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[实用新型]一种电镀机台腔体结构及电镀机台-CN201920657232.2有效
发明人：秦杰;王金岗;薛超;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-05-08 - 公布日： 2020-02-04 - 主分类号： C25D7/12 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种电镀机台腔体结构及电镀机台，所述腔体结构包括腔体本体；所述腔体本体内设有隔膜和金属阳极，所述隔膜和所述金属阳极平行设置；所述隔膜与至少一组驱动组件相连，所述驱动组件用于驱动所述隔膜沿所述腔体本体的轴向往复移动；所述隔膜远离其中心的边缘位置为能够阻挡阳离子通过的封闭结构。所述电镀机台包括上述的腔体结构。本实用新型提供的电镀机台腔体结构及电镀机台能够有效减少电镀过程中的边缘效应，提高沉积在晶圆表面的金属薄膜厚度的均匀性。
电镀机台隔膜腔体结构腔体本体本实用新型金属阳极驱动组件轴向往复移动边缘位置边缘效应封闭结构金属薄膜晶圆表面平行设置有效减少均匀性阳离子沉积阻挡驱动

[实用新型]气体自动控制节能系统和半导体处理设备-CN201920956883.1有效
发明人：李文强;俞雷;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-06-24 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种气体自动控制节能系统和半导体处理设备，所述气体自动控制节能系统包括：储气罐，所述储气罐一端用于连通至反应腔室；分流装置，所述分流装置包括第一端口、第二端口以及第三端口，所述第一端口通过管路连通至所述储气罐，所述第二端口通过管路连通至一反应装置，所述第三端口通过管路连通至气体产生装置；反应装置，包括第四端口和第五端口，所述第四端口通过管路连通至所述分流装置，用于使所述分流装置输入至所述反应装置内的气体进行反应，产生产物气体，所述第五端口用于输出所述产物气体；气体产生装置，与所述第三端口连接，用于产生气体并输出至所述反应装置内。上述气体自动控制节能系统能够降低功耗，节约成本。
反应装置分流装置管路连通储气罐自动控制节能系统气体产生装置产物气体半导体处理设备端口连接反应腔室降低功耗输出连通节约

[实用新型]炉管装置-CN201920961546.1有效
发明人：李天涯;陈伯廷;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-06-24 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种炉管装置。所述炉管装置包括：反应腔室，由实心的壳体围绕而成，所述壳体包括朝向所述反应腔室一侧的内壁以及与所述内壁相对的外壁；通道，位于所述内壁与所述外壁之间的所述壳体中；气孔，位于所述内壁，所述通道与所述气孔连通，以将反应气体自外界传输至所述反应腔室。本实用新型确保了所述反应腔室内气体的均匀性，进而改善了晶圆表面生长的薄膜厚度的均匀性；同时，减少了所述炉管装置周期性维护的操作，降低了维护成本。
内壁反应腔室炉管装置本实用新型均匀性壳体外壁半导体制造技术周期性维护反应气体晶圆表面壳体围绕室内气体反应腔实心的薄膜连通传输生长维护

[实用新型]晶舟清洗装置-CN201921085200.6有效
发明人：王磊;陈伯廷;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-07-11 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种晶舟清洗装置。所述晶舟清洗装置包括：清洗腔，包括多个均沿竖直方向延伸的清洗槽，所述清洗槽用于容纳并清洗直立的晶舟；传送腔，沿竖直方向叠置于所述清洗腔上方，用于在外界与所述清洗腔之间传送所述晶舟。本实用新型减小了单个清洗槽的占地面积，增大了单位面积上能够设置的清洗槽的数量，从而在提高晶舟清洗效率的同时，相应降低了对无尘室空间的占用，间接减少了晶圆制造成本。
清洗槽晶舟清洗腔本实用新型清洗装置竖直半导体制造技术方向延伸清洗效率制造成本传送腔无尘室直立减小晶圆种晶清洗传送容纳占用

[实用新型]化学机械研磨设备-CN201821919312.2有效
发明人：岳志刚;辛君;林宗贤;吴龙江 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2018-11-21 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种化学机械研磨设备，包括：研磨腔室；排液管道，与所述研磨腔室连通，用于排出所述研磨腔室内产生的研磨废液；冲水管道，与所述排液管道连通，用于向所述排液管道内通入去离子水，对所述排液管道进行冲洗。所述化学机械研磨设备能够避免所述排液管道堵塞。
排液管道研磨腔化学机械研磨设备连通本实用新型冲水管道去离子水研磨废液排出冲洗室内堵塞

