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[实用新型]量检测设备-CN202321039764.2有效
发明人：袁林栋;郎东春;颜小龙;周许超;张杰;陈朵朵;程宇;徐凤森;陈楠;齐会平 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2023-04-28 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种量检测设备。其中，所述量检测设备包括风管和气浴装置；其中，所述风管和所述气浴装置之间为可拆卸连接，以便于在密封连接所述风管和所述气浴装置时，可存留一些调整余量，以确保在对接时二者的端面位置能够精确对准，提高密封连接效果。
检测设备

[发明专利]硅片对准标记的检测定位方法、系统、电子设备及介质-CN202210346590.8在审
发明人：易兵;刘涛;周许超;张记晨;鲁阳;高贯义;王敬贤 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2022-03-31 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G06V10/75 文献下载
摘要：本发明提供了一种硅片对准标记的检测定位方法，先建立知识库，所述知识库中具有若干种已知对准标记的第一检测图像的第一特征信息，然后获取待测对准标记的第二检测图像的第二特征信息，将所述第一特征信息与所述第二特征信息逐项进行相似性比对，并根据比对得到的若干所述已知对准标记获取所述待测对准标记在硅片上的位置信息，从而精确地找到所述已知对准标记，提高了待测对准标记的检测定位精度及效率。相应的，本发明还提供了一种硅片对准标记的检测定位系统、电子设备及非暂态计算机可读存储介质。
硅片对准标记检测定位方法系统电子设备介质

[发明专利]基片检测系统及基片检测方法-CN202111679406.3在审
发明人：邹秀阳;于大维;王婷婷;刁雷;刘涛;张记晨;周许超;蓝科;李运锋 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本发明提供一种基片检测系统及一种基片检测方法。采用所述基片检测系统或所述基片检测方法，在基片的运动过程中，进行图像数据采集，还确定基片的物理位置，可以利用所述图像数据生成所述基片的表面图像以进行缺陷检测，并根据所述基片的物理位置进行缺陷定位，能够提高缺陷检测效率。
检测系统方法

[发明专利]缺陷自动检测装置及用于缺陷检测的调焦方法-CN202111437348.3在审
发明人：陈志刚;魏礼俊;周许超;张记晨 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-11-29 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于缺陷检测的调焦方法，包括：将待测基底置于工件台上并使所述待测基底的中心点处于检测物镜的最佳焦面；垂向测量传感器获取多个采样点的垂向高度；对所述待测基底的所有采样点进行多项式拟合，输出用于拟合基底面型的测量的所有采样点数据全部有效；根据输出的有效采样点数据拟合基底面型，实时调节检测光斑所在基底区域的垂向高度参数，或者实时调节X方向倾斜值、Y方向倾斜值以及垂向高度参数，以使所述待测基底整体置于所述检测物镜的最佳焦面。实现对多层高阶复杂基底面型的垂向控制，提高垂向控制精度。
缺陷自动检测装置用于检测调焦方法

[发明专利]虚拟硅片生成系统及生成方法-CN202111437420.2在审
发明人：刘涛;邓帅飞;杨志超;周许超;张记晨;潘成安;鲁阳;易兵;王敬贤 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-11-29 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： G06F30/31 文献下载
摘要：本发明提供一种虚拟硅片生成系统及生成方法。其中，所述虚拟硅片生成系统包括：数据收集单元和硅片生成单元；所述数据收集单元用于从检测数据库中收集硅片的特征信息和工艺信息；所述硅片生成单元用于根据所述特征信息和所述工艺信息生成虚拟硅片。因而，本发明不仅利用检测数据库中的硅片的特征信息，还利用了硅片的制备过程中的工艺信息，使得生成的虚拟硅片更加贴近真实硅片，能够充分反应真实硅片上的信息以及工艺过程的真实情况，提高了虚拟硅片的使用价值。
虚拟硅片生成系统方法

