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[发明专利]用于降低接触电阻的金属帽-CN202180090981.1在审
发明人：本切基·梅巴基;李正周;侯文婷;仓见隆;艾弗里•V•劳格特;雷建新;吴立其;雷蒙德·霍伊曼·亨;河泰泓;唐先敏 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-10-13 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： H01L29/45 文献下载
摘要：一种半导体装置的接触堆叠结构包括：源极/漏极区；在源极/漏极区上方的金属硅化物层；直接在金属硅化物层上的金属帽层；及在金属帽层上的导体。一种方法包括：在基板的结构中沉积金属硅化物层；在金属硅化物层的沉积之后且在没有空气中断的情况下，直接在金属硅化物层上制备金属帽层；及在金属帽层上沉积导体。
用于降低接触电阻金属

[发明专利]通过化学蚀刻去除选择性沉积缺陷-CN201880028187.2有效
发明人：杰弗里·W·安西斯;柯常;普拉瑟姆·杰恩;本杰明·施密格;蹇国强;迈克尔·S·杰克逊;周磊;伯·F·马;吴立其 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-09-12 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：本发明描述了一种将膜选择地沉积在相对于第二基板表面的第一基板表面上的方法。该方法包括：使基板暴露于阻隔分子，以于该第一表面上选择性沉积阻隔层。于该第二表面上选择性形成层并于该阻隔层上形成该层的缺陷。从该第一表面上的该阻隔层去除该缺陷。
通过化学蚀刻去除选择性沉积缺陷

[发明专利]任务处理方法、装置及存储介质-CN202210761738.4在审
发明人： 吴立其;张明杰;姜晓辉 -专利权人：斑马网络技术有限公司
申请日： 2022-07-01 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： G06F9/48 文献下载
摘要：本申请提供一种任务处理方法、装置及存储介质，该方法通过预设线程接收至少一个任务处理消息，进而，根据其中每一个任务处理消息对应的处理函数和输入参数，在任务池的循环队列中写入任务，其中，每一写入的任务携带对应的处理函数、输入参数和信号量，该信号量用于在对应的任务写入完成后，指示线程池中的至少一个线程从上述循环队列中读取任务，并根据读取的任务对应的处理函数和输入参数，处理读取的任务，这里线程池中的一个线程读取一个任务，从而，使得线程池中的每个线程与任务是解耦的，每个线程的工作机制都一样，解决现有多线程处理中每个线程与任务强相关，灵活性较差，且多个线程的实现方式无法统一的问题。
任务处理方法装置存储介质

[发明专利]使用催化沉积的间隙填充方法-CN202180013702.1在审
发明人：尹炳勋;吴立其;李靖珠;吴凯;岑羲;雷伟;柳尚澔;赛沙德利·甘古利 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-03-11 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：讨论了沉积金属膜的方法。金属膜形成在具有金属底部及电介质侧壁的特征的底部上。金属膜的形成包含：在将基板维持在沉积温度下的同时，暴露于金属前驱物及烷基卤化物催化剂。所述金属前驱物具有高于沉积温度的分解温度。所述烷基卤化物包含碳及卤素，且所述卤素包含溴或碘。
使用催化沉积间隙填充方法

[发明专利]基于任务处理的线程调度方法、装置和设备-CN202210785357.X在审
发明人： 吴立其;姜晓辉;胡志刚 -专利权人：斑马网络技术有限公司
申请日： 2022-07-05 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： G06F9/48 文献下载
摘要：本申请提供一种基于任务处理的线程调度方法、装置和设备，涉及计算机技术领域。该方法包括：在线程进行任务处理的过程中，监测多个线程池中的每一线程池的工作状态；若监测到线程池的空闲线程的个数大于等于预设个数，则删除该线程池中的至少一个空闲线程；若监测到线程池中没有空闲线程，则未接收到任务的其他线程池可以调取线程来执行该线程池待处理的任务；若监测到线程池的任务负荷量大于等于预设负荷量，则为该线程池分配至少一个线程。本申请的方法，通过实时监测线程池的工作状态，及时地对线程池的线程个数进行动态调整，进而及时地对任务进行处理，提高了处理任务的效率。
基于任务处理线程调度方法装置设备