[实用新型]钝化装置以及外延设备-CN201920775913.9有效
发明人：李国强;林宗贤;吴孝哲 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-05-27 - 公布日： 2020-01-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种钝化装置和外延设备，所述装置包括：钝化气体输送通道，与反应腔连通，用于向所述反应腔内提供钝化气体；离子束发射组件，延伸至所述反应腔的内部，用于向所述反应腔内提供离子束，所述离子束用于离子化位于反应腔内壁的杂质，以使离子化后的杂质与所述钝化气体发生钝化反应。本实用新型提供的钝化装置可以抑制自掺杂效应。
反应腔钝化气体本实用新型钝化装置离子化离子束反应腔内壁离子束发射钝化反应输送通道外延设备自掺杂连通延伸

[实用新型]一种旋转机构及垂直扩散炉-CN201920519980.4有效
发明人：雷国鸿;陈伯廷;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-04-16 - 公布日： 2020-01-14 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种旋转机构及垂直扩散炉，所述垂直扩散炉包括所述旋转机构，旋转机构包括：底座；驱动机构，设于底座上；隔离罩，设于底座上并罩设驱动机构；支撑机构，设于隔离罩的外部；传动磁组，包括第一磁体和第二磁体，第一磁体设置在隔离罩内，第二磁体设置在支撑机构上；悬浮磁组，包括第三磁体和第四磁体，第三磁体设置于隔离罩上，第四磁体设置于支撑机构上；第一磁体被驱动机构驱动旋转时，第二磁体与第一磁体相吸设置而使支撑机构随第一磁体同步旋转，第三磁体和第四磁体相斥设置而使支撑机构及第二磁体悬浮在隔离罩的外部。本实用新型的优点在于，利用磁体的特性实现旋转动力的传递，避免污染反应腔室的同时具有价格低廉的优势。
支撑机构隔离罩驱动机构旋转机构底座本实用新型垂直扩散炉相斥避免污染反应腔室驱动旋转同步旋转旋转动力磁体被悬浮磁外部传动磁组相吸罩设悬浮传递

[实用新型]一种推送机构及化学气相沉积机台-CN201920231516.5有效
发明人：贾中宇;杨杰;王昕昀;胡广严;吴龙江;吴孝哲;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-02-21 - 公布日： 2020-01-10 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种推送机构和化学气相沉积机台，所述推送机构推动加热体运动，该加热体具有初始位置和目标位置，该推送机构包括：磁场发生器，用以产生磁场；驱动装置，与加热体连接，用以驱动加热体运动；导体，用以与加热体同步运动；以及，处理装置，与导体连接并形成回路；其中，导体被配置为，加热体从初始位置运动至目标位置的过程中，切割磁场的磁感线产生感应电流；处理装置被配置为，用以接收感应电流，并根据感应电流得到加热体的运动距离，根据加热体的运动距离确定加热体当前的位置。所述化学气相沉积机台包括所述推送机构。本实用新型的优点在于，导体与加热体同步运动，并切割磁感线产生感应电流，而精确地得到加热体的当前位置。
加热体感应电流推送机构导体化学气相沉积机台本实用新型处理装置目标位置同步运动磁感线磁场切割初始位置运动运动距离确定磁场发生器导体连接驱动装置运动距离配置驱动

[实用新型]一种晶圆洗边装置-CN201921077822.4有效
发明人：赵培培;吴明;林宗贤;郭松辉;朱晓彤;刘强 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-07-10 - 公布日： 2019-12-31 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种晶圆洗边装置，包括：托架，配置以承托晶圆并带动晶圆旋转；以及卡针，可绕固定于所述托架的转轴转动，包括位于所述转轴两侧的重心端和卡合端；其中，所述卡针随所述托架旋转而在离心作用下相应转动，使得所述卡合端在所述晶圆背离所述托架的一面形成对于所述晶圆的夹持，通过卡针实现了对晶圆的定位并抑制了在晶圆在高速旋转时产生的抖动。
晶圆托架卡针卡合端本实用新型离心作用洗边装置转轴转动抖动承托夹持种晶转轴转动背离重心配置

[实用新型]研磨垫修整机系统-CN201920275046.2有效
发明人：岳志刚;辛君;林宗贤;吴龙江 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-03-05 - 公布日： 2019-12-13 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：一种研磨垫修整机系统，包括：包括：修整盘，适于在下压力的作用下对研磨垫进行修整；压力检测装置，用于在修整盘对研磨垫进行修整时，检测修整盘对研磨垫的实时下压力；实时数据分析系统，基于设定的修整研磨速率、研磨垫实时研磨晶圆的总量和修整盘实时使用的总时间，获得修整盘保持设定的修整研磨速率进行研磨时修整盘需要施加的下压力的大小；驱动装置，提供下压力驱动所述修整盘下压，直至实时下压力等于修整盘需要施加的下压力。本实用新型的研磨垫修整机系统使得修整时的修整研磨速率保持恒定。
修整盘研磨垫修整研磨下压力修整机实时数据分析压力检测装置恒定施加本实用新型驱动装置速率保持晶圆下压驱动检测

