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[发明专利]一种光学玻璃、玻璃预制件及光学元件-CN202211511539.4在审
发明人：毛召召;李志涛;章小丽;谭毅;何起训;雷玫;洪登 -专利权人：长飞（武汉）光系统股份有限公司
申请日： 2022-11-29 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： C03C3/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学玻璃、玻璃预制件及光学元件，其组分含有WO3，和La2O3、Bi2O3中的至少一种，摩尔百分比为：WO3：60～85％，La2O3：0～25％，Bi2O3：0～40％；或组分含有WO3、La2O3和ZnO，摩尔百分比为：WO3：50～85％，La2O3：5～25％，ZnO：≤40％；组分摩尔百分比之和为百分之百。所述光学玻璃在不含有SiO2、B2O3、P2O5网络形成体的前提下，能够获得较低的光学玻璃的玻璃化转变温度和较高的折射率，且达到模压成形的要求。
一种光学玻璃玻璃预制件光学元件

[实用新型]一种光学间隔结构-CN202222211068.7有效
发明人：雷玫;罗妮 -专利权人：华天慧创科技（西安）有限公司
申请日： 2022-08-22 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： G02B7/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光学间隔结构，包括WLO镜头和间隔结构，所述WLO镜头包括玻璃基板A和镜头A，所述镜头A设置在玻璃基板A上，所述间隔结构包括间隔面A和玻璃基板B，所述间隔面A的一面设置在玻璃基板B上，所述镜头A的另一面与间隔面A的另一面通过键合胶水A相粘连；所述间隔面A上设置有凹槽部，所述镜头A包括光学部，所述光学部设置在凹槽部中；通过将传统的间隔环替换为具有凹槽和光学平面的间隔面，使得镜头的光学部可以设置在凹槽中，使得WLO镜头与间隔结构之间形成的腔体体积减小，减少整体光学镜头结构受热膨胀崩开风险。
一种光学间隔结构

[实用新型]一种基于纳米压印软膜衬底切孔治具-CN202221673335.6有效
发明人：杜政;刘刚鹏;雷玫 -专利权人：华天慧创科技(西安)有限公司
申请日： 2022-06-30 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： B26F1/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基于纳米压印软膜衬底切孔治具，包括支撑框架、椭轮压杆装置、底座、刀片压板；底座包括上底板和下底板，所述上底板设置在下底板的上表面，所述上底板的上表面用于软膜的放置；下底板上在上底板的两侧设置有支撑框架，所述支撑框架上设置有椭轮压杆装置，椭轮压杆装置的底部设置有刀片压板，刀片压板的底部设置有裁切刀片用于切孔。本实用新型提供软膜安装孔一次加工成型的功能，只需将裁切好的软膜放置在治具底座上，一次操作即可完成所有安装孔的加工，有效的减少了软膜的划伤、颗粒及脏污现象。
一种基于纳米压印衬底切孔治具

[发明专利]一种消除微透镜阵列旁瓣的照明系统及其设计方法-CN202210969669.6在审
发明人：罗妮;雷玫 -专利权人：华天慧创科技（西安）有限公司
申请日： 2022-08-12 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： G03B21/20 文献下载
摘要：本发明属于微透镜列投影的技术领域，具体涉及一种消除微透镜阵列旁瓣的照明系统及其设计方法，本发明的照明系统包括准直镜头，准直镜头一侧为LED芯片，准直镜头另一侧依次设置光阑、MLA光束整形阵列和接收屏，照明系统在原有MLA光束整形阵列的基础上增设直镜头可有效消除微透镜阵列旁瓣，提升目标图案的均匀度和亮度，对于不同的MLA光束整形阵列和LED芯片可通过修改准直镜头相应参数即可完成对旁瓣图案的消除，消除旁瓣图案后的目标图案在接收屏上的输出位置固定。该系统可消除微透镜阵列旁瓣，均匀度高，亮度高，准直镜头光线输出角度固定。
一种消除透镜阵列照明系统及其设计方法

[发明专利]一种复合玻璃衬底和制造方法-CN202210760671.2在审
发明人：雷玫;罗妮;侯洋昆 -专利权人：华天慧创科技(西安)有限公司
申请日： 2022-06-30 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种复合玻璃衬底和制造方法，包括中间玻璃基板；中间玻璃基板的两侧分别设置有第一玻璃基板和第二玻璃基板；第一玻璃基板上设置有第一图案；第二玻璃基板上设置有第二图案；第一玻璃基板和中间玻璃基板之间设置有第一键合胶水进行连接；第二玻璃基板和中间玻璃基板之间设置有第二键合胶水进行连接。通过将厚度超过单面投影式曝光机衬底范围的的双面图案分为三个部分，上下图案所在的第一玻璃基板和第二玻璃基板衬底厚度满足曝光机衬底厚度范围，单面图案可利用单面投影式曝光机分别完成双面高分辨率图案制备，提高了单面图案的分辨率。中间胶水键合完成双面图案的对准和整体结构制备，降低了双面光刻工艺成本。
一种复合玻璃衬底制造方法