[发明专利]使用金属基前驱物的原子层沉积(ALD)工艺的N型金属氧化物半导体(NMOS)金属栅极材料的方法与设备-CN201980066546.8在审
发明人：林永景;陈世忠;吉田尚美;董琳;吴立其;汪荣军;史蒂文·洪;卡拉·贝纳尔·拉莫斯;杨逸雄;唐薇;柳尚澔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-10-07 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：兹描述用于形成诸如NMOS栅电极之类的半导体结构的方法及设备。所述方法可包括以下步骤：于高k介电层的第一表面上方沉积第一覆盖层，该第一覆盖层具有第一表面；及于第一覆盖层的第一表面上方沉积至少一个金属层，该至少一个金属层具有第一表面，其中该至少一个金属层包括钛铝硅化物材料。一些方法包括以下步骤：通过使第一覆盖层接触金属氯化物，从第一覆盖层的第一表面去除氧化物层，所述金属氯化物的量足以去除氧化物层。一些用于沉积钛铝硅化物材料的方法由350至400摄氏度的温度下进行的原子层沉积工艺进行。
使用金属前驱原子沉积 ald 工艺氧化物半导体 nmos 栅极材料方法设备

[发明专利]选择性氧化铝膜沉积-CN201980057963.6在审
发明人： 吴立其;阮鸿;巴斯卡尔·乔蒂·布雅;马克·沙丽;刘风全;戴维·汤普森 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-09-11 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： H01L21/28 文献下载
摘要：兹描述沉积膜的方法。具体而言，兹描述沉积金属氧化物膜的方法。通过将基板暴露于有机金属性前驱物，接着暴露于氧化剂，而相对于介电质层选择性地将金属氧化物膜沉积于金属层上。
选择性氧化铝沉积

[发明专利]一种基于多异构执行体控制器的多变体用户程序编译方法-CN202110049701.4有效
发明人：林会肖;林嵩松;吴立其;杨汶佼;李绍勇 -专利权人：之江实验室
申请日： 2021-01-14 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： G06F8/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于多异构执行体控制器的多变体用户程序编译方法，该方法用于工业控制领域的上位机组态软件编译多套用户程序可执行文件，用于下载到多异构执行体控制器的多个执行体中运行。本发明通过在用户程序代码转为C语言代码时增加代码混淆和异常探测等手段，以及利用编译器链接工具指定不同代码段和数据段地址的方式生成多套不同芯片架构的目标执行程序。本发明满足多异构执行体控制器多套异构执行体分别运行相同业务用户程序的同时，提高了用户程序的动态性和多样性，从而提高了控制器的安全性。
一种基于多异构执行控制器多变体用程序编译方法

[发明专利]使用自组装单层的选择性沉积的方法-CN201980053966.2在审
发明人：柯常;张闻宇;吴立其 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-08-08 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：公开了用于在具有金属表面和介电质表面的基板顶上选择性沉积层的方法和设备，包括：(a)使该金属表面接触一或多种金属卤化物、诸如金属氯化物或金属氟化物，以形成暴露的金属表面；(b)在该介电质表面顶上生长基于有机硅烷的自组装单层；及(c)在该基板的该暴露的金属表面顶上选择性地沉积层，其中该基于有机硅烷的自组装单层抑制该层在该介电质表面顶上的沉积。
使用组装单层选择性沉积方法

[发明专利]一种拟态工业控制器的组态管理方法-CN202110059155.2在审
发明人：林嵩松;林会肖;杨汶佼;吴立其;王延松;张汝云 -专利权人：之江实验室
申请日： 2021-01-18 - 公布日： 2021-03-12 - 主分类号： G06F11/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种拟态工业控制器的组态管理方法，该方法通过标记对下载的组态进行区分，使控制器内的异构执行体获取与之相匹配的组态文件，下载的组态数据被暂存至下载缓冲区，若下载失败，则进行组态恢复；若下载成功，则进行组态更新，更新完成后，对新获得的组态数据进行备份；该方法使拟态工业控制器中的异构执行体能够获取正确的组态文件，实现了对控制现场无扰的组态在线更新，并且通过将组态备份至非易失性存储介质中，降低了组态数据被攻击破坏的风险，同时可用于执行体新上电或被拟态清洗后的重新上线恢复工作。
一种拟态工业控制器组态管理方法

