“铃木英夫”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果35个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]杂环化合物-CN201880036933.2有效
发明人：高见和明;濑户雅树;佐佐木忍;安藤春阳;荻野正树;大桥朋子;今枝稔博;藤森郁男;月见泰博;山田昌美;下川贤一郎;若林健志;村上正鹰;伏见真;大川友洋;米森仁一;大桥知洋;铃木英夫;前崎博信;佐藤步;浅野恭臣;S·斯旺 -专利权人：武田药品工业株式会社
申请日： 2018-06-19 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： C07D491/048 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供能够对于便秘等的预防或治疗有用的化合物。本发明提供下述式(I)[式中的各符号如说明书所述]所示的化合物或其盐。
杂环化合物

[发明专利]HBC型晶体太阳能电池的制造方法-CN201710468365.0有效
发明人：松崎淳介;高桥明久;齐藤一也;浅利伸;大園修司;铃木英夫;山口昇 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2017-06-20 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： H01L31/0224 文献下载
摘要：本发明涉及HBC型晶体太阳能电池的制造方法以及HBC型晶体太阳能电池。该制造方法使用由第一导电型的晶体硅构成的基板，且依次包括：单独或者同时地形成i型的非晶Si层α和i型的非晶Si层β的工序；形成光致抗蚀剂的工序；通过利用掩模的离子注入法，将导电型与第一导电型相同的部位A以及导电型与第一导电型不同的部位B，以内部存在于非晶Si层β并且在该非晶Si层β的外表面侧暴露出一部分的方式，形成在通过光致抗蚀剂而相互分隔的位置的工序；对离子注入后的非晶Si层β进行退火处理的工序；以覆盖位于非晶Si层β的外表面侧的部位A、部位B以及光致抗蚀剂的方式来形成导电性部件的工序；以及去除被导电性部件覆盖的光致抗蚀剂的工序。
hbc 晶体太阳能电池制造方法

[发明专利]背接触型太阳能电池单元的制造方法-CN202080020684.5在审
发明人：铃木绍太;马尔万·达姆林;山口升;铃木英夫 -专利权人：东洋铝株式会社;株式会社爱发科
申请日： 2020-03-13 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：提供背接触型太阳能电池单元的制造方法，能够以比现有制造方法少的工序数实施。本发明是背接触型太阳能电池单元的制造方法，依次有：在结晶硅基板(10)背面形成氧化膜(20)的工序(A)；在所述氧化膜(20)的暴露面形成硅薄膜层(30A)的工序(B)；在所述硅薄膜层(30A)以用机械硬掩模的离子注入法及活化退火局部形成n+层(40)的工序(C)；在经所述工序(C)所得具有所述氧化膜(20)、所述硅薄膜层(30B)及所述n+层(40)的所述结晶硅基板(10)两面形成钝化膜(50)的工序(D)；将形成于所述结晶硅基板(10)背面侧的所述钝化膜(50)的未覆盖所述n+层(40)的区域局部去除，在暴露的所述硅薄膜层(30B)形成一或多个铝电极(60B)的工序(E)。
接触太阳能电池单元制造方法

[发明专利]背接触型太阳能电池单元的制造方法-CN202080020891.0在审
发明人：铃木绍太;马尔万·达姆林;山口升;铃木英夫 -专利权人：东洋铝株式会社
申请日： 2020-03-13 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明提供一种背接触型太阳能电池单元的制造方法，该方法能够以比现有的制造方法更少的工序数进行实施。本发明涉及一种背接触型太阳能电池单元的制造方法，其依次具有以下工序：通过使用了机械硬掩模的离子注入法及活化退火，在结晶硅基板的背面，部分形成n+层(20)的工序(A)；在所述工序(A)中得到的具有所述n+层(20)的所述结晶硅基板(10)的两面形成钝化膜(40)的工序(B)；及，将形成在所述结晶硅基板(10)的背面侧的所述钝化膜(40)中直接覆盖了所述结晶硅基板(10)的区域的一部分或全部去除，在露出的所述结晶硅基板(50)上形成一个或多个铝电极(60B)的工序(C)。
接触太阳能电池单元制造方法

