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[发明专利]一种显示面板及显示装置-CN202011300161.4在审
发明人：徐旭;王文超;朴相镇;王宝强;张洪林;贠向南 -专利权人：福州京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2020-11-19 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： G02F1/1362 文献下载
摘要：本发明公开了一种显示面板及显示装置，通过使各有效发光区在衬底基板的正投影与信号走线在衬底基板的正投影具有第一交叠区域，且第一交叠区域的形状为非直线形，可以使有效发光区中出射的光通过第一交叠区域中的信号走线形成光的干涉。从而，在将显示面板应用于3D显示装置时，可以改善摩尔纹，提高显示效果。
一种显示面板显示装置

[实用新型]一种显示面板及显示装置-CN202022691841.5有效
发明人：徐旭;王文超;朴相镇;王宝强;张洪林;贠向南 -专利权人：福州京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2020-11-19 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： G02F1/1362 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种显示面板及显示装置，通过使各有效发光区在衬底基板的正投影与信号走线在衬底基板的正投影具有第一交叠区域，且第一交叠区域的形状为非直线形，可以使有效发光区中出射的光通过第一交叠区域中的信号走线形成光的干涉。从而，在将显示面板应用于3D显示装置时，可以改善摩尔纹，提高显示效果。
一种显示面板显示装置

[发明专利]一种监控装置以及磁控溅射设备-CN201410724890.0有效
发明人：陶锋;付艳强;车奉周;贠向南;金相起 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2014-12-03 - 公布日： 2015-03-04 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明提供一种监控装置以及磁控溅射设备，通过在监控装置中设置用于产生提醒信号的提醒器件：用于当磁控溅射设备内的水冷板发送位移时，触发所述提醒器件产生提醒信号的触发器件。从而可以及时、准确的监控磁控溅射设备腔室内水冷板的位移程度，预防异常成膜的产生，确保显示基板以及显示装置的良品率。该监控装置具体结构简单、性能稳定的特点。
一种监控装置以及磁控溅射设备

[实用新型]磁控溅射设备-CN201320833018.0有效
发明人：董斌;赵欣凯;张立星;付艳强;车奉周;贠向南;金相起;李正勋 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2013-12-17 - 公布日： 2014-11-05 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型的磁控溅射设备，包括用于容纳靶材以及工件的溅射腔室，溅射腔室的内部设置有防着板，溅射腔室内设置有用于照射靶材以及防着板以使靶材以及防着板的表面发生光致脱附的光源。在本实用新型的磁控溅射设备的工作过程中，在真空提升过程中，靶材以及防着板的表面发生光致脱附，即光源的光子能量达到跨越势垒的高度，靶材以及防着板的表面气团的逸出，由此减少粒子在靶材以及防着板上吸附，溅射腔室内的真空度迅速提升，生产效率大幅提高。
磁控溅射设备

[发明专利]一种掩膜板及其实现曝光接合的方法-CN201210545317.4在审
发明人：周子卿;李正勋;金基用;贠向南;许朝钦 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2012-12-14 - 公布日： 2014-06-18 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜板及其实现曝光接合的方法，在该掩膜板上用于曝光接合的部位设置有图形，该图形用于：结合所述掩膜板上的所述图形进行曝光接合后，在基板上形成具有特定位置关系的能够对所述掩膜板进行位置上的调校的图形。因此，通过所述掩膜板进行曝光接合后，会在基板上形成具有特定位置关系的图形，可以根据该图形对所述掩膜板进行位置上的调校。本发明掩膜板及其实现曝光接合的方法，均可有效保证曝光接合的精度，因而避免了曝光接合不良的发生。
一种掩膜板及其实现曝光接合方法

[发明专利]关键尺寸测量装置的光量强度调整系统及调整方法-CN201310701218.5有效
发明人：李向峰;金基用;周子卿;贠向南;许朝钦;侯本光;刘会双 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2013-12-18 - 公布日： 2014-04-02 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明提供一种关键尺寸测量装置的光量强度调整系统、关键尺寸测量装置的光量强度调整方法，属于关键尺寸测量技术领域，其可解决现有的光量强度调整系统光量强度的补正调节效果不佳，光量强度不稳定，无法准确调整补正量的问题。本发明的光量强度调整系统通过设置光量强度测量单元和模数转换单元使光量强度变化的光学信号实时的转化为可处理的数字信号，方便了对光量强度调整系统的操作；同时通过设置补正量计算单元准确的计算得到补正量，有利于实现准确的光量强度调整。
关键尺寸测量装置强度调整系统方法

