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- [发明专利]曝光装置及曝光方法-CN202180021552.9在审
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三宅健;高木俊博
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三荣技研股份有限公司
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2021-03-22
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2022-11-11
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G03F7/20
- 提供能够进行高精度的电路描绘的曝光装置及曝光方法。曝光装置具备：描绘头(4X)，其相对于基板载台(5)向规定方向相对移动而在基板(10)上描绘电路；基准标记(9C)，其与所述基板载台(5)一体设置；基板位置检测单元(6)，其相对于所述基板载台(5)向所述规定方向相对移动而读取所述基板(10)上的位置标记(10a)；及描绘头位置检测单元(8)，其与所述基板载台(5)一体设置，所述描绘头位置检测单元(8)基于将所述基准标记(9C)与来自所述描绘头(4X)的光束(4a)重叠地读取的结果来对描绘头坐标系进行校正，所述基板位置检测单元(6)基于读取所述基准标记(9C)的结果对基板位置检测坐标系进行校正，从而使所述描绘头坐标系与所述基板位置检测坐标系相互一致。
- 曝光装置方法
- [发明专利]曝光装置、曝光方法-CN201480017126.8有效
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三宅健;高木俊博
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三荣技研股份有限公司
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2014-03-24
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2017-07-11
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G03F7/20
- 本发明提供能够以简单的结构遍及基板的曝光面整个区域稳定地成像的曝光技术。对柔性的带状基板S进行曝光的曝光装置具备两个夹持部(20)，其具备由透光性的构件形成且具有呈平坦面的透过部、并且通过各个平坦面能够夹持基板的第一夹持部(20a)以及第二夹持部(20b)；第一移动部(50)，其使两个夹持部(20)在接近的方向以及远离的方向上移动；第一曝光部(30)，其在第一夹持部(20a)的一侧固定位置；第二曝光部(40)，其配置在第二夹持部(20b)的一侧；以及第二移动部(60)，其在基板的夹持状态下，使两个夹持部与两个曝光部相对移动。曝光装置在夹持状态下，在将两个夹持部(20)的各自的平坦面与两个曝光部的距离保持为固定的同时，使第一以及第二夹持部(20a、20b)移动，从而将基板在长度方向上搬运，并经由两个夹持部(20)的透过部在基板的两面上同时曝光。
- 曝光装置方法
- [发明专利]层压装置-CN201480070611.1有效
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三宅健;高木俊博
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三荣技研股份有限公司
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2014-12-03
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2017-05-24
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B29C63/02
- 在层压装置中，改善压接辊相对于基板以及薄膜的按压力的均匀性。层压装置具备第一压接辊以及比第一压接辊靠上方配置的第二压接辊，该第二压接辊构成为能够向接近第一压接辊的方向(第一方向)以及远离第一压接辊的方向(第二方向)移动。层压装置还具备支承辊，其用于在比第一压接辊靠下方的位置支承第一压接辊；加压辊，其设于比第二压接辊靠上方的位置，该加压辊构成为能够向第一方向以及第二方向移动，并且构成为通过向第一方向移动而能够向第一压接辊侧按压第二压接辊；以及驱动机构，其用于使加压辊向第一方向以及第二方向移动。
- 层压装置
- [发明专利]曝光装置、曝光方法-CN201310228361.7无效
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三宅健;高木俊博
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三荣技研股份有限公司
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2013-06-08
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2014-01-01
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G03F7/20
- 本发明是提高曝光技术的生产性的曝光装置和曝光方法。曝光装置具备：第一移动部，其具备保持基板的第一基板保持部，并使第一基板保持部在第一待机位置与供基板以曝光面朝向第一方向的状态配置的第一曝光位置之间移动；第二移动部，其具备保持基板的第二基板保持部，并使第二基板保持部在第二待机位置与将保持在第二基板保持部的基板以曝光面朝向第一方向的状态且与第一曝光位置的基板的曝光面在同第一方向正交的第二方向上并列的状态配置的第二曝光位置之间移动；曝光部，其具备能够沿着引导件在第一曝光位置与第二曝光位置之间移动的曝光头，并对配置在第一曝光位置的基板和配置在第二曝光位置的基板进行选择性曝光，该引导件沿着第二方向配置。
