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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]泵、用于供应化学液体的设备及用于处理基板的设备-CN202310286292.9在审
发明人： 孙永俊;郑雨信;李㥥滥;崔炳斗;郑星哲 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2023-03-21 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： F04B49/08 文献下载
摘要：本公开提供了泵、用于供应化学液体的设备及用于处理基板的设备。所述泵包括：管，具有弹性，并且具有化学液体通过其流动的流动路径；以及壳体，具有内部空间，内部空间分隔成气体被供应或排出的至少两个腔室，其中，至少两个腔室覆盖管的外周。利用泵、用于供应化学液体的设备及用于处理基板的设备，通过向壳体中的分隔腔室中供应气体或从壳体中的分隔腔室排出气体的操作，通过在腔室之间的内部压力之间不产生干扰的情况下独立地向管的每个相应外周施加或释放压力，可以确保泵的有效泵送操作，并且可以实现对液体的排出压力的精确控制。
用于供应化学液体设备处理

[发明专利]液体化学品供应装置及液体化学品供应系统-CN202310187784.2在审
发明人： 孙永俊;郑雨信;尹荣云;高定奭 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2023-02-28 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： F17D1/14 文献下载
摘要：本发明提供了用于向设置在不同高度处的多个基板处理装置供应液体化学品的液体化学品供应装置及液体化学品供应系统，液体化学品供应装置包括：泵，用于提供用于将液体化学品移动到基板处理装置的液压；多个液体化学品供应线，具有连接到泵的端部和分别连接到多个基板处理装置的另一端部，从而提供液体化学品通过其移动的通道；以及泵排放线，连接到泵以将液体化学品中的一些排出到外部，其中，在液体化学品供应线与泵排放线之间连接有流量校准线。
液体化学品供应装置系统

[发明专利]管件、包括管件的泵以及化学溶液供应装置-CN202310349027.0在审
发明人： 孙永俊;严成勋 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2023-04-03 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： F16L9/14 文献下载
摘要：本发明涉及管件、包括管件的泵以及化学溶液供应装置。管件包括：外层，该外层包括具有挠性的第一材料；内层，该内层包括具有挠性和耐化学性的第二材料；以及中间层，该中间层布置在外层与内层之间并且包括导电材料。
包括以及化学溶液供应装置

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN202310350908.4在审
发明人： 孙永俊;李泰勳 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2023-04-03 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种基板处理装置包括：基板支承件，支承基板；以及处理溶液供应装置，被配置成向支承在基板支承件上的基板上供应处理溶液，其中，处理溶液供应装置包括：收集罐，储存处理溶液；供应线，连接到收集罐以向基板上供应处理溶液；第一排放线，连接到收集罐以从收集罐排出包括气泡或气体的处理溶液；以及第一静电量测量单元，连接到第一排放线以测量处理溶液的静电量，并且包括第一法拉第杯和连接到第一法拉第杯的第一静电量测量部。
处理装置方法

[发明专利]具有双管结构的喷嘴及包括喷嘴的光刻胶分配器和旋涂机-CN202310308957.1在审
发明人： 孙永俊;崔炳斗 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2023-03-27 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： B05B7/06 文献下载
摘要：本发明涉及具有双管结构的喷嘴以及包括喷嘴的光刻胶分配器和旋涂机。具体地提供了一种具有双管结构的喷嘴以及包括喷嘴的光刻胶(PR)分配器和旋涂机，其中，在不驱动喷嘴臂的情况下，可以多次回吸，并且在不移动喷嘴臂的情况下，可以进行减少抗蚀剂消耗(RRC)操作和喷嘴尖端冲洗操作。喷嘴包括：内管，该内管具有向下逐渐变窄的锥形形状并且具有尖端，通过内管传送PR，该PR通过尖端喷出；以及外管，该外管围绕内管，该外管具有向下逐渐变窄的锥形形状并且具有尖端，通过外管传送稀释剂，该稀释剂通过尖端喷出，其中，喷嘴联接到喷嘴臂并移动，并且在不驱动喷嘴臂的情况下执行多次回吸。
具有双管结构喷嘴包括光刻分配器旋涂机