[发明专利]一种大矢高光学结构阵列的加工方法-CN202210751300.8在审
发明人：雷玫;罗妮;侯洋昆 -专利权人：华天慧创科技(西安)有限公司
申请日： 2022-06-29 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种大矢高光学结构阵列的加工方法，本发明在加工时，未固化胶水软膜滴设在软膜表面，上面是玻璃基板，压印过程中，设备控制软膜上表面和玻璃基板下表面间距不断减小，胶水通过软膜和玻璃基板的挤压向外扩散开，且不断向下填充软膜的凹面结构，直到胶水扩散到玻璃基板边缘，达到预设厚度，并填充软膜的所有凹面结构。本发明避免了玻璃基板向上带动胶水挤压软膜，胶水填充软膜凹面，胶层厚度低于凹面矢高时，凹面软膜无法被完全填充，需增加胶量，引入溢胶，导致软膜侧面被包裹，脱模困难的问题，减少了材料用量，提高了大矢高结构阵列压印良率。
一种大矢高光学结构阵列加工方法

[发明专利]一种堆叠式微透镜阵列制作方法-CN202210452601.0在审
发明人：雷玫;侯洋昆;刘守航 -专利权人：华天慧创科技(西安)有限公司
申请日： 2022-04-27 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：本发明属于光学透镜技术领域，具体公开了一种堆叠式微透镜阵列制作方法，包括以下步骤：在第一微透镜阵列凹凸面上按预设图案进行点胶；将第一微透镜阵列凹凸面向上，第二微透镜阵列凹凸面向下，通过压印设备使第一微透镜阵列与第二微透镜阵列对齐；通过压印设备将对齐的第一微透镜阵列与第二微透镜阵列压印贴合在一起；对第一微透镜阵列与第二微透镜阵列间的胶水进行固化，完成第一微透镜阵列与第二微透镜阵列堆叠。本发明通过采用压印设备进行对位和压印过程，与传统工艺相比，节省了键合的步骤，减少了对不同设备的需求，降低了成本。
一种堆叠式微透镜阵列制作方法

[发明专利]一种晶圆级光学元件及其制备方法-CN201810597451.6有效
发明人：李凡月;雷玫;肖艳芬 -专利权人：华天慧创科技（西安）有限公司
申请日： 2018-06-12 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：本发明提供一种晶圆级光学元件，包括至少一个光学元件模块，所述光学元件模块包括基板和在基板上形成的若干个光学元件，各光学元件具有透光区和非透光区，非透光区包括第一阻光层和第二阻光层，第一阻光层位于基板和光学元件之间，第二阻光层位于不接触基板的光学元件表面，第二阻光层在基板的竖直投影与第一阻光层相接合或至少部分重叠。利用光刻技术设置尺寸精度高的第一阻光层，避免了现有技术中阻光层大面积覆盖基板，克服了阻光层与助黏剂大面积接触而导致的结合力差的缺点，提高了晶圆级光学元件的可靠性；同时，由于第二阻光层的制备方法对尺寸的精度要求低，使得整个光学元件对非透光区尺寸精度要求容差变大。
一种晶圆级光学元件及其制备方法

[发明专利]一种双面压印工装治具及其工作方法-CN202111401599.6在审
发明人：刘守航;雷玫;侯洋昆 -专利权人：华天慧创科技(西安)有限公司
申请日： 2021-11-19 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种双面压印工装治具及其工作方法，该工装治具能够保证双面压印过程中，A面(凸面)与真空孔接触的真空吸附，以及保护A面(凸面)的面型不受损坏，同时可以避免对设备自身真空孔的优化，降低成本。本发明可以满足双面压印工艺，且可保证产品品质。本发明可以避免设备自身真空孔的改善，降低成本。
一种双面压印工装及其工作方法

