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[发明专利]气体供应单元和包括所述气体供应单元的基板处理装置-CN202211679601.0在审
发明人：朴恩雨;姜钟和;李隅滥;李晟圭;朴崠云;赵容大;姜东勋;严基象 -专利权人： 细美事有限公司
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种用于基板处理的装置。基板处理装置包括：处理基板的处理单元；以及气体供应单元，所述气体供应单元将气体供应至所述处理单元，其中所述气体供应单元包括第一壳体、第二壳体以及气体供应管道，所述第一壳体具有与所述处理单元的处理空间流体连通的第一内部空间，所述第二壳体设置在所述第一内部空间中并具有与所述第一内部空间流体连通的第二内部空间，所述气体供应管道将气体供应至所述第二内部空间。
气体供应单元包括处理装置

[发明专利]处理基板的装置和方法-CN202211687646.2在审
发明人：黄准吉;金珉贞;金俙焕;李成洙 -专利权人： 细美事有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理方法和基板处理装置。所公开的为调节处理液中化学液体的浓度的方法，该方法包括：通过将储存在主罐中加热状态下的处理液从喷嘴液供应至基板来处理该基板，并且将在基板的处理中使用的处理液直接地或还经由另一个罐而回收至主罐，并随后重复使用所回收的处理液，在待机时段中执行调节主罐中处理液的浓度的浓度调节操作，在该待机时段中，不使用处理液来处理基板，并且通过以下来执行浓度调节操作：从喷嘴排放加热状态下的处理液以蒸发部分稀释溶液、并将所排放的处理液回收至主罐。
处理装置方法

[发明专利]用于处理基板的装置和处理液的静电监测方法-CN202211688680.1在审
发明人：金度延;孙永俊;李泰勋;李晟圭;尹铉 -专利权人： 细美事有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供了一种用于处理基板的装置。该基板处理装置可以包括：基板支撑单元，其支撑基板；喷嘴，其向被支撑在基板支撑单元上的基板供应液体；本位端口，喷嘴在该本位端口中等待；和静电测量构件，其测量从喷嘴分配在本位端口中的液体的静电量。
用于处理装置静电监测方法

[发明专利]用于静电吸盘的泄漏测试的方法和设备-CN202211698423.6在审
发明人：裴大松;姜炅希;高荣兰;曺美英 -专利权人： 细美事有限公司
申请日： 2022-12-28 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G01M3/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种静电吸盘的泄漏测试的方法。所述用于静电吸盘的泄漏测试的方法包括：安装步骤，所述安装步骤将所述静电吸盘安装在测试室的测试台上；装载步骤，所述装载步骤在所述静电吸盘的上表面中装载虚拟基板；减压步骤，所述减压步骤使所述测试室的内部减压；示踪流体供应步骤，所述示踪流体供应步骤向所述静电吸盘的流路供应具有可见性的示踪流体；拍照步骤，所述拍照步骤拍摄所述静电吸盘；以及确定步骤，所述确定步骤通过检查所述拍照步骤中拍摄的图像来确定在所述流路中是否发生泄漏。
用于静电吸盘泄漏测试方法设备

[发明专利]传送装置和传送方法-CN202211713743.4在审
发明人：方明真 -专利权人： 细美事有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： B65G47/57 文献下载
摘要：提供用于传送容纳有物品的容器的传送装置。传送装置可以包括第一轨道、位于第一轨道下方的第二轨道以及位于第一轨道和第二轨道一侧的传送单元，传送单元配置成在行驶在第一轨道上的第一载具和行驶在第二轨道上的第二载具之间传送容器，其中传送单元可以包括在内部具有升降空间的框架以及用于在升降空间中在传送第一载具和容器的第一位置和传送第二载具和容器的第二位置之间升降容器的升降构件。
传送装置方法