[发明专利]能够测量晶片翘曲的晶片处理装置及测量晶片翘曲的方法-CN202310023388.6在审
发明人： 孙永俊 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2023-01-06 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供了一种能够测量晶片翘曲的晶片处理装置，该晶片处理装置包括：支撑板，提供在其上支撑晶片的表面；温度控制通道，安装在支撑板中以提供流体流过的路径；以及多个翘曲测量器，设置在支撑板上且其下端安装成与温度控制通道的上部竖直地间隔开。
能够测量晶片处理装置方法

[发明专利]基板处理设备及基板处理方法-CN202211668876.4在审
发明人： 孙永俊;李泰勋;李晟圭;尹铉;金度延 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开提供了一种基板处理设备，包括：喷嘴单元，被配置成向基板排出处理液；管道，连接到喷嘴单元和供应处理液的处理液供应单元；电荷量控制单元，设置在管道处，包括带正电荷或负电荷的过滤单元，并且包括控制阀和电源单元中的至少一个，控制阀控制穿过过滤单元内部的处理液的流量，电源单元向过滤单元施加电压，以控制处理液的电荷量；以及控制单元，连接到电荷量控制单元。
处理设备方法

[发明专利]母端口及具有母端口的用于处理基板的装置-CN202211691473.1在审
发明人： 孙永俊;李泰勋;金度延 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供一种用于处理基板的装置。根据示例性实施方式的基板处理装置可以包括：支承单元，该支承单元支承基板；处理容器，该处理容器覆盖该支承单元的外侧；液体供应单元，该液体供应单元包括将液体喷射至支承在该支承单元上的基板的喷嘴；母端口，该母端口定位在该处理容器的外部，喷嘴在该母端口中等待，并且该母端口可以包括具有排出空间的本体，从喷嘴喷射的液体排出至该排出空间中；以及测量单元，该测量单元连接至该本体，并测量从该排出空间排出的液体的充电量。
端口具有用于处理装置

[发明专利]用于处理衬底的清洁装置和设备-CN202211665241.9在审
发明人： 孙永俊;严基象;孙源湜 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-23 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：用于清洁衬底的背面的清洁装置可以包括：外壳；静电卡盘，被设置在所述外壳中，其中衬底被放置在静电卡盘上；至少一个吸附构件，被配置为将衬底放置在静电卡盘上；驱动构件，被配置为旋转静电卡盘；循环构件，被耦接至驱动构件，并且被配置为形成循环气流以防止清洁溶液在外壳中的散射；至少一个辅助循环构件，被设置为与循环构件相邻，其中至少一个辅助循环构件包括用于循环气流的循环孔；以及至少一个喷嘴，被设置为与至少一个辅助循环构件相邻，并且被配置为将清洁溶液喷洒到衬底的背面上。
用于处理衬底清洁装置设备

[发明专利]用于处理基板的装置和处理液的静电监测方法-CN202211688680.1在审
发明人：金度延;孙永俊;李泰勋;李晟圭;尹铉 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供了一种用于处理基板的装置。该基板处理装置可以包括：基板支撑单元，其支撑基板；喷嘴，其向被支撑在基板支撑单元上的基板供应液体；本位端口，喷嘴在该本位端口中等待；和静电测量构件，其测量从喷嘴分配在本位端口中的液体的静电量。
用于处理装置静电监测方法

