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- [发明专利]一种压接式IGBT器件结构-CN202310819588.2有效
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程炜涛;姚阳
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上海埃积半导体有限公司
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2023-07-06
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2023-09-29
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H01L27/06
- 本发明公开了一种压接式IGBT器件结构,包括:圆形IGBT区;环形FRD区,设置于所述圆形IGBT区外侧,与所述圆形IGBT区同心设置;环形电流传感器区,设置于所述环形FRD区外侧,与所述圆形IGBT区同心设置;第一隔离区,设置于所述圆形IGBT区和所述环形FRD区之间;第二隔离区,设置于所述环形FRD区和所述环形电流传感器区之间;正面金属区,覆盖设置于所述圆形IGBT区和所述环形FRD区的正面;背面金属区,设置于所述压接式IGBT器件结构的背面。本发明提供的压接式IGBT器件结构可以有效提高大电流IGBT器件的良品率和可靠性。
- 一种压接式igbt器件结构
- [实用新型]IGBT器件封装结构-CN202223247035.4有效
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程炜涛;姚阳
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上海埃积半导体有限公司
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2022-12-05
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2023-03-21
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H01L25/18
- 本实用新型提供IGBT器件封装结构,包括:焊接底板、IGBT芯片、FRD芯片;所述FRD芯片的阳极端通过导电胶与所述IGBT芯片的发射极端粘贴连接形成所述IGBT芯片和所述FRD芯片的纵向叠封结构,所述FRD芯片的阴极端与所述焊接底板通过打线连接;所述IGBT芯片的集电极端与所述焊接底板连接,所述焊接底板与集电极引出端连接,所述IGBT芯片的发射极端通过打线与发射极引出端连接。本实用新型提出了一种IGBT、FRD组合封装结构,可有效提高单个封装体可封装的IGBT、FRD组合数量,从而有效提高单个封装体的电流等级。
- igbt器件封装结构
- [发明专利]改善型磁隔离IGBT驱动电路-CN201611254701.3有效
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程炜涛;高荣;王海军;叶甜春
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江苏中科君芯科技有限公司
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2016-12-30
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2023-03-17
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H02M1/08
- 本发明涉及一种改善型磁隔离IGBT驱动电路,包括驱动发生模块、驱动放大模块、原边隔直电容C1、原边阻尼电阻R1、多绕组驱动变压器、副边自举电容C6、副边自举二极管D2、副边推挽驱动电阻R3、推挽电路Q1,Q2、副边整流二极管D1、副边稳压二极管ZD1、稳压电阻R2、滤波电容C2,C3,C4,C5、以及浮地驱动IGBT。所述电路主要元器件按照图1所示的电器连接方式连接,其驱动发生模块与驱动放大模块为该技术领域中的公知技术。本发明能够在不提供二次侧电源的基础上,改善了传统磁隔离驱动电路不能提供负压关断、抗干扰性较弱的技术缺陷。本发明能适应不同的IGBT,提供可靠、低成本的磁隔离驱动方案。
- 改善隔离igbt驱动电路
- [实用新型]FRD器件结构-CN202221116106.4有效
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程炜涛;姚阳
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上海埃积半导体有限公司
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2022-04-29
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2022-09-09
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H01L29/872
- 本实用新型提供了FRD器件结构,包括:N+区域;N‑区域,位于所述N+区域上;正面阳极金属区域,位于所述N‑区域上;背面阴极金属区域,位于所述N+区域下方;P+区域,位于所述N‑区域内;绝缘隔离区域,位于所述N‑区域内;所述P+区域与所述正面阳极金属区域形成第一欧姆接触区域,所述N‑区域与所述正面阳极金属区域形成肖特基接触区域;所述绝缘隔离区域,用于隔离所述第一欧姆接触区域和所述肖特基接触区域。通过引入肖特基接触以及绝缘沟槽,可以起到减少P+区域与阳极金属的接触面积,从而降低空穴注入效率,降低FRD动态损耗。
- frd器件结构
- [实用新型]RC-IGBT器件结构-CN202220547668.8有效
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程炜涛;姚阳
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上海埃积半导体有限公司
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2022-03-14
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2022-08-30
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H01L27/06
- 本实用新型公开了一种RC‑IGBT器件结构,包括N‑基区和背面金属区,还包括:阴极N+区,设置于背面金属区上,与N‑基区和背面金属区接触;集电极P+区,与阴极N+区横向并列设置于背面金属区上,与背面金属区和阴极N+区接触;FS缓冲区,设置于集电极P+区上,与集电极P+区和N‑基区接触;第一绝缘隔离区和第二绝缘隔离区,均与FS缓冲区横向并列设置于集电极P+区上,并与集电极P+区和N‑基区接触,第一绝缘隔离区和第二绝缘隔离区分别设置于FS缓冲区两侧。本实用新型可以隔离RC‑IGBT器件中IGBT和FRD区域的相互影响,改善器件正向导通时的snapback现象。
- rcigbt器件结构
- [实用新型]IGBT版图结构-CN202220215233.3有效
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程炜涛;姚阳
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上海埃积半导体有限公司
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2022-01-26
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2022-07-15
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H01L27/02
- 本实用新型公开了一种IGBT版图结构,包括沟槽、栅极跑道和发射极金属,所述沟槽中包括至少一条与所述栅极跑道连接的第一沟槽,以及至少一条与所述发射极金属连接的第二沟槽;所述栅极跑道内设置第一连接孔,所述第一连接孔用于连接所述第一沟槽与所述栅极跑道;所述第二沟槽内设置第二连接孔,所述第二连接孔用于连接所述第二沟槽与所述发射极金属。本实用新型通过在IGBT版图上设计不同连接方式的沟槽结构,实现IGBT的部分沟槽连接发射极金属形成dummy沟槽,从而实现在不增大沟槽间距的情况下降低IGBT短路电流、提高短路耐量时间的技术效果。
- igbt版图结构
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