专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利](SBA-15)-尼莫地平药物及其制备方法-CN200910066894.3无效
  • 于辉;翟庆洲 - 长春理工大学
  • 2009-05-04 - 2009-09-30 - A61K31/4422
  • (SBA-15)-尼莫地平药物及其制备方法属于无机功能材料及精细化工制造和生物制药技术领域。现有尼莫地平片剂存在对人体的刺激,尼莫地平药物利用程度低。而现有将SBA-15分子筛作为药物载体的技术尚未应用到尼莫地平药物上来。本发明之(SBA-15)-尼莫地平药物中的尼莫地平药物分布在SBA-15分子筛介孔中。(SBA-15)-尼莫地平药物制备方法是对SBA-15分子筛外表面进行硅烷化处理;煅烧经过硅烷化处理的SBA-15分子筛;采用液相移植法将尼莫地平药物组装到SBA-15分子筛介孔中。本发明应用于生物制药技术领域。
  • sba15尼莫地平药物及其制备方法
  • [发明专利]基于CCD相机的光学透过率测试装置-CN200910066873.1无效
  • 苏成志;曹国华;于正林;向阳;姜涛;丁红昌 - 长春理工大学
  • 2009-04-27 - 2009-09-23 - G01M11/02
  • 基于CCD相机的光学透过率测试装置属于光学测试技术领域。现有双频双通道光学透过率测试装置由于其光电探测器通常采用光电倍增管,属于一种点探测器,同时,采用积分球匀光,因此,测试结果是被测试件的整体平均透过率;积分球体积大,不利于测试装置的便携操作;测试过程不可视;获取的信号强度弱。本发明采用成像透镜、CCD相机取代积分球、光电探测器;采用图像采集处理卡、触摸显示屏取代锁定放大器和除法器。成像透镜位于输出分光镜后的水平光轴上;CCD相机位于成像透镜像面上,并与图像采集处理卡相连;参考光电耦合器、测试光电耦合器分别接图像采集处理卡,图像采集处理卡与触摸显示屏连接。本发明应用于光学元件的光学透过率测试。
  • 基于ccd相机光学透过测试装置
  • [发明专利]基于光源电调制的光学透过率测试装置-CN200910066872.7无效
  • 曹国华;苏成志;姜涛;向阳;于正林;丁红昌 - 长春理工大学
  • 2009-04-27 - 2009-09-16 - G01M11/02
  • 基于光源电调制的光学透过率测试装置属于光学测试技术领域。现有测试装置采用机械斩光器调制测试光,所得到的交流光并不是严格的矩形波,光电探测器所给出的电信号也就不是严格的矩形波信号,因此,测试精度较低。并且,由于机械斩光器为大型精密机械部件,体积大、价格高,直接导致测试装置体积庞大、价格昂贵。本发明其结构为,光源与电源构成回路,光源、准直透镜、聚光透镜光学同轴,积分球进光口位于聚光透镜焦点处,光电探测器位于积分球球体远离进光口处,光电探测器接微处理器,信号发生器的脉冲调制信号输出端与可控开关管相连,脉冲控制信号输出端与微处理器相连,可控开关管位于光源与电源构成回路上。本发明应用于光学元件的光学透过率测试。
  • 基于光源调制光学透过测试装置
  • [发明专利]一种采用应变工程原理和图形衬底结合技术定位生长低密度InAs量子点的MBE外延方法-CN200910066813.X无效
  • 刘国军;李联合;李占国;李林;李梅;尤明慧;芦鹏;李辉;乔忠良;高欣;曲轶 - 长春理工大学
  • 2009-04-14 - 2009-09-16 - H01L21/203
  • 单光子在理想情况下是由单个量子点发光实现的,因此能够有效隔离单个量子点就变得相当重要。当前,用来制作实现量子点单光子发射器件的InAs/GaAs量子点主要是通过自组织生长方法获得,它们在生长表面上随机分布并且点密度很高,每平方微米上就有几个到几百个量子点,因此有效地隔离单个量子点相当困难。而且,这些量子点在生长表面分布的随机性,可靠地控制其在光学微腔中的位置也变得相当不易。本发明采用与应变工程原理图形衬底相结合的手段制备低密度InAs量子点。所谓的应变工程原理:在生长多层量子点的过程中,由于底层量子点存在而产生的应力场作用,多层量子点中的上层点趋向于和底层量子点在垂直方向上保持生长在同一位置而形成垂直匹配。另外仅用十几个纳米厚的薄层GaAs缓冲层就可以十分有效地提高图形衬底上生长量子点的光学质量。本发明是一种采用应变工程原理和图形衬底结合技术定位生长低密度InAs量子点的MBE外延方法。克服了自组织生长方法生长量子点的随机性,可靠地控制其位置和密度。这种基于单光子发射源的需要而设计提出来的方法将为制备量子点单光子发射源在材料制备方法上提供一种参考手段。
  • 一种采用应变工程原理图形衬底结合技术定位生长密度inas量子mbe
  • [发明专利]随动系统负载的电液伺服模拟装置-CN200910066801.7无效
  • 曹国华;赫赤;付静;王红平;李跃光;姜涛;于正林 - 长春理工大学
  • 2009-04-10 - 2009-09-16 - F15B9/17