[发明专利]一种基板的全距调控方法和装置-CN201310355960.5有效
发明人：罗丽平;许朝钦;贠向南;金基用;周子卿;孔令燚 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2013-08-15 - 公布日： 2014-01-08 - 主分类号： G02F1/1339 文献下载
摘要：本发明公开了一种基板的全距调控方法，包括：根据已完成全部曝光工艺的基板样本的实际全距值，与该基板的期望全距值，获得基板样本的全距变化值；根据全距变化值，对待曝光基板的第一层曝光工艺中的第一层全距初始基准坐标进行调整，得到待曝光基板的第一层全距调整后基准坐标；利用第一层全距调整后基准坐标对待曝光基板进行第一层曝光工艺。上述方法根据基板实际全距值与期望全距值得到的全距变化值，在第一层曝光过程中根据全距变化值对待曝光基板的全距初始基准坐标进行调整，便可实现最终全距相对于热制程等工艺参数变更前无明显变化，或变化量极其微小，采用简单易行的操作实现在液晶盒对盒工艺过程中阵列基板与彩膜基板对盒的精准性。
一种调控方法装置

[实用新型]基板传送装置-CN201220647558.5有效
发明人：许朝钦;金基用;周子卿;贠向南;王涛;郑铁元 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2012-11-29 - 公布日： 2013-06-26 - 主分类号： B65G49/06 文献下载
摘要：本实用新型提供一种基板传送装置，涉及传送机构技术领域，解决了在传送基板过程中，现有技术的除静电离子效果不佳，导致基板良品率低的问题。本实用新型中，由于设置了传动轴与滚轮总成，使基板在滚轮总成上传送，而且还设置了向待传送基板的朝向传动轴及滚轮总成的表面喷射离子气体的离子气体喷射单元，使离子气体能够充斥在基板下表面与滚轮总成之间，从而使基板下表面与滚轮总成摩擦产生的静电离子充分接触并中和，提高了除静电离子效果和基板的良品率。
传送装置

[发明专利]一种基板的制作方法-CN201210540524.0有效
发明人：周子卿;李正勋;金基用;贠向南;许朝钦;孙亮 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2012-12-13 - 公布日： 2013-04-10 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明实施例提供了一种基板的制作方法，涉及显示技术领域，可避免或减少光刻胶涂布时涂布不良的发生率，进而提高量产产品良率；所述基板的制作方法包括：在透明基板上制作第一薄膜，并通过构图工艺在所述透明基板的至少一个第一边缘处，形成与所述第一边缘平行的第一辅助图案，同时在显示区域形成显示用图案；其中，所述第一薄膜为所述至少两层薄膜中除最后一层薄膜外的任一层；所述第一边缘与光刻胶涂布方向垂直，所述第一辅助图案沿所述光刻胶涂布方向的横截面的至少一侧边为阶梯状。用于显示面板的制造。
一种制作方法

[发明专利]一种半色调掩模板及其制造方法-CN201210535821.6有效
发明人：罗丽平;贠向南;许朝钦;金基用;周子卿 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2012-12-12 - 公布日： 2013-04-10 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明提供一种半色调掩模板及其制造方法，属于显示领域。该半色调掩模板中，包括像素区和外围走线区，所述像素区包括半透光区域，其中，从所述远离像素区边缘到所述像素区边缘的方向上，所述掩模板的半透光区域的透光率逐渐减小。本发明的技术方案能够有效避免TFT-LCD阵列基板外围走线区附近像素区域沟道光刻胶偏薄，经刻蚀工艺后易发生源漏极沟道半导体缺失，从而改善TFT-LCD出现的像素点灯不良现象。
一种色调模板及其制造方法

[实用新型]烘烤设备-CN201220548918.6有效
发明人：周子卿;李正勋;金基用;贠向南;许朝钦;王涛;郑铁元 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2012-10-24 - 公布日： 2013-03-27 - 主分类号： B05D3/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种烘烤设备，涉及显示面板的烘烤工艺领域，在烘烤过程中通过热气流的推动使基板漂浮，从而避免了基板受热不均或者由于静电释放造成破坏。该烘烤设备，包括：热风产生装置、底板和气管；所述底板上设置有多个气孔，所述气孔通过所述气管与所述热风产生装置连通。
烘烤设备