[发明专利]冷却单元和具备其的热处理装置以及热处理方法-CN202211633536.8在审
发明人： 孙永俊;李营浚;严基象;李泰勋 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明作为冷却单元和具备其的热处理装置以及热处理方法，更详细地涉及如下技术：通过热处理装置执行基板的热处理工艺之后，使冷却单元的热交换介质接触到加热板上并使制冷剂循环，从而能够迅速且有效地降低加热板的温度。冷却单元包括：冷却板，朝向对基板执行热处理工艺的加热单元的加热板移动；制冷剂流路，设置于所述冷却板的内部，并供制冷剂流动；以及热交换介质，与所述加热板的至少一部分接触而通过在所述加热板和所述制冷剂流路中的制冷剂间进行热交换来冷却所述加热板。
冷却单元具备热处理装置以及方法

[发明专利]主端口及利用其的基板处理装置-CN202211617636.1在审
发明人： 孙永俊;李泰勋;尹铉;金度延 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-15 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种主端口及利用其的基板处理装置。本发明提供一种主端口，设置于基板处理装置而临时支承用于向基板喷出工艺液的喷嘴，其中，所述主端口包括：主体，在内部形成有空间；喷嘴架部，布置于所述主体的上部并用于支承所述喷嘴；倾斜面，形成在所述空间中的所述喷嘴架部的下侧；第一供应管，用于从所述喷嘴的头喷出冲洗液；第二供应管，向所述主体内部注入冲洗液；导电线，将所述倾斜面和所述第一供应管电连接；以及第一开关，设置于所述导电线。
端口利用处理装置

[发明专利]扭力泵及用于供应化学液体的装置-CN202211651453.1在审
发明人： 孙永俊 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-21 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： F04B43/08 文献下载
摘要：本发明涉及扭力泵及用于供应化学液体的装置。具体地，本发明提供一种用于供应液体的泵。该泵包括：管状构件，该管状构件具有与化学液体入口和化学液体出口连通的软管和设置成用于缠绕所述软管的柱状滚筒，并且该管状构件配置为通过由围绕滚筒缠绕的软管的收缩引起的体积变化来排出化学液体；以及驱动器，该驱动器配置为提供旋转力，使得软管围绕滚筒缠绕。
扭力用于供应化学液体装置

[发明专利]液态化学品检测装置和包含其的基板处理装置-CN202211409287.4在审
发明人： 孙永俊;尹荣云;郑星哲 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-11-11 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： G01N27/00 文献下载
摘要：本发明的液态化学品检测装置包括：基座部，形成有供液态化学品流入的入口；流道部，包括：第一区域部，与基座部的入口相邻布置，且由入口流入的液态化学品在第一区域部中以改变的流体速度移动；以及第二区域部，与第一区域部串联连通，且从第一区域部排出的液态化学品在第二区域部中移动；感测部，包括：第一感测部件，感测作为第一区域部的电信号的第一信号；以及第二感测部件，感测作为第二区域部的电信号的第二信号；以及辨别部，接收来自感测部的信号，当第一信号和第二信号的电流相对于参考值变化时，判断为感测到颗粒和气泡，并根据第一信号与第二信号的电流差或电流变化的时间差来分辨颗粒和气泡。
液态化学品检测装置包含处理

[发明专利]主端口和利用其的基板处理装置以及主端口清洗方法-CN202211539735.2在审
发明人： 孙永俊;姜亨奭;金旻佑 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-02 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种主端口和利用其的基板处理装置以及主端口清洗方法。提供一种主端口，包括：壳体，被支架支承并在内部形成有空间；喷嘴架部，布置在所述壳体的上部并用于支承向基板喷出工艺液的喷嘴；倾斜面，形成在所述空间中的所述喷嘴架部的下侧；排气口，用于对在所述壳体内部空间中形成的烟雾(Fume)进行排气；冲洗供应孔，供应冲洗液，所述冲洗液用于去除从支承在所述喷嘴架部的喷嘴中喷出的工艺液中的留在所述倾斜面的残留工艺液；绞链，布置在所述壳体的下部而使所述壳体和支架能够相互旋转地绞链结合；以及驱动构件，使所述壳体向所述倾斜面与设置有所述壳体的底面平行的方向旋转。
端口利用处理装置以及清洗方法

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