[发明专利]针板拆装机构以及具备该针板拆装机构的缝纫机-CN201910173909.X有效
发明人：柳泽修;铃木英夫;加藤伸一;真船润 -专利权人：蛇目缝纫机工业株式会社
申请日： 2019-03-08 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： D05B73/12 文献下载
摘要：本发明是针板拆装机构以及具备该针板拆装机构的缝纫机，的目的在于在不适合针板的更换的状况下阻止针板的更换。本发明的针板拆装机构具备：针板固定部，其将针板固定于缝纫机主体；解除部，其通过工作而将所述针板的固定状态解除；以及固定解除限制部，当所述针位于比所述针板的上表面更靠下侧的位置时或所述缝纫机马达进行驱动时，所述固定解除限制部限制所述针板的固定状态的解除。
拆装机构以及具备缝纫机

[发明专利]水处理装置-CN201380077414.8有效
发明人：佐藤淳;冲野进;鹈饲展行;铃木英夫;中小路裕;吉冈茂;樱井秀明;小川尚树 -专利权人：三菱重工工程株式会社
申请日： 2013-07-17 - 公布日： 2019-09-24 - 主分类号： C02F3/12 文献下载
摘要：本发明的水处理装置(1)具备：储存储存液(5)的生物处理槽(2)、生成由储存液(5)形成的循环液流的泵(7)、通过使用该循环液流而吸引含有氧气的气体，从而生成在循环液流中分散有该气体的气液两相流的气液两相流生成装置(8)、以及向生物处理槽(2)喷射该气液两相流的喷嘴(12)。该水处理装置(1)能够适当地使储存液(5)在生物处理槽(2)中循环，从而能够适当地对储存液(5)进行曝气，由此能够适当地对储存液(5)进行处理。
水处理装置

[发明专利]太阳能电池的制造方法-CN201811266995.0在审
发明人：山口登;广庭大辅;铃木英夫 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2018-10-29 - 公布日： 2019-06-25 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明提供能够用简便的方法形成太阳能电池的里面结构且能够使TOPCon结构的太阳能电池低成本化的太阳能电池的制造方法。太阳能电池的制造方法包含在晶体系硅基板的表面形成绝缘层。在上述绝缘层的表面形成第1导电型的第1非晶硅层。在上述第1非晶硅层内选择性地注入第2导电型的杂质元素，使注入了上述杂质元素的区域的导电型反转，由此，在上述区域形成第2导电型的非晶区域。
太阳能电池导电型非晶硅层杂质元素绝缘层表面形成绝缘层制造表面形成区域形成低成本硅基板反转非晶

[发明专利]水处理系统、水处理方法-CN201680084335.3在审
发明人：樱井秀明;鹈饲展行;铃木英夫;中小路裕 -专利权人：三菱重工工程株式会社
申请日： 2016-04-06 - 公布日： 2018-12-21 - 主分类号： C02F1/44 文献下载
摘要：水处理系统(100)具备：前处理装置(1)，通过对被处理水实施前处理来生成一次处理水；膜分离装置(2)，具有逆浸透膜，该逆浸透膜使一次处理水通过从而分离为浓缩水和透过水；第一传感器装置(3)，被设置于前处理装置(1)与膜分离装置(2)之间，检测有无基于一次处理水的生物污染产生；第二传感器装置(4)，被设置于膜分离装置的下游侧，检测有无基于浓缩水的污垢析出；和控制装置(5)，基于生物污染量、污垢析出量，决定包含针对膜分离装置(2)的一次处理水的提供压力以及提供流量的运转参数。
膜分离装置一次处理水前处理装置水处理系统析出生物污染浓缩水污垢浸透第二传感器装置第一传感器装置被处理水控制装置运转参数前处理透过水水处理检测