[发明专利]支承单元和具有支承单元的用于处理基板的装置-CN202211714261.0在审
发明人：朴埈奭;田钟俊;郑哲镐 -专利权人： 细美事有限公司
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明的静电卡盘包括顶块和底块，该顶块和该底块通过结合层结合。该顶块具有第一板，夹持电极和加热器安装在该第一板上，该底块设置有冷却构件。由具有传热率低于该第一板的材料制成的第二板设置在该第一板和该底块之间。当该加热器在高温下加热时，可以防止该结合层受到热冲击而损坏。
支承单元具有用于处理装置

[发明专利]基板处理设备-CN202211716253.X在审
发明人：李相起;郑韶滢 -专利权人： 细美事有限公司
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明构思提供了一种用于处理基板的设备。根据实施方式的基板处理设备包括具有处理空间的外壳，在所述处理空间中处理基板；支撑单元，所述支撑单元在所述处理空间中支撑基板；以及气体供应单元，所述气体供应单元向所述处理空间供应气体，其中在所述支撑单元内部形成传热流道、销孔和连接部分，所述传热流道向由支撑单元支撑的基板供应传热介质，所述销孔限定用于升降由支撑单元所支撑的基板的升降销的升降路径，并且所述连接部分使所述传热流道和所述销孔相互连通，并且所述连接部分包括多孔结构。
处理设备

[发明专利]用于处理基板的装置及用于处理基板的方法-CN202211717587.9在审
发明人：朴昌俊 -专利权人： 细美事有限公司
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的示例性实施方案提供一种用于处理基板的装置及用于处理基板的方法。用于处理基板的装置包括：第一模块；以及处理模块，该处理模块配置为处理基板，并且该第一模块包括：装载端口，该装载端口上放置有容器，该容器具有容纳在其中的基板；传送单元，该传送单元具有在该装载端口与该处理模块之间传送该基板的手部；以及观察单元，该观察单元安装在传送单元中并且配置为观察容纳在容器中的基板的状态。
用于处理装置方法

[发明专利]基板处理装置和用于基板处理装置的控制方法-CN202211742036.8在审
发明人：河相民;赵亨濬;金宰弘;孙相睍;徐永周 -专利权人： 细美事有限公司
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： B41J2/01 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置。本发明的一方面涉及基板处理装置和用于基板处理装置的控制方法，其可通过以比编码器产生的脉冲波更高的分辨率确定排墨控制器的排出时间来提高打印机的分辨率。所述基板处理装置包括：基板传送部分，其中放置传送对象；喷射系统单元部分，其包括；喷墨主体，其配置成从基板传送部分的上表面向传送对象喷射墨水，并在传送对象上打印；墨水模块传送部分，其配置成传送喷墨主体；排墨控制器，其配置成通过与喷墨主体互锁控制喷墨主体的喷墨定时；速度测量部分，其配置成指定喷墨主体的移动速度；和信号分离器，其配置成通过与速度测量部分互锁接收喷墨主体的移动速度，并将根据移动速度预测的预测移动信号传输到排墨控制器。
处理装置用于控制方法

[发明专利]处理基板方法-CN202211664785.3在审
发明人：金相林;郑道焕;崔显圭 -专利权人： 细美事有限公司
申请日： 2022-12-23 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：公开了一种通过使用基板处理设备处理基板的方法，所述基板处理设备通过施加微波来在处理空间中产生等离子体，所述方法包括：等离子体处理操作，其中用所述等离子体处理基板；更换操作，其中以预设次数执行所述等离子体处理操作并且更换所述基板处理设备中包括的部件；以及后备操作，其中在所述更换操作之后后备所述基板处理设备，其中所述后备操作包括用于移除在所述部件中存在的副产物的烘烤吹扫操作。
处理方法