[发明专利]自动缺陷分类系统及其训练和分类的方法-CN202111273131.3在审
发明人：鲁阳;刘涛;周许超;张记晨;潘成安;易兵;王敬贤;邓帅飞 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种自动缺陷分类系统及其训练和分类的方法。其中，自动缺陷分类系统中的过漏检判定单元用于判断数据是否属于过检数据或漏检数据，以将过漏检数据分离出来。过漏检原因分类器是由过漏检数据集，提取第一特征后训练而成，用于对过漏检数据进行过漏检原因分类，有利于在在线检测过程中，快速定位产生过漏检的原因，降低过漏检的概率。补充分类器独立于自动缺陷分类器，且至少采用属于缺陷分类系统原因的数据作为样本训练而成，降低了因自动缺陷分类器本身原因而导致数据分类不正确的问题。且不干涉自动缺陷分类器的正常作业，提高了检测物缺陷分类的精准度、检测设备的检测精度以及机台的稳定性。
自动缺陷分类系统及其训练方法

[实用新型]晶圆检测装置-CN202221103780.9有效
发明人：张记晨;杨金国;周许超;邹秀阳;孙书诚 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2022-04-29 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： G01N21/892 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种晶圆检测装置，运动组件用于承载并驱动晶圆翻转；所述照明组件用于发出非平行的照明光束至所述晶圆的待测表面上；图像检测组件用于在所述晶圆翻转至预定角度时获取所述待测表面的图像。本实用新型由于配置了发出非平行的照明光束的照明组件，即使所述晶圆的翻转角度较大，所述待测表面也能够被照明光束覆盖，避免图像出现阴阳面，且图像的畸变更小，图像中的晶圆更接近于圆形，有利于后续的缺陷检测；并且，本实用新型不需要增加所述照明组件的宽度，可以减小装置的体积。
检测装置

[发明专利]掩模开口尺寸测量方法、掩模版拉伸装置以及张网机-CN201910967774.4有效
发明人：肖蓉;邓帅飞;李运锋;周许超 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2019-10-12 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种掩模开口尺寸测量方法、掩模版拉伸装置以及张网机。该掩模开口尺寸测量方法包括：对当前进行拉伸的掩模版进行图像采集，形成当前图像采集结果，所述掩模版包括掩模开口；基于所述当前图像采集结果，确定所述掩模版上当前所述掩模开口的几何中心；基于当前所述掩模开口的几何中心，计算当前所述掩模开口的尺寸，以有效判断当前掩模版上的掩模开口的尺寸是否达到预设值。
开口尺寸测量方法模版拉伸装置以及张网机

[发明专利]一种芯片表面缺陷检测方法和装置-CN202111419828.7在审
发明人： 周许超;张凯;熊超;杨霖 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司;深圳鲲云信息科技有限公司
申请日： 2021-11-26 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种芯片表面缺陷检测方法和装置，包括：输入芯片表面图像；采用直方图均衡化对所述图像进行预处理；基于灰度值的模板匹配算法对所述预处理后的图像进行芯片位置检测；利用边缘提取算法进行芯片的缺陷边缘提取；利用灰度相似性区域生长法进行芯片缺陷区域分割；计算芯片缺陷区域的长径、短径以及平均灰度，并进行种类匹配。本发明提升了芯片表面缺陷检测的效率，解决生产环节中人工检测的不足，降低厂家的用工成本，提高生产效率。
一种芯片表面缺陷检测方法装置

[发明专利]一种晶圆缺陷检测方法、装置、电子设备及存储介质-CN202111384784.9在审
发明人： 周许超;张凯 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司;深圳鲲云信息科技有限公司
申请日： 2021-11-20 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种晶圆缺陷检测方法，通过获取待检测晶圆的待检测图像；在所述待检测图像中提取出候选区域图像；对所述候选区域图像分别进行第一特征提取处理和第二特征提取处理得到第一特征和第二特征；将所述第一特征和第二特征进行融合，得到融合特征；基于所述融合特征，预测所述待检测晶圆的是否存在缺陷，能够快速提取目标区域，降低细化缺陷检测的计算量，提高检测速度。
一种缺陷检测方法装置电子设备存储介质