[实用新型]一种WLO镜头结构堆叠对位结构-CN202121581548.1有效
发明人：张建荣;王林;雷玫;冯晓甜 -专利权人：华天慧创科技（西安）有限公司
申请日： 2021-07-12 - 公布日： 2022-01-14 - 主分类号： G02B7/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种WLO镜头结构堆叠对位结构，本实用新型在上层玻璃和下层玻璃上设置有上嵌合结构和下嵌合结构，通过上嵌合结构和下嵌合结构相互配合，实现上层玻璃和下层玻璃的定位，并能够使上层玻璃和下层玻璃自行嵌合对准中心。本实用新型设置有隔圈结构，在制作对位结构时一并设计，使之在纳米压印时，同时完成对位与隔圈结构，且减少额外隔圈采购之成本。
一种 wlo 镜头结构堆叠对位

[实用新型]一种印章及压印装置-CN202021696814.0有效
发明人：李卫士;雷玫;徐甜;冯晓甜;李伟龙 -专利权人：华天慧创科技(西安)有限公司
申请日： 2020-08-14 - 公布日： 2021-04-23 - 主分类号： B41K1/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种印章及压印装置，该印章下表面上涂覆的胶层，不再将整个印章的下表面涂覆上胶层，而是采用间隔填充胶层的手段，相隔列填充，或相隔行填充，使得印章在压印过程中，印章和基底之间没有过多的胶体，从原材料和压印的一开始就减少了残留层的厚度，减少了压印过程需要克服的胶体存在的阻力，进一步的，大大的减少了大面积压印时需要克服的分子间阻力以及胶水本身在基板上扩散的阻力。从而实现超薄压印。
一种印章压印装置

[实用新型]一种阵列透镜模组-CN202021037535.3有效
发明人：王林;雷玫;李卫士;李菲 -专利权人：华天慧创科技(西安)有限公司
申请日： 2020-06-08 - 公布日： 2020-11-24 - 主分类号： H01L31/0216 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种阵列透镜模组，本实用新型在结构上省掉了晶圆玻璃和光学胶膜两种材料，从而减少了至少一道切割工艺步骤，省去玻璃晶圆和/或光学胶膜，省去了至少一道转运过程，周转过程少，能够减少周转过程中形成的问题，而且能够降低成本，本实用新型可以在省去玻璃晶圆和光学胶膜等材料的情况下尽可能地减小模组厚度，本实用新型的阵列透镜的硬度比超薄玻璃晶圆的硬度和可操作性高，在其上直接制作残留层及lens，可以尽可能地减小lens的翘曲。
一种阵列透镜模组

[发明专利]一种降低晶圆翘曲度的镀膜方法-CN201810772354.6在审
发明人：李凡月;雷玫 -专利权人：华天慧创科技（西安）有限公司
申请日： 2018-07-16 - 公布日： 2019-01-01 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种降低晶圆翘曲度的镀膜方法，包括以下步骤：1)提供清洁的基板，在基板表面涂覆一层光刻胶；2)对步骤1)中形成的光刻胶使用光刻工艺，以具有预定图案的掩模进行图案曝光并显影，形成图案化的光刻胶图形；3)分别在图案化的光刻胶上表面和未被光刻胶覆盖的基板表面镀膜，形成膜层；4)去除光刻胶及光刻胶表面的膜层，从而在基板表面形成图案化膜层。本发明通过在基板上先涂布光刻胶，曝光显影形成光刻胶微结构阵列，然后在光刻胶微结构阵列上表面和裸露基板的表面镀膜的技术方案，减少了膜层与基板的接触面积，从而降低并分散了膜层产生的应力，有效改善了晶圆的翘曲度，提高了产品的良率，保证产品具有良好的性能。
光刻胶基板膜层镀膜微结构阵列基板表面晶圆翘曲上表面图案化光刻胶表面光刻胶图形基板表面涂图案化膜层表面镀膜光刻工艺曝光显影图案曝光预定图案翘曲度晶圆良率显影掩模去除裸露清洁覆盖保证

[实用新型]一种电力保护装置-CN201120281647.8有效
发明人：雷海东;王知权;乐宏昊;雷玫;沈莉 -专利权人：江汉大学
申请日： 2011-08-04 - 公布日： 2012-02-15 - 主分类号： H02H7/26 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种电力保护装置，所述装置包括：用于控制用电设备与电力线连接的保护执行模块、用于测量用电设备在规定时间内消耗的电功量并根据测得的电功量控制所述保护执行模块的电功测定模块和电源模块，所述电功测定模块与所述保护执行模块电连接，所述电源模块分别与所述电功测定模块和所述保护执行模块电连接。本实用新型实施例提供的电力保护装置通过电功测定模块测量用电设备单位时间内的电功量，分析获得的电功量，通过控制保护执行模块实现用电保护，同时避免了对电力线的干扰。
一种电力保护装置

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