[发明专利]水处理装置的性能评价方法及水处理装置-CN201680084324.5在审
发明人：樱井秀明;鹈饲展行;铃木英夫;中小路裕 -专利权人：三菱重工工程株式会社
申请日： 2016-04-06 - 公布日： 2018-12-21 - 主分类号： B01D65/10 文献下载
摘要：一种水处理装置的性能评价方法，该水处理装置具备多个主容器，它们彼此并联地配置，且具有将被处理水分离为浓缩水和透过水的反渗透膜，其中，该水处理装置的性能评价方法包括：将多个主容器中的浓缩倍率最高的主容器确定为对象容器的确定步骤(S1)；以及对检测对象水的水锈的析出容易度的指标进行检测的检测步骤(S2)，该检测对象水具有与从对象容器排出的浓缩水的浓度对应的浓度。
水处理装置性能评价主容器对象容器检测对象浓缩水析出被处理水反渗透膜透过水并联检测排出水锈浓缩配置

[发明专利]水处理方法以及水处理系统-CN201480038059.8有效
发明人：江田昌之;冲野进;吉山隆士;樱井秀明;鹈饲展行;铃木英夫;中小路裕;吉冈茂 -专利权人：三菱重工工程株式会社
申请日： 2014-05-30 - 公布日： 2018-08-24 - 主分类号： C02F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。在本发明的水处理系统(400)以及水处理方法中，在向包含Ca离子、SO42‑离子、CO32‑离子及HCO3‑离子以及二氧化硅的被处理水供给钙水垢防止剂和二氧化硅水垢防止剂后，被处理水在第二脱盐部(210)中被分离为浓缩有Ca离子、SO42‑离子、CO32‑离子及HCO3‑离子以及二氧化硅的第二浓缩水与处理水。在第二析晶部(220)中向第二浓缩水供给石膏的晶种，从而石膏发生析晶而从第二浓缩水中被去除。
水处理方法以及系统

[发明专利]脱盐处理装置以及脱盐处理装置的运行方法-CN201711469301.9在审
发明人：上村一秀;音在步积;寺崎健;铃木英夫;中小路裕 -专利权人：三菱日立电力系统环保株式会社;三菱重工业株式会社
申请日： 2012-08-03 - 公布日： 2018-06-19 - 主分类号： C02F1/469 文献下载
摘要：本发明提供一种脱盐处理装置以及脱盐处理装置的运行方法。本发明的脱盐处理装置(1)具备静电脱盐处理部(10、60)，在再生工序之前的脱盐工序，在根据脱盐部(4)的保有水量与供给水流量来推导出的期间，向供给水中投入防垢剂，在经过规定时间之后或者达到规定的离子浓度之后，停止防垢剂的投入。本发明的脱盐处理装置(1)在静电脱盐处理部(10)的停止时向供给水中投入防垢剂，在经过规定时间之后或者达到规定的离子浓度之后，停止防垢剂的投入。或者，在静电脱盐处理部(30、60)的停止时，将基于脱盐部(4)的保有水量的量的低离子浓度水输送到静电脱盐处理部(30、60)。由此，可靠地防止静电脱盐处理装置内的水垢的析出。
脱盐处理装置静电脱盐防垢剂离子水中脱盐水流量处理装置脱盐工序再生工序析出水输送推导水垢