[发明专利]用于处理基板的设备及方法-CN202211678153.2在审
发明人：朴建熙;韩泳遵;郑喆焕;金大勋;尹盛炫;崔叡珍;崔恩赫;姜兑昊;金永珍 -专利权人： 细美事有限公司
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的用于处理基板的设备包括缓冲单元、反向单元、第一转移腔室、第二转移腔室、第一清洗腔室、及第二清洗腔室。第一转移腔室、反向单元、及第二转移腔室在一个方向上依序配置。第一清洗腔室布置于第一转移腔室的一侧处，且第二清洗腔室布置于第二转移腔室的一侧处。设置于第一转移腔室中的第一主转移机械手在缓冲单元、反向单元、及第一清洗腔室之间直接转移基板。设置于第二转移腔室中的第二主转移机械手在缓冲单元、反向单元、及第二清洗腔室之间直接转移基板。
用于处理设备方法

[发明专利]用于处理基板的设备及用于处理基板的方法-CN202211676993.5在审
发明人：崔龙贤;李暎熏;任镕浚;吴承勋;崔泰钟;高镛璿;李相旼;郑镇优 -专利权人： 细美事有限公司
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明揭示一种用于处理基板的设备及用于处理基板的方法。用于处理基板的设备包括用于通过将处理液体供应至基板来对基板进行液体处理的液体处理腔室、用于通过将工艺流体供应至基板来干燥基板的干燥腔室、用于在液体处理腔室与干燥腔室之间转移基板的转移单元、及用于清洗基板的后表面的后表面清洗单元，其中后表面清洗单元可在将基板自液体处理腔室转移至干燥腔室的同时清洗基板的后表面。
用于处理设备方法

[发明专利]基板处理装置、基板处理方法和等离子体产生方法-CN202211650553.2在审
发明人： O·嘉尔斯蒂安;S·阿拉克良;具滋明 -专利权人： 细美事有限公司
申请日： 2022-12-21 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：提供了一种基板处理装置。该基板处理装置可以包括：具有内部空间的腔室；电极，被配置用于在内部空间中产生等离子体；以及电源单元，被配置用于向电极施加射频电压，其中电源单元可以包括：第一电源，被配置用于向电极施加具有第一频率的第一脉冲电压；第二电源，被配置用于向电极施加具有第二频率的第二脉冲电压，所述第二频率不同于所述第一频率；第三电源，被配置用于施加具有第三频率的射频电压，所述第三频率不同于所述第一频率和所述第二频率；以及相位控制构件，用于控制所述第一脉冲电压的相位和所述第二脉冲电压的相位中的至少一者。
处理装置方法等离子体产生

[发明专利]用于处理基板的装置和用于处理基板的方法-CN202211675384.8在审
发明人：金昌穆 -专利权人： 细美事有限公司
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。该基板处理装置可以包括：腔室，该腔室用于在处理空间中产生等离子体、并且使用该等离子体处理基板；以及测量单元，该测量单元用于监测从处理空间的等离子体发射的光，其中，测量单元可以包括光收集单元，该光收集单元用于收集穿过在腔室的一个侧壁上形成的观察端口的光；以及光缆，该光缆具有紧固到在一端处形成的光收集单元的连接端子以传输光，其中，将能够测量光收集单元与光缆之间的紧固长度的测量构件设置在连接端子中。
用于处理装置方法

[发明专利]用于处理基板的装置和用于处理基板的方法-CN202211675450.1在审
发明人：河道炅;崔文淳;韩泳遵;梁承太 -专利权人： 细美事有限公司
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于处理基板的装置和用于处理基板的方法，具体地，公开了一种用于在多个腔室中处理基板的方法。该基板处理方法可以包括：在液体在循环管线中循环的情况下，通过用于连接循环管线和各多个腔室的供应管线对位于腔室中的基板执行液体处理，其中设置在该供应管线中的阀的下游流动的液体的每单位时间流量恒定地保持为参考流量，并且基于分配流量控制上游流量或者下游流量、以保持该参考流量，上游流量为在循环管线而不是供应管线的上游流动的液体的每单位时间流量，下游流量为在循环管线而不是供应管线的下游流动的该液体的每单位时间流量，分配流量为在阀的上游流动的液体的每单位时间流量。
用于处理装置方法