[发明专利]加热基座以及半导体加工设备-CN201910911850.X在审
发明人：王大为;薛超;郭松辉;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-09-25 - 公布日： 2019-12-10 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：一种加热基座以及半导体加工设备，其中，所述加热基座包括加热腔体，所述加热腔体包括：腔体顶部，用于承载晶圆，所述腔体顶部采用柔性薄膜材料；腔体侧壁，所述腔体顶部与所述腔体侧壁相连接；腔体底部，所述腔体底部与所述腔体侧壁相连接，所述腔体底部与所述腔体顶部相对设置。采用本发明实施例提供的加热基座加热晶圆，可以使晶圆受热均匀，减少晶圆破片几率。
腔体顶部晶圆加热基座腔体侧壁腔体加热腔体半导体加工设备柔性薄膜材料破片几率受热均匀相对设置加热承载

[实用新型]晶圆夹持机构及晶圆洗边装置-CN201920221123.6有效
发明人：闫帅臣;吴孝哲;林宗贤;常传栋;吴龙江;薛超 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-02-21 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型提供一种晶圆夹持机构及晶圆洗边装置，采用上下双层撑销夹持晶圆的方式固定晶圆，改善了晶圆在洗边工艺中的固定方式，确保晶圆在高速旋转中不会甩脱，使晶圆在洗边过程中没有抖动现象，洗边更均匀，提高良率。
晶圆洗边本实用新型夹持机构洗边装置抖动良率销夹种晶

[发明专利]研磨垫及研磨设备和方法-CN201710996355.4有效
发明人：李瑞杰;林宗贤;吴龙江;辛君;吴孝哲 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2017-10-24 - 公布日： 2019-11-29 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本公开涉及一种研磨垫再生方法以及一种研磨设备。该方法包括将研磨垫生成材料的流体供应至研磨台的供应步骤；以及使研磨垫生成材料固化以形成研磨垫的固化步骤，其中，供应步骤和固化步骤被选择性地执行以补偿研磨垫在工作中的磨损。该设备包括：研磨台；研磨头，其承载有待研磨的制品；以及研磨垫，设置于研磨台的表面，其中研磨垫被构造成能够通过将研磨垫生成材料的流体供应至研磨台以及使研磨垫生成材料固化来再生，从而补偿研磨垫在工作中的磨损。
研磨设备方法

[发明专利]图像传感器及其制作方法-CN201910766674.5在审
发明人：刘强;郭松辉;林宗贤;吴明 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-08-19 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本申请提供一种图像传感器及其制作方法，所述的图像传感器包括：形成有感光元件的半导体衬底；位于所述半导体衬底上的绝缘结构；位于所述绝缘结构上并且部分覆盖所述绝缘结构的遮光膜；位于绝缘结构上位置对应于所述感光元件的滤色层，所述遮光膜隔离所述滤色层；位于所述遮光膜和所述滤色层上的钝化层；位于所述钝化层上的微透镜；其中，从所述微透镜至所述绝缘结构的光路中还设置有电磁波吸收层。本申请所述的图像传感器及其制作方法，通过在从所述微透镜至所述绝缘结构的光路中形成电磁波吸收层，避免电磁波进入图像传感器，以提高所述图像传感器的成像质量。
绝缘结构图像传感器滤色层微透镜遮光膜电磁波吸收层感光元件钝化层衬底光路半导体电磁波上位置申请制作成像隔离覆盖

[发明专利]一种真空预清洁装置及形成方法、真空预清洁装置的使用方法-CN201910763602.5在审
发明人：朱晓彤;吴明;林宗贤;郭松辉 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-08-19 - 公布日： 2019-11-15 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种真空预清洁装置及形成方法、真空预清洁装置的使用方法，真空预清洁装置包括：腔壁，与所述腔壁连接的电源连接结构；载台，所述载台具有承载面，所述载台与所述腔壁固定连接；位于所述载台边缘和所述腔壁之间的挡板，所述挡板分别与所述腔壁和所述载台可拆卸连接；吸附板，所述吸附板包括基板和位于基板表面的若干层复合层，且所述若干层复合层沿垂直于吸附板表面方向重叠，所述吸附板与所述挡板可拆卸连接，且所述吸附板的复合层面朝向所述载台的承载面。所述真空预清洁装置的性能得到改善。
吸附板腔壁预清洁装置挡板可拆卸连接承载面复合层电源连接结构表面方向复合层面基板表面台边缘基板载台垂直