专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]成膜方法及成膜装置-CN201980002549.5有效
  • 须田具和;高桥明久 - 株式会社爱发科
  • 2019-05-31 - 2022-11-01 - C23C14/35
  • 本发明的成膜方法通过在靶的背面侧配置被构造为能够沿与所述靶的背面平行的第一方向移动的多个磁路的同时,在所述靶的正面侧配置基板,并且利用磁控溅射法来进行成膜,其中各磁路具备:环状磁铁;和中心磁铁,配置在该环状磁铁的内侧,所述中心磁铁的与所述靶的背面相对的面的极性与所述环状磁铁的极性不同,在所述靶的正面侧,由所述磁路产生的磁场中的与所述基板的正面垂直的成分为0的磁场在所述环状磁铁与所述中心磁铁之间形成为环状,所述磁路在所述第一方向上以第一移动距离L1和与所述第一移动距离L1不同的第二移动距离L2摇动,控制所述L1和所述L2在所述磁路移动的单位时间内所占的比率。
  • 方法装置
  • [发明专利]真空处理装置-CN202210309507.X在审
  • 松崎淳介;高桥明久;水岛优 - 株式会社爱发科
  • 2018-06-13 - 2022-07-05 - H01J37/32
  • 在使用多个基板保持器的通过型真空处理装置中,效率良好地对基板的两个表面进行处理,实现装置的小型化以及构成的简单化。运送通路具有将基板保持器(11)分别以水平状态向第一运送方向(P1)运送的往路侧运送部(33a)、向与第一运送方向(P1)相反的第二运送方向(P2)运送的返路侧运送部(33c)、从往路侧运送部(33a)朝向返路侧运送部(33c)的运送折返部(30B),借助基板保持器运送机构(3)的第一驱动部(36)运送基板保持器(11)。将具有第二驱动部(46)的方向转换机构(40)设置在运送折返部(30B)的附近。使基板保持器运送机构(3)的第一驱动部(36)和方向转换机构(40)的第二驱动部(46)同步而动作,将第一以及第二被驱动轴(12、13)沿方向转换机构(40)的第一以及第二方向转换通路(51、52)分别引导运送,将基板保持器(11)在维持了上下关系的状态下从往路侧运送部(33a)向返路侧运送部(33c)交付。
  • 真空处理装置
  • [发明专利]HBC型晶体太阳能电池的制造方法-CN201710468365.0有效
  • 松崎淳介;高桥明久;齐藤一也;浅利伸;大園修司;铃木英夫;山口昇 - 株式会社爱发科
  • 2017-06-20 - 2022-04-26 - H01L31/0224
  • 本发明涉及HBC型晶体太阳能电池的制造方法以及HBC型晶体太阳能电池。该制造方法使用由第一导电型的晶体硅构成的基板,且依次包括:单独或者同时地形成i型的非晶Si层α和i型的非晶Si层β的工序;形成光致抗蚀剂的工序;通过利用掩模的离子注入法,将导电型与第一导电型相同的部位A以及导电型与第一导电型不同的部位B,以内部存在于非晶Si层β并且在该非晶Si层β的外表面侧暴露出一部分的方式,形成在通过光致抗蚀剂而相互分隔的位置的工序;对离子注入后的非晶Si层β进行退火处理的工序;以覆盖位于非晶Si层β的外表面侧的部位A、部位B以及光致抗蚀剂的方式来形成导电性部件的工序;以及去除被导电性部件覆盖的光致抗蚀剂的工序。
  • hbc晶体太阳能电池制造方法
  • [发明专利]真空处理装置-CN201880036045.0有效
  • 松崎淳介;高桥明久;水岛优 - 株式会社爱发科
  • 2018-06-13 - 2022-03-22 - C23C14/56
  • 在使用多个基板保持器的通过型真空处理装置中,效率良好地对基板的两个表面进行处理,实现装置的小型化以及构成的简单化。运送通路具有将基板保持器(11)分别以水平状态向第一运送方向(P1)运送的往路侧运送部(33a)、向与第一运送方向(P1)相反的第二运送方向(P2)运送的返路侧运送部(33c)、从往路侧运送部(33a)朝向返路侧运送部(33c)的运送折返部(30B),借助基板保持器运送机构(3)的第一驱动部(36)运送基板保持器(11)。将具有第二驱动部(46)的方向转换机构(40)设置在运送折返部(30B)的附近。使基板保持器运送机构(3)的第一驱动部(36)和方向转换机构(40)的第二驱动部(46)同步而动作,将第一以及第二被驱动轴(12、13)沿方向转换机构(40)的第一以及第二方向转换通路(51、52)分别引导运送,将基板保持器(11)在维持了上下关系的状态下从往路侧运送部(33a)向返路侧运送部(33c)交付。
  • 真空处理装置
  • [发明专利]树脂膜的形成方法及树脂膜的成膜装置-CN201880004427.5有效
  • 青代信;清健介;高桥明久 - 株式会社爱发科
  • 2018-02-20 - 2022-03-04 - C23C14/04
