专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]集装基板交换装置-CN201020230605.7有效
  • 沈鹏;李平福;杨光;鲁成祝 - 北京京东方光电科技有限公司
  • 2010-06-11 - 2011-03-16 - H01L21/677
  • 本实用新型公开了一种集装基板交换装置。本实用新型提供的集装基板交换装置包括位于所述集装基板交换装置底部的交换平台和位于所述交换平台上的用于固定集装盒的固定装置,还包括门禁单元,所述门禁单元包括封闭板和可自动开合的隔尘门,在所述集装基板交换装置的至少一个侧面设置所述隔尘门。本实用新型可以有效防止集装玻璃基板在作业过程中表面被灰尘颗粒污染,从而提高液晶显示器产品的良品率。
  • 集装交换装置
  • [发明专利]TFT-LCD阵列基板及其制造方法-CN200910077350.7有效
  • 贠向南;金基用;鲁成祝;曲勇 - 北京京东方光电科技有限公司
  • 2009-02-18 - 2010-08-18 - H01L21/84
  • 本发明涉及一种TFT-LCD阵列基板及其制造方法。制造方法包括:沉积栅金属薄膜,通过构图工艺形成栅线和栅电极图形;沉积栅绝缘层、半导体薄膜、掺杂半导体薄膜和源漏金属薄膜,采用带有半透膜的半色调或灰色调掩模板通过构图工艺形成有源层、数据线、源电极、漏电极和TFT沟道区域图形,形成的源电极和漏电极的宽度为2.8μm~3.0μm;沉积钝化层,通过构图工艺形成钝化层过孔图形;沉积透明导电薄膜,通过构图工艺形成像素电极图形,像素电极通过钝化层过孔与漏电极连接。本发明采用带有半透膜的半色调或灰色调掩模板,使源电极和漏电极的宽度大大减小,提高了开口率,不仅可以增加亮度,而且可以降低背光板的亮度。
  • tftlcd阵列及其制造方法
  • [实用新型]掩模板更换装置-CN200920223114.7有效
  • 肖琨;沈鹏;郭慧鹏;宋晓栋;鲁成祝 - 北京京东方光电科技有限公司
  • 2009-09-25 - 2010-06-09 - H01L21/687
  • 本实用新型公开了一种掩模板更换装置,包括存储有掩模板的掩模板贮存房、掩模板工作台和用于将所述掩模板在所述掩模板贮存房和掩模板工作台之间进行移动更换的掩模板存取部件;所述掩模板存取部件包括:掩模板存取叉和掩模板装载臂,所述掩模板装载臂上设置有用于夹持所述掩模板的机械手;所述掩模板装载臂上的位于所述机械手的上方设置有用于在掩模板运送过程中对所述掩模板的上表面进行遮盖保护的上盖。本实用新型使得掩模板在运送过程中伴有该上盖的保护,从而有效阻止了掩模板在运送到掩模板工作台的过程中可能发生的微粒附着问题,避免了后续工艺中因掩模板附着微粒而造成光刻工艺重复性不良,提高了产品良率。
  • 模板更换装置
  • [发明专利]掩膜板清洁系统及清洁方法-CN200810116880.3有效
  • 黎午升;鲁成祝;金基用;李斗熙 - 北京京东方光电科技有限公司
  • 2008-07-18 - 2010-01-20 - B08B5/02
  • 本发明公开了一种掩膜板清洁系统,用于在掩膜板进行曝光之前,对掩膜板进行清洁,其包括:清洁室,其两侧具有掩膜板出入的开口;开关装置,用于检测所述掩膜板的经过,产生控制信号;清洁装置,位于所述清洁室内,与所述开关装置电连接,根据所述控制信号开启或关闭,用于对经过所述清洁室的掩膜板进行清洁。本发明还公开了一种掩膜板的清洁方法。本发明能够使掩膜板从掩膜板库传递到掩膜板平台的过程中进行在线实时的清洁,保障了基板的质量,进一步提高了产品的良品率和生产效率,节约了成本。
  • 掩膜板清洁系统方法

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