[发明专利]基板掩膜对位方法-CN201210465560.5有效
发明人：路光明;许朝钦;金基用;周子卿;贠向南;罗丽平 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2012-11-16 - 公布日： 2013-02-27 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：本发明属于对位方法技术领域，公开了一种基板掩膜对位方法，首先在一掩膜版上形成多组对位标记图案，并选取若干个大尺寸基板作为样本基板，通过该掩膜版分别在每块样本基板上形成多组对位标记图案，将样本基板分为多个子基板区域，然后对样本基板实施掩膜工艺，通过样本基板上的多组对位标记图案可实现对每个子基板区域的对位，且至少通过两组对位标记图案可对位一个子基板区域，在对位过程中记录并存储每组对位标记图案的位置，根据存储的多组对位标记图案的位置参数对非样本基板实施掩膜工艺，保证了非样本基板上同层图案间的缝合度和不同层图案间的重合度，能够实现良好品质大尺寸基板的大量生产。
基板掩膜对位方法

[实用新型]一种清洁工具-CN201220428965.7有效
发明人：罗丽平;贠向南;许朝钦;金基用;周子卿;侯本光;刘会双 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2012-08-27 - 公布日： 2013-02-20 - 主分类号： B08B1/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种清洁工具，适用于一液晶面板生产设备的不同清洁部位，提高清洁效率。该清洁工具包括：握持部；用于固定清洁器的夹持部；所述夹持部的一端与所述握持部的第一端连接，所述夹持部的另一端具有相对距离可调的，能够夹持并固定不同宽度的清洁器的两个固定单元。本实用新型的清洁工具中，用于固定清洁器的夹持部的夹持端设置有相对距离可调的，能够夹持并固定不同宽度的清洁器的两个固定单元，因此，通过该固定单元可以夹持并固定不同宽度的清洁器，实现对液晶面板生产设备不同清洁部位的清洁，提高了清洁效率。
一种清洁工具

[实用新型]一种掩膜板自动清洁系统及曝光设备-CN201220296951.4有效
发明人：罗丽平;贠向南;许朝钦;金基用;周子卿;孙增标;路光明 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2012-06-19 - 公布日： 2013-01-02 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本实用新型涉及显示技术领域，特别是涉及一种掩膜板自动清洁系统及曝光设备。该清洁系统包括：掩膜板存储装置，用于存储掩膜板；机械手，用于搬运掩膜板；微粒检测装置，位于掩膜板存储装置的上方，用于对掩膜板的上下表面进行扫描并将扫描信息发送给控制装置；掩膜板清洁装置，用于清洁经微粒检测装置检测后的掩膜板；控制装置，用于根据接收到的扫描信息控制掩膜板清洁装置的开启/闭合；电气提供装置，与上述部件电气连接，用于对上述部件提供动力能源。本实用新型提供的掩膜板自动清洁系统及曝光设备，可自动对掩膜板进行清洁，提高清洁效率；清洁过程简单、快速，并且清洁效果好，同时该清洁系统操作简便，可节省大量人力成本。
一种掩膜板自动清洁系统曝光设备

[发明专利]TFT-LCD阵列基板及其制造方法-CN200910077350.7有效
发明人： 贠向南;金基用;鲁成祝;曲勇 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2009-02-18 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： H01L21/84 文献下载
摘要：本发明涉及一种TFT-LCD阵列基板及其制造方法。制造方法包括：沉积栅金属薄膜，通过构图工艺形成栅线和栅电极图形；沉积栅绝缘层、半导体薄膜、掺杂半导体薄膜和源漏金属薄膜，采用带有半透膜的半色调或灰色调掩模板通过构图工艺形成有源层、数据线、源电极、漏电极和TFT沟道区域图形，形成的源电极和漏电极的宽度为2.8μm～3.0μm；沉积钝化层，通过构图工艺形成钝化层过孔图形；沉积透明导电薄膜，通过构图工艺形成像素电极图形，像素电极通过钝化层过孔与漏电极连接。本发明采用带有半透膜的半色调或灰色调掩模板，使源电极和漏电极的宽度大大减小，提高了开口率，不仅可以增加亮度，而且可以降低背光板的亮度。
tft lcd 阵列及其制造方法

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