[实用新型]基底背面缺陷检测装置-CN202121481660.8有效
发明人：于大维;朱振朋;陆志毅;王婷婷;周许超;李运锋 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-06-30 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种基底背面缺陷检测装置，包括照明单元，调焦单元和探测单元；所述照明单元发出光束经过所述调焦单元反射后到达基底背面，经所述基底背面反射后经所述调焦单元进入所述探测单元，所述调焦单元实时调焦以使得所述基底背面位于焦面位置，所述探测单元获得所述基底背面的缺陷。通过实时调整调焦单元调整焦面的位置，以使得基底的背面位于焦面位置，从而能够解决了基底高速旋转状态下背面缺陷检测准确性低的问题。
基底背面缺陷检测装置

[发明专利]一种mura缺陷检测方法、装置、设备及系统-CN201910506387.0在审
发明人：邓帅飞;肖蓉;李运锋;周许超 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2019-06-12 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明公开一种mura缺陷检测方法、装置、设备及系统，检测方法包括：获取待检测显示屏的待测图像；基于人眼对图像空间频率的敏感性，对所述待测图像进行频域滤波处理。本发明实施例提供的mura缺陷检测方法，获取待检测显示屏的待测图像，基于人眼对图像空间频率的敏感性，对待测图像进行频域滤波处理，滤除人眼对空间角频率不敏感的部分，一方面，能够避免过检，节约了后期的计算资源，另一方面，频域滤波处理后的图像更符合人眼的成像特性，提高了检测结果的准确性，使检测结果能够对标人工检测结果。
一种 mura 缺陷检测方法装置设备系统

[发明专利]一种对准照明模块、对准装置、光刻机和对准方法-CN201810097054.2在审
发明人：田湍;潘炼东;于大维;赵丽丽;杜荣;张成爽;范纪铭;周许超 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-01-31 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种对准照明模块、对准装置、光刻机和对准方法，对准照明模块包括同轴对准照明组件以及驱动组件；所述同轴对准照明组件包括至少两个光源，以及与所述至少两个光源对应设置的光束转折镜头，以将所述至少两个光源发出的光线反射到待对准的工作区域；所述驱动组件，与所述光束转折镜头连接，用于在对准时驱动所述光束转折镜头移动到待对准的工作区域上方，以及在对准完成后将所述光束转折镜头从所述待对准的工作区域上方移开。本发明提供一种对准照明模块、对准装置、光刻机和对准方法，以解决对准照明模块遮挡曝光照明视场的问题。
对准照明模块对准装置工作区域光刻机光源转折驱动组件同轴对准照明组件镜头光线反射镜头移动曝光照明视场移开遮挡驱动

[发明专利]双层对准装置和双层对准方法-CN201610284287.4有效
发明人： 周许超;潘炼东;朱树存 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2016-04-29 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种双层对准装置，包括固定框架及设置在固定框架上的第一测量装置及标记板，标记板设置有框架固定标记；运动台以及设置于运动台上的基准标记、运动台标记，和第二测量装置；通过第一测量装置测量基准标记和运动台标记的相对位置关系，通过第二测量装置测量基准标记和框架固定标记的相对位置关系，从而获得运动台标记和框架固定标记的最终相对位置关系，并根据最终相对位置关系移动所述运动台至设定位置。本发明相应地还提供一种双层对准方法，系统中只有运动台是运动部件。使用静态标定方法实现坐标关系标定，标定精度不受运动台定位精度影响，可以提高对准精度。使用双镜头或多镜头设计，配置灵活并能提高对准效率。
双层对准装置方法

[发明专利]一种背面对准测量装置及方法-CN201410827944.6在审
发明人： 周许超;潘炼东;杜荣 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2014-12-29 - 公布日： 2016-07-27 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提出一种硅片对准测量系统，包括：工件台，用于支撑所述硅片；光源，用于照射所述硅片上的对准标记；图像探测单元，用于获取所述对准标记的透射成像信息，其特征在于，所述工件台带有光源通道，所述光源通道用于使所述光源发出的光线无遮挡地通过；所述光源在所述硅片和所述工件台的一侧；所述图像探测单元在所述硅片和所述工件台的另一侧。本发明还提出一种背面对准测量方法。本发明采用透射式红外对准光源穿透硅片，直接把硅片背面标记成像在镜头物面，可有效避免反射式红外对准工艺适应性差的弊端。采用旋转式chuck台，不同于背面中继镜头对准方式，对准标记数目不受限制，对准精度有极大提高。
一种背面对准测量装置方法

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