- 曝光装置方法
- [发明专利]曝光装置和曝光方法-CN201010570701.0无效
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三宅健;高木俊博
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三荣技研股份有限公司
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2010-10-08
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2011-05-18
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G03F7/20
- 本发明公开一种曝光装置，其中基板(1)支撑于基板支撑构件(2)上。在投影光学系统(3)和基板(1)之间，设置刚性的光透过性构件(4)。光透过性构件(4)具有与基板(1)的曝光面(1a)面对的平面(4a)。平面(4a)按照与投影光学系统(3)的成像面一致的方式定位。设置驱动机构(5)，其用于使基板支撑构件(2)移动，以便相对光透过性构件(4)的平面(4a)，使曝光面(1a)紧贴和离开。从而在不采用对焦功能的情况下，以良好的精度，在表面平坦性差的基板的曝光面上，进行所需的成像。
- 曝光装置方法
- [发明专利]曝光装置-CN201010176146.3有效
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三宅健;高木俊博
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三荣技研股份有限公司
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2010-05-05
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2010-11-17
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G03F7/20
- 本发明提供一种能够维持高生产性且减少设备费的曝光装置。曝光装置包括：相互相邻且平行配置的一对曝光单元(1、2)；该一对曝光单元(1、2)分别共用的光源机构(3)。曝光单元(1、2)分别具备：用于将带状基板(4)沿其长度方向间歇性地传送的传送机构(5、6、7、8)；成为配置在带状基板(4)的传送路径上的曝光部(9)，并至少具有一个光掩膜(10)的曝光部(9)。为了将绘制在光掩膜(10)上的图案向带状基板(4)的曝光面上转印，光源机构(3)形成为能够向一对曝光单元(1、2)中的各曝光部(9)交替地照射光。
- 曝光装置
- [发明专利]光源-CN201010176036.7无效
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三宅健
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三荣技研股份有限公司
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2010-05-05
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2010-11-10
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F21S2/00
- 本发明利用多个面发光元件而提供一种以廉价的配线来高效率发光的光源。光源含有集合排列在平面内的多个发光模块(1a、1b、1c)而构成。各个发光模块(1a、1b、1c)具备：集合排列在平面内的多个面发光元件、和将该发光元件收容在内部的壳体。壳体与面发光元件电连接并形成用于向该面发光元件提供电力的电气路径。多个发光模块(1a、1b、1c)被分为多个组，属于各组的多个发光模块(1a、1b、1c)相互串联电连接而被提供电力。
- 光源
- [发明专利]曝光方法及曝光装置-CN200780052925.9有效
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三宅健;高木俊博
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三荣技研股份有限公司
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2007-08-10
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2010-03-03
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G03F7/20
- 本发明提供一种曝光方法及曝光装置。使基板(1)固定支承于四边基板支承构件(11)。将绘有图形的光掩模(2)配置于基板(1)的覆盖感光层的位置。通过光掩模(2)将光照射到基板(1)的感光层从而将图形转印到基板上。曝光时，光掩模(2)和基板(1)互相均匀地接触，并且使基板支承构件(11)及基板(1)变形为期望的弯曲形状的状态。基板支承构件(11)以沿与互相对置的第一对侧缘部相同的方向上延伸的第一轴，和沿与互相对置的第二对侧缘部相同的方向上延伸的第二轴为中心，一边分别控制弯曲量，基板支承构件(11)一边与基板(1)共同弯曲。由此，图形的尺寸实质地变化而转印到基板(1)上。
- 曝光方法装置
- [发明专利]曝光装置-CN200510078325.2有效