[发明专利]水处理方法以及水处理系统-CN201480037969.4有效
发明人：江田昌之;冲野进;吉山隆士;樱井秀明;鹈饲展行;铃木英夫;中小路裕;吉冈茂 -专利权人：三菱重工业株式会社
申请日： 2014-05-30 - 公布日： 2018-06-08 - 主分类号： C02F9/00 文献下载
摘要：本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。在本发明的水处理系统(200)以及水处理方法中，在向包含Ca离子、SO₄离子、碳酸根离子以及二氧化硅的被处理水供给水垢防止剂和二氧化硅水垢防止剂后，被处理水在第二脱盐部(210)被分离为浓缩有Ca离子、SO₄离子、碳酸根离子以及二氧化硅的浓缩水与处理水。在第二析晶部(220)中向第二浓缩水供给石膏的晶种，从而石膏析晶而从第二浓缩水中被去除。
水处理系统二氧化硅水处理水垢防止剂碳酸根离子被处理水浓缩水石膏离子浓缩水回收率处理水析晶部晶种去除水中脱盐析晶再生

[发明专利]水处理装置-CN201280074931.5有效
发明人：上村一秀;音在步积;鴫石康亮;铃木英夫;中小路裕 -专利权人：三菱日立电力系统环保株式会社;三菱重工业株式会社
申请日： 2012-08-03 - 公布日： 2018-04-27 - 主分类号： C02F1/469 文献下载
摘要：提供一种能够抑制静电脱盐处理部的电极恶化并保持较高的水处理能力的水处理装置。水处理装置(1)包括活性炭处理部(10)，总有机碳浓度为100mg/l以下的水流入到该活性炭处理部(10)，吸附并去除水中含有的有机物；以及静电脱盐处理部(100)，其在活性炭处理部(10)的下游侧具备被施加彼此相反极性的电压的一对电极(101、102)、流通路(105)、以及离子交换膜(104、105)，水中含有的离子吸附于被施加电压的电极(101、102)，并且对电极(101、102)施加与吸附离子时相反的电压，离子从电极(101、102)脱离。
水处理装置

[发明专利]水处理系统、发电成套设备及水处理系统的控制方法-CN201580081693.4在审
发明人：鹈饲展行;樱井秀明;加藤克彦;铃木英夫;冲野进;竹内和久;江田昌之 -专利权人：三菱重工业株式会社
申请日： 2015-08-05 - 公布日： 2018-04-17 - 主分类号： C02F1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种水处理系统、发电成套设备及水处理系统的控制方法，本发明的水处理系统(10A)处理从成套设备排出的废水(31)，且具备处理废水(31)的水处理设备(50)；从成套设备中获取成套设备运行信息的第1运行数据获取部(41)；根据在第1运行数据获取部(40)中获取的成套设备运行信息(40)预测废水(31)的水质的水质预测部(42)；及根据在水质预测部(42)预测到的预测水质(43)而对水处理设备(50)的运行条件进行前馈控制(45)的控制部(44)。
水处理系统发电成套设备控制方法

[发明专利]脱盐处理装置以及脱盐处理装置的运行方法-CN201280074951.2有效
发明人：上村一秀;音在步积;寺崎健;铃木英夫;中小路裕 -专利权人：三菱日立电力系统环保株式会社;三菱重工业株式会社
申请日： 2012-08-03 - 公布日： 2018-03-30 - 主分类号： C02F1/46 文献下载
摘要：本发明提供一种脱盐处理装置以及脱盐处理装置的运行方法。本发明的脱盐处理装置(1)具备静电脱盐处理部(10、60)，在再生工序之前的脱盐工序，在根据脱盐部(4)的保有水量与供给水流量来推导出的期间，向供给水中投入防垢剂，在经过规定时间之后或者达到规定的离子浓度之后，停止防垢剂的投入。本发明的脱盐处理装置(1)在静电脱盐处理部(10)的停止时向供给水中投入防垢剂，在经过规定时间之后或者达到规定的离子浓度之后，停止防垢剂的投入。或者，在静电脱盐处理部(30、60)的停止时，将基于脱盐部(4)的保有水量的量的低离子浓度水输送到静电脱盐处理部(30、60)。由此，可靠地防止静电脱盐处理装置内的水垢的析出。
脱盐处理装置以及运行方法

1
2
3
下一页»
尾页
共 35 条