  • 本发明的树脂膜的形成方法使用掩模主体由金属材料构成且具备规定的开口部的掩模,在减压气氛下在基板上形成树脂膜,所述树脂膜的形成方法依次具备:第一工序,在减压气氛下,以与载置在经冷却的支撑台上的所述基板相接的方式设置所述掩模,并且经由该掩模供给经气化的树脂材料并在该基板上冷凝,从而在该基板上形成液态的树脂材料膜;第二工序,从所述基板剥离所述掩模;第三工序,对所述掩模上的树脂材料膜进行热处理,从而使该树脂材料膜蒸发;及第四工序,对残留在所述基板上的树脂材料膜照射UV光,使该树脂材料膜硬化而形成树脂膜。
  • 树脂形成方法装置
  • [发明专利]树脂膜形成方法以及掩膜-CN201880003976.0有效
  • 青代信;清健介;高桥明久 - 株式会社爱发科
  • 2018-02-20 - 2021-11-12 - C23C14/12
  • 本发明的树脂膜形成方法为在基板上形成图案化的树脂膜的方法,至少按顺序具备:第一工序,使用掩膜主体具有可挠性支撑部与粘结部重叠的结构的掩膜,以使所述粘结部相对于所述基板相接的方式来设置所述掩膜;第二工序,通过设置在所述掩膜主体的开口部,将汽化的树脂材料供给到所述基板并使其在该基板上凝缩,当在该基板上形成液状的树脂材料膜之后,对该树脂材料膜和所述掩膜照射UV光;以及第三工序,将所述掩膜从所述基板剥离。
  • 树脂形成方法以及
  • [发明专利]成膜装置和成膜方法-CN201880035302.9有效
  • 须田具和;高桥明久;织井雄一;箱守宗人 - 株式会社爱发科
  • 2018-02-19 - 2021-08-31 - C23C14/34
  • 本发明所解决的技术问题为使水蒸气分压稳定,使透明导电膜的膜质更稳定。一种成膜装置,具有第1真空室、气体供给源、成膜源以及控制装置。在上述第1真空室中,维持减压状态、能够送入送出保持基板的载体。上述气体供给源能够对上述第1真空室供给水蒸气气体。上述成膜源配置在上述第1真空室,能够产生形成在上述基板的透明导电膜的材料。上述控制装置在上述透明导电膜形成在上述基板时,将上述第1真空室的水蒸气分压控制在第1分压以上且比上述第1分压高的第2分压以下的范围。
  • 装置方法
  • [发明专利]成膜方法和成膜装置-CN201680031933.4有效
  • 加藤裕子;矢岛贵浩;远山佳宏;青代信;清健介;高桥明久;斋藤一也 - 株式会社爱发科
  • 2016-06-07 - 2020-12-18 - C23C14/24
  • 本发明提供一种能够稳定地形成具有所期望的膜质和图案形状的树脂层的成膜方法和成膜装置。本发明一方式所涉及的成膜方法在维持在减压气氛的腔室内,将基板(W)冷却到第1温度以下,从气体供给部(13)向基板(W)的表面供给原料气体(G),其中所述原料气体(G)含有能量线硬化性树脂,且在上述第1温度以下能够液化,将掩膜部件(16)与基板(W)的表面相向配置,其中所述掩膜部件(16)被维持在比上述第1温度高的第2温度,且具有规定的开口图案,向基板(W)的表面照射能量线。
  • 方法装置
  • [发明专利]成膜装置-CN202010542182.0在审
  • 松崎淳介;高桥明久;水岛优 - 株式会社爱发科
  • 2017-11-06 - 2020-09-11 - C23C14/56
  • 提供使用多个基板保持器、对基板的两面能够高效率地成膜、小型且结构简单的通过型的成膜装置。在真空槽(2)内具备对保持于基板保持器的基板(10)上进行成膜的第1及第2成膜区域(4、5)、相对于铅垂面的投影形状形成为连续的环状地设置成通过第1及第2成膜区域的搬运路径、在使多个基板保持器水平的状态下沿搬运路径搬运的基板保持器搬运机构。基板保持器搬运机构具备与设置于各基板保持器的被驱动部接触而使基板保持器向移动方向推压来移动的多个驱动部,该驱动部关于相邻的基板保持器,以移动方向下游侧的基板保持器的移动方向上游侧的端部、移动方向上游侧的基板保持器的移动方向下游侧的端部接近的状态在第1及第2成膜区域搬运。
  • 装置
  • [发明专利]成膜装置-CN201780067947.6有效
  • 松崎淳介;高桥明久;水岛优 - 株式会社爱发科
  • 2017-11-06 - 2020-05-22 - C23C14/56
  • 提供使用多个基板保持器、对基板的两面能够高效率地成膜、小型且结构简单的通过型的成膜装置。在真空槽(2)内具备对保持于基板保持器(11)的基板(10)上进行成膜的第1及第2成膜区域(4、5)、相对于铅垂面的投影形状形成为连续的环状地设置成通过第1及第2成膜区域(4、5)的搬运路径、在使多个基板保持器(11)水平的状态下沿搬运路径搬运的基板保持器搬运机构(3)。基板保持器搬运机构(3)具备与设置于各基板保持器(11)的被驱动部接触而使基板保持器(11)向移动方向推压来移动的多个驱动部,该驱动部关于相邻的基板保持器(11),以移动方向下游侧的基板保持器(11)的移动方向上游侧的端部、移动方向上游侧的基板保持器(11)的移动方向下游侧的端部接近的状态在第1及第2成膜区域(4、5)搬运。
  • 装置

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