专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体薄膜均匀性无损检测方法及系统-CN202211254821.9在审
  • 刘悦;赵玉垚;马有草;王浩沣 - 上海交通大学
  • 2022-10-13 - 2023-02-03 - G01N21/41
  • 本发明提供一种半导体薄膜均匀性无损检测方法及系统,待测样品包括基底及设置在所述基底表面的半导体薄膜,所述方法包括:入射光以设定入射角入射至所述待测样品表面的测量点,获得所述测量点在设定波长或设定波长范围内的光学参数,所述光学参数包括所述半导体薄膜的折射率及消光系数和/或待测样品的曲率半径;以所述待测样品的光学参数作为已知参数,应用物理模型获得所述半导体薄膜的测量参数,所述测量参数包括半导体薄膜的相对介电常数、压电系数、厚度及应力;重复上述步骤,获得多个测量点的所述测量参数;对多个测量点的同一所述测量参数进行均匀性评价。本发明方法能够实现无损测量,且获得的测量参数不单一,满足多样化需求。
  • 半导体薄膜均匀无损检测方法系统
  • [发明专利]具有压电薄膜的偏置结构及其形成方法-CN202210050861.5在审
  • 刘悦;马有草;宋健;赵玉垚 - 上海交通大学
  • 2022-01-17 - 2022-05-13 - H01L41/047
  • 本申请公开一种具有压电薄膜的偏置结构及其形成方法,所偏置结构包括:底电极;位于所述底电极表面的压电薄膜;所述底电极与所述压电薄膜之间的指标参数的差异大于等于最低阈值,所述指标参数与压电薄膜的自发极化相关。本方案提出以功函数差异为核心,综合考虑晶格失配和热失配等各项指标参数,通过采用性质不完全相同的底电极材料和顶电极材料,得到底电极‑压电薄膜‑顶电极的偏置结构设计,改变压电薄膜的电学边界条件和机械边界条件,增强压电薄膜的自发极化,从而获得性能更加优异的压电薄膜材料。
  • 具有压电薄膜偏置结构及其形成方法
  • [实用新型]超声成像装置以及超声成像系统-CN202120236471.8有效
  • 问飞;马有草;王雏;张峰;刘悦 - 上海悉像科技有限公司
  • 2021-01-27 - 2021-10-15 - B06B1/06
  • 本实用新型揭示一种超声成像装置以及超声成像系统。所述超声成像装置包括:主体部,具有第一端和第二端;和换能器,设置于主体部的第一端,换能器包括:衬底;第一电极和第二电极;以及多个阵元,设置于衬底上,每个阵元包括:被动层,设置于衬底上;第一电极层,设置于被动层的远离衬底的一侧,第一电极层与第一电极电连接;第二电极层,设置于第一电极层远离衬底的一侧,第二电极层与第二电极电连接;第一压电层,设置于第一电极层和第二电极层之间。该超声成像装置和超声成像系统可以实现更高工作频率,进而可获得更高的成像分辨率,并且能够在特定位置实现聚焦,并能根据成像需求实时调整聚焦位置,从而更精确地观察。
  • 超声成像装置以及系统
  • [发明专利]超声成像装置以及超声成像系统-CN202110111291.1在审
  • 问飞;马有草;王雏;张峰;刘悦 - 上海悉像科技有限公司
  • 2021-01-27 - 2021-05-14 - B06B1/06
  • 本发明揭示一种超声成像装置以及超声成像系统。所述超声成像装置包括:主体部,具有第一端和第二端;和换能器,设置于主体部的第一端,换能器包括:衬底;第一电极和第二电极;以及多个阵元,设置于衬底上,每个阵元包括:被动层,设置于衬底上;第一电极层,设置于被动层的远离衬底的一侧,第一电极层与第一电极电连接;第二电极层,设置于第一电极层远离衬底的一侧,第二电极层与第二电极电连接;第一压电层,设置于第一电极层和第二电极层之间。该超声成像装置和超声成像系统可以实现更高工作频率,进而可获得更高的成像分辨率,并且能够在特定位置实现聚焦,并能根据成像需求实时调整聚焦位置,从而更精确地观察。
  • 超声成像装置以及系统

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