  • 随动系统负载的电液伺服模拟装置属于机械仿真技术领域。已知技术模拟的负载单一,采用飞轮方式模拟惯性力矩其弊端更多。本发明由高频工作液压马达、高频工作液压马达换向阀、高频工作液压马达伺服阀、低频工作液压马达、低频工作液压马达换向阀、低频工作液压马达伺服阀、高压泵、力矩传感器编码器和主控计算机构成;高频工作液压马达和低频工作液压马达组成双联马达,二者同轴;力矩传感器和编码器安装在所述双联马达力矩输出轴上,并分别与主控计算机电连接;主控计算机与高频工作液压马达伺服阀、低频工作液压马达伺服阀各自的阀驱动器分别电连接;高频工作液压马达、低频工作液压马达共用一个高压泵。本发明应用于随动系统电机的试验领域。
  • 系统负载伺服模拟装置
  • [发明专利]随动系统负载的电液伺服模拟方法-CN200910066802.1无效
  • 曹国华;王红平;李跃光;赫赤;王振宏;姜涛 - 长春理工大学
  • 2009-04-10 - 2009-09-16 - F15B9/17
  • 随动系统负载的电液伺服模拟方法涉及一种采用电液伺服系统模拟随动系统在加速、减速、转向等各种运动状态下的惯性负载,属于电液伺服控制技术领域。现有技术中单纯机械的方法所使用的惯量盘其制造精度非常高,因此价格也就十分昂贵,而且调换、装卸十分复杂;惯性力矩的变化不连续;当转速较高时,即使很小的质量分布不平衡也会引起不安全的后果。单纯电液伺服的方法无法实现惯性力矩方向的调整。本发明采用电液伺服方法模拟随动系统惯性力矩负载,其特征在于,通过将液压马达的作用在马达和泵之间选择的方式改变所模拟的惯性力矩方向。应用于随动系统负载的模拟试验。
  • 系统负载伺服模拟方法
  • [发明专利]研磨压力渐变的高速研磨方法-CN200810051708.4无效
  • 杨建东;田春林;郝子强 - 长春理工大学
  • 2008-12-30 - 2009-08-19 - B24B37/00
  • 研磨压力渐变的高速研磨方法属于超精密机械加工技术领域。现有方法研磨压力的变化呈阶越状态,这就会在磨具与工件间产生冲击,对工件表面造成新的破坏,不仅会导致工件加工表面更加粗糙,增大加工量,降低加工效率,而且还会降低工件的加工精度,甚至还会损坏磨具。本发明在研磨启动阶段研磨压力从低值逐渐提高到高值,进入研磨正常阶段,在研磨结束阶段,研磨压力从高值逐渐降低到低值。本发明应用于高速超精密研磨加工领域。
  • 研磨压力渐变高速方法
  • [发明专利]一种带可伸缩辅助横支杆的标志旗-CN200910066552.1无效
  • 张立中;孟立新;姜会林;张乐仪 - 长春理工大学
  • 2009-02-24 - 2009-08-12 - G09F17/00
  • 本发明的目的在于制造一种低成本、携带方便、使用灵活的标志旗,使旗帜在各种环境下都可以作为一个醒目的标志使用。标志旗由9个部分组成,分别是:主旗杆(1)、主旗杆接头(2)、支撑杆接头(3)、销(4)、可伸缩支撑杆组(5)、旗面的横支杆套(6)、旗面(7)、旗面的主旗杆套(8)、防脱螺母(9)。当需要支起支杆时,首先将可伸缩支撑杆组(5)从支杆接头(3)中拉出来,转动支杆接头(3)使支杆垂直于主旗杆(1),拉伸可伸缩支撑杆组(5)的同时,将旗面的横套,套在支杆上面。
  • 一种伸缩辅助支杆标志
  • [实用新型]一种用于光学元件数控抛光机床-CN200820072377.8无效
  • 王春阳;聂凤明;吴庆堂;刘劲松;王大森 - 长春理工大学
  • 2008-09-03 - 2009-08-05 - B24B29/02
  • 一种中大口径非球面光学元件的数控抛光机床,属于光学机械制造技术领域,其特征是:机床主要由底座系统、立柱系统和横梁系统组成,底座系统包括底座、X轴进给系统、A轴翻转进给系统、C轴回转进给系统;横梁系统包括横梁、Y轴进给系统、Z轴进给系统、动力行星抛光头、抛光模。采用四连杆平衡定位机构,实现抛光模16平动;有益效果是:光学元件的数控抛光机床采用五轴数控、四轴联动运动方式,利用工件翻转、旋转结构,使抛光位置始终处于水平状态,保证去除函数的高确定性;该机床采用无间隙传动和高精度气动系统控制,保证了抛光过程的运行稳定性,实现了光学元件的数控加工。
  • 一种用于光学元件数控抛光机床
  • [发明专利]折衍射混合式平像场目镜-CN200810051707.X无效
  • 崔庆丰;张康伟 - 长春理工大学
  • 2008-12-30 - 2009-07-15 - G02B25/00
  • 折衍射混合式平像场目镜属于光学成像系统技术领域。现有由各种折射透镜构成的目镜其缺点是使用的透镜个数较多,导致目镜体积大、重量重,如果减少透镜个数,则成像质量下降。而现有由折射透镜和衍射元件构成的折衍射混合式目镜系统虽然所使用的透镜个数减少,但是,尚不能实现平像场成像。本发明为,折衍射混合透镜和折射负透镜同轴放置;折衍射混合透镜的基体是一个折射正透镜,该折射正透镜的光焦度φ>0,在该折射正透镜两个表面中的任意一个表面上有衍射微结构,作为一个衍射元件,该衍射元件的光焦度φDOE>0;折射负透镜是一种场镜,该折射负透镜的光焦度φ<0。应用于要求目镜体积小、重量轻、成像质量高的平像场成像场合。
  • 衍射混合式平像场目镜

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