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三宅健;今西贤
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三荣技研股份有限公司
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2005-05-12
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2005-11-30
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H05K3/06
- 一种通过消除曝光时带状基板因自重向下弯曲而产生的不良，对带状基板和光掩模高精度地进行位置对准，从而提供均匀品质的产品的曝光装置。该曝光装置沿带状基板(1)的长度方向一边间歇地送给带状基板(1)、一边每隔规定长度区域进行曝光。通过驱动装置(19)，使具有附着感光材料的曝光面的柔性带状基板1在抽出用卷盘(14)和卷绕用卷盘(15)之间移动。在抽出用卷盘(14)和卷绕用卷盘(15)之间形成带状基板(1)成为垂直状态的垂直路径。在垂直路径设置曝光部。曝光部具有光掩模(21、22)。通过来自光源的光将光掩模(21、22)上绘制的图形转印到带状基板(1)的曝光面上。
- 曝光装置
- [发明专利]层压装置以及层压方法-CN200410007073.X无效
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三宅荣一;三宅健
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三荣技研股份有限公司
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2004-02-27
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2004-09-08
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B29C43/30
- 一种层压装置以及层压方法，层压装置包括基板运送机构。基板运送机构具有上下一对薄膜传送带(7、8)。一对薄膜传送带(7、8)，将在表面保持有薄膜状材料的基板8保持在其间并可沿长方向移动。一对薄膜传送带(7、8)，通过边受到延长方向的张力边移动，而将基板8相对于压制部运入以及运出。层压装置，包括用于在压制部挟持基板并加压的上侧以及下侧加压块(10、11)。在各上侧以及下侧加压块(10、11)上，具有用于向一对薄膜传送带(7、8)施加沿横方向的张力的张力施加机构(24、25)。这种层压装置，使运送基板的薄膜传送带的纵向皱折不妨碍基板上的薄膜状材料的平整度。
- 层压装置以及方法
- [发明专利]压力装置及方法-CN200310101498.2无效
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三宅健
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三荣技研股份有限公司
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2003-10-21
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2004-05-19
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H05K3/00
- 一种压力装置及方法，该压力装置，具有由上侧及下侧壳体部件(2、3)构成的真空腔1。在真空腔(1)内配置具有加热板(14、17)的上侧及下侧加压块(12、13)。表面支撑有薄膜状材料的基板(10)被在上侧及下侧加压块之间进行加压。在上侧及下侧加压块(12、13)中至少一方设有加压体(20)。加压体(20)通过向其内部空间内导入加压流体而其上下面可以沿上下方向移动。基板(10)的加压通过加压体(20)的上下面的移动进行。由设成刚性结构状态的、上侧及下侧加压块(12、13)的驱动机构(1)支撑加压力的反力。其使薄膜状材料不会残留气泡地嵌入并密着在基板表面的较深的凹部或孔内，且使薄膜材料平坦化。
- 压力装置方法
- [发明专利]压力装置-CN03154394.4无效
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三宅健
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三荣技研股份有限公司
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2003-08-21
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2004-03-31
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B29C43/18
- 一种压力装置，该压力装置具有下侧加压块(30)与上侧加压块(16)。在下侧加压块(30)与上侧加压块(16)之间搬入表面保持有薄膜状材料(12)的基板(11)。第1驱动装置(35)使下侧加压块(30)移动、向上侧加压块(16)上升，在双方的加压块之间对基板(11)及薄膜状材料(12)加压而使其紧密层压。具有驱动缸(25)、缸杆(26)及杠杆(27)的第2驱动装置(24)被设在基座部件(13)与支撑上侧加压块(16)的上侧支撑部件(17)之间。通过使第2驱动装置(24)动作来使上侧加压块(16)产生转动，从而可扩大下侧加压块(30)与上侧加压块(16)之间的空间，使维护保养变得容易。
- 压力装置
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