能够夹持基板的第一夹持部(20a)以及第二夹持部(20b)；第一移动部(50)，其使两个夹持部(20)在接近的方向以及远离的方向上移动；第一曝光部(30)，其在第一夹持部(20a)的一侧固定位置；第二曝光部(40)，其配置在第二夹持部(20b)的一侧；以及第二移动部(60)，其在基板的夹持状态下，使两个夹持部与两个曝光部相对移动。曝光装置在夹持状态下，在将两个夹持部(20)的各自的平坦面与两个曝光部的距离保持为固定的同时，使第一以及第二夹持部(20a、20b)移动，从而将基板在长度方向上搬运，并经由两个夹持部(20)的透过部在基板的两面上同时曝光。
- 曝光装置方法
- [发明专利]层压装置-CN201480070611.1有效
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三宅健;高木俊博
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三荣技研股份有限公司
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2014-12-03
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2017-05-24
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B29C63/02
- 在层压装置中，改善压接辊相对于基板以及薄膜的按压力的均匀性。层压装置具备第一压接辊以及比第一压接辊靠上方配置的第二压接辊，该第二压接辊构成为能够向接近第一压接辊的方向(第一方向)以及远离第一压接辊的方向(第二方向)移动。层压装置还具备支承辊，其用于在比第一压接辊靠下方的位置支承第一压接辊；加压辊，其设于比第二压接辊靠上方的位置，该加压辊构成为能够向第一方向以及第二方向移动，并且构成为通过向第一方向移动而能够向第一压接辊侧按压第二压接辊；以及驱动机构，其用于使加压辊向第一方向以及第二方向移动。
- 层压装置
- [发明专利]曝光装置、曝光方法-CN201310228361.7无效
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三宅健;高木俊博
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三荣技研股份有限公司
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2013-06-08
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2014-01-01
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G03F7/20
- 本发明是提高曝光技术的生产性的曝光装置和曝光方法。曝光装置具备：第一移动部，其具备保持基板的第一基板保持部，并使第一基板保持部在第一待机位置与供基板以曝光面朝向第一方向的状态配置的第一曝光位置之间移动；第二移动部，其具备保持基板的第二基板保持部，并使第二基板保持部在第二待机位置与将保持在第二基板保持部的基板以曝光面朝向第一方向的状态且与第一曝光位置的基板的曝光面在同第一方向正交的第二方向上并列的状态配置的第二曝光位置之间移动；曝光部，其具备能够沿着引导件在第一曝光位置与第二曝光位置之间移动的曝光头，并对配置在第一曝光位置的基板和配置在第二曝光位置的基板进行选择性曝光，该引导件沿着第二方向配置。
- 曝光装置方法
- [发明专利]曝光装置和曝光方法-CN201010570701.0无效
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三宅健;高木俊博
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三荣技研股份有限公司
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2010-10-08
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2011-05-18
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G03F7/20
- 本发明公开一种曝光装置，其中基板(1)支撑于基板支撑构件(2)上。在投影光学系统(3)和基板(1)之间，设置刚性的光透过性构件(4)。光透过性构件(4)具有与基板(1)的曝光面(1a)面对的平面(4a)。平面(4a)按照与投影光学系统(3)的成像面一致的方式定位。设置驱动机构(5)，其用于使基板支撑构件(2)移动，以便相对光透过性构件(4)的平面(4a)，使曝光面(1a)紧贴和离开。从而在不采用对焦功能的情况下，以良好的精度，在表面平坦性差的基板的曝光面上，进行所需的成像。
- 曝光装置方法
- [发明专利]曝光装置-CN201010176146.3有效
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三宅健;高木俊博
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三荣技研股份有限公司
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2010-05-05
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2010-11-17
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G03F7/20
- 本发明提供一种能够维持高生产性且减少设备费的曝光装置。曝光装置包括：相互相邻且平行配置的一对曝光单元(1、2)；该一对曝光单元(1、2)分别共用的光源机构(3)。曝光单元(1、2)分别具备：用于将带状基板(4)沿其长度方向间歇性地传送的传送机构(5、6、7、8)；成为配置在带状基板(4)的传送路径上的曝光部(9)，并至少具有一个光掩膜(10)的曝光部(9)。为了将绘制在光掩膜(10)上的图案向带状基板(4)的曝光面上转印，光源机构(3)形成为能够向一对曝光单元(1、2)中的各曝光部(9)交替地照射光。
- 曝光装置
- [发明专利]光源-CN201010176036.7无效
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三宅健
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三荣技研股份有限公司
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2010-05-05
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2010-11-10
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F21S2/00
- 本发明利用多个面发光元件而提供一种以廉价的配线来高效率发光的光源。光源含有集合排列在平面内的多个发光模块(1a、1b、1c)而构成。各个发光模块(1a、1b、1c)具备：集合排列在平面内的多个面发光元件、和将该发光元件收容在内部的壳体。壳体与面发光元件电连接并形成用于向该面发光元件提供电力的电气路径。多个发光模块(1a、1b、1c)被分为多个组，属于各组的多个发光模块(1a、1b、1c)相互串联电连接而被提供电力。
- 光源
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