专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于表面清洁装置的清洁单元-CN202180071127.0在审
  • 毛京良;李成洙 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2021-10-14 - 2023-08-01 - A61C17/22
  • 提出了一种表面清洁装置,其基于传播到待清洁表面上的超声和射频电磁发射的组合使用,以提供协同的清洁动作。一个方面提供了一种清洁单元,该清洁单元包括主体,该主体包括超声换能器装置和RF发射器装置,并且其中这两者被布置成使得当由相应的驱动信号驱动时,产生在公共空间区域中重叠的超声和RF发射(用于提供清洁动作),从而在公共空间区域中提供组合的清洁动作。一个示例性应用是用于口腔清洁的用途。
  • 用于表面清洁装置单元
  • [发明专利]处理基板的装置和方法-CN202211687646.2在审
  • 黄准吉;金珉贞;金俙焕;李成洙 - 细美事有限公司
  • 2022-12-27 - 2023-06-30 - H01L21/02
  • 本发明涉及一种基板处理方法和基板处理装置。所公开的为调节处理液中化学液体的浓度的方法,该方法包括:通过将储存在主罐中加热状态下的处理液从喷嘴液供应至基板来处理该基板,并且将在基板的处理中使用的处理液直接地或还经由另一个罐而回收至主罐,并随后重复使用所回收的处理液,在待机时段中执行调节主罐中处理液的浓度的浓度调节操作,在该待机时段中,不使用处理液来处理基板,并且通过以下来执行浓度调节操作:从喷嘴排放加热状态下的处理液以蒸发部分稀释溶液、并将所排放的处理液回收至主罐。
  • 处理装置方法
  • [发明专利]用于处理基板的装置和方法-CN202010606613.5在审
  • 李成洙;安俊建;李廷焕;权五烈;朴修永 - 细美事有限公司
  • 2020-06-29 - 2020-12-29 - B23K26/53
  • 本发明提供一种用于处理基板的装置和方法。一种用于处理基板的装置包括:壳体,在所述壳体中具有处理空间;支承单元,其在所述壳体中支承所述基板;液体分配单元,其将液体分配到支承在所述支承单元上的所述基板上;激光照射单元,其将激光照射到所述基板的边缘区域;以及控制器,其控制所述液体分配单元和所述激光照射单元。所述激光照射单元包括:板,其设置在所述液体上,从而与分配到所述基板上的所述液体的表面接触;以及激光照射构件,其将所述激光穿过所述板照射到支承在所述支承单元上的所述基板的所述边缘区域。
  • 用于处理装置方法
  • [发明专利]供应液体用单元、具有该单元的处理基板用设备及方法-CN202010591142.5在审
  • 李成洙;郑富荣;崔气勋;田明娥;朴修永 - 细美事有限公司
  • 2020-06-24 - 2020-12-25 - H01L21/67
  • 提供一种供应液体用单元、具有该单元的处理基板用设备及方法。用于处理基板的设备包括:处理容器,其具有处于所述处理容器内部的处理空间;基板支撑单元,其用于在所述处理空间中支撑基板;以及液体供应单元,其用于将处理液体供应至由所述基板支撑单元支撑的所述基板。所述液体供应单元包括:喷嘴;供应管线,其用于将所述处理液体供应至所述喷嘴且在所述供应管线中安装有第一阀;以及排出管线,其自作为所述供应管线中所述第一阀下游的点的分支点分支,以自所述供应管线排出所述处理液体,且在所述排出管线中安装有第二阀。在所述供应管线中,在所述分支点与所述喷嘴之间的区域中没有阀。
  • 供应液体单元具有处理基板用设备方法
  • [发明专利]口腔护理器具-CN201580063119.6有效
  • S·R·威尔斯;彭萌;李成洙 - 皇家飞利浦有限公司
  • 2015-11-17 - 2020-12-04 - A61C17/34
  • 本文描述利用非线性共振系统的诸如电动牙刷的口腔护理器具(100)。在一个示例性实施例中,口腔护理器具包括纵向轴(102)、刷头(130)和手柄(190)。手柄包括电机(140),基于刷头在用户的口外,当没有质量被施加到刷头时,电机产生用于刷头的第一振幅(404)。响应于刷头在用户的口内,当施加质量时(诸如通过将刷头压靠牙齿),电机使得产生用于刷头的第二振幅(410),第二振幅大于第一振幅。
  • 口腔护理器具
  • [发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201510394284.1有效
  • 金钟翰;朱润钟;金裕桓;李吉;李成洙 - 细美事有限公司
  • 2015-07-07 - 2020-10-30 - H01L21/67
  • 本发明提供了基板处理装置和基板处理方法。所述基板处理装置包括壳体、旋转头、注射部和控制器,所述壳体提供了用于处理基板的内部空间,所述旋转头用于在所述壳体内支撑所述基板且使所述基板旋转,所述注射部包括第一喷嘴构件,所述第一喷嘴构件用于将第一处理溶液喷射到安置于所述旋转头上的所述基板上,并且所述控制器用于控制所述第一喷嘴构件。所述第一喷嘴构件包括主体、振动器、泵和电源。所述基板处理方法包括:当利用所述第一喷嘴构件喷射所述第一处理溶液时,在使所述振动器运行之后,操作所述泵以将所述第一处理溶液供应到所述主体中。本发明能够提高清洁效率。
  • 处理装置方法
  • [发明专利]基板处理装置和基板清洁方法-CN201510698174.4在审
  • 李成洙;赵根济;权淳甲;金钟翰;李福圭;朱润钟 - 细美事有限公司
  • 2015-10-23 - 2016-05-04 - H01L21/67
  • 公开了一种基板处理装置。所述基板处理装置包括:一壳体,定义用于在其中处理一基板的一空间;一旋转头,在所述壳体中支撑和旋转所述基板;一喷射单元,包括一第一喷嘴构件,用于在放置于所述旋转头上的所述基板上喷射第一处理溶液;以及一控制器,控制所述喷射单元。所述控制器在将所述第一喷嘴构件在所述基板上方在基板的边缘和中心区域之间移动的同时喷射第一处理溶液。所述控制器有区别地调节在所述基板边缘区域上喷射第一处理溶液所在的一第一高度和在所述基板中心区域上喷射第一处理溶液所在的一第二高度。
  • 处理装置清洁方法
  • [发明专利]部分碳化煤压块的制备方法、部分碳化煤压块的制备装置及铁水制备装置-CN201180061598.X有效
  • 李成洙;许南焕;李后根 - POSCO公司
  • 2011-12-15 - 2013-10-23 - C10B57/04
  • 本发明公开一种铁水制备装置及铁水制备方法。根据本发明的铁水制备装置包括:多级流化床还原炉,用于还原粉铁矿,以使粉铁矿转换为还原铁粉;至少一个压缩铁制备装置,用于挤压所述还原铁粉而制备高温压缩铁;至少一个破碎装置,用于以一定的粒度破碎所述高温压缩铁;第一移送装置,用于移送所述破碎的高温压缩铁;及熔融炉,通过燃烧粉状或者块状的一般碳,以熔融所述所移送的高温压缩铁,并将炉内产生的还原气体供应到所述流化床还原炉。而且,所述铁水制备装置还包括至少一个压缩铁储存槽,其用于储存所述破碎的高温压缩铁的一部分。通过适用本发明,能够稳定且有效地制备铁水。
  • 部分碳化煤压块制备方法装置铁水

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