[发明专利]用于高反射率铝层的方法和设备-CN201980030050.5在审
发明人：杰奎琳·阮奇;吴立其;吴湘宁;马伯方;尚浩·于;F·G·瓦西纳诺特;诺布尤基·佐佐木 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-05-02 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供了一种用于增加基板上的铝层的反射率的方法及设备。在一些实施方式中，一种在基板上沉积铝层的方法，包括以下步骤：利用化学气相沉积(CVD)工艺在基板上沉积钴或钴合金层或钛或钛合金层；若损害钴或钴合金层的顶表面，则在约400摄氏度的温度下利用热氢退火预处理钴或钴合金层；和在约120摄氏度的温度下利用CVD工艺在钴或钴合金层或钛或钛合金层上沉积铝层。可实现钴或钴合金层的预处理达约60秒至约120秒的持续时间。
用于反射率方法设备

[发明专利]工业控制环网系统及其实现方法-CN202010953718.8有效
发明人：刘星宇;张奕;杨汶佼;吴立其;张汝云;张兴明 -专利权人：之江实验室
申请日： 2020-09-11 - 公布日： 2021-01-05 - 主分类号： H04L12/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于工业控制环网系统、环网控制协议及其实现方法，包括如下步骤：步骤一，主站设备向节点设备发送IP扫描报文以获取环网上各节点IP地址；步骤二，主站向各节点下发链路建立报文；步骤三，主站向节点下发数据扫描报文以获取各节点的结果数据；步骤四，节点之间相互发送链路检测报文来检测链路是否存在断路；步骤五，主站根据发生断路位置分别从主、从端口重新发送链路建立报文；步骤六，主站向各节点发送点对点获取数据报文以点对点的方式获取每个节点的结果数据；步骤八，当节点发现断路位置重新恢复时，该位置节点向主站发送链路恢复通知报文，主站收到该报文后重新给节点发送IP扫描报文，从步骤一开始重复执行。
工业控制系统及其实现方法

[发明专利]一种拟态工业控制器主控单元之间的数据分级同步方法-CN202010954924.0有效
发明人： 吴立其;杨汶佼;李绍勇;林会肖;张汝云;张兴明 -专利权人：之江实验室
申请日： 2020-09-11 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： H04L29/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种拟态工业控制器主控单元之间的数据分级同步方法，涉及工业控制领域和信息安全领域，采用裁决调度器下行FPGA对主控单元之间的数据进行择多裁决，然后把择多裁决后的数据进行同步，将同步的数据分为小规模的实时数据、中规模的关键数据和大规模的总体数据，裁决调度器下行FPGA根据不同的数据类型采用数据分级同步方法。本发明将同步的数据进行分类，然后根据数据特征进行数据分级同步的方法，既满足了主控单元的关键数据实时同步需求，又把数据同步带来的性能开销控制在可接受范围内。同时采用下行FPGA对数据进行择多裁决，然后把裁决后的数据进行同步，保证了同步数据的安全性。
一种拟态工业控制器主控单元之间数据分级同步方法

[发明专利]一种拟态工业控制器归一化裁决方法及装置-CN202010849874.X有效
发明人：李绍勇;杨汶佼;吴立其;林嵩松;张奕;林会肖 -专利权人：之江实验室
申请日： 2020-08-21 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： G06F11/07 文献下载
摘要：本发明公开了一种拟态工业控制器归一化裁决方法及装置，该方法包括：锁定当前的实时输入数据；发送同步信号给各主控单元；接收各主控单元的请求，发送实时输入数据给各主控单元；接收所有主控单元输出的归一化值，其中各主控单元接收实时输入数据后，完成本周期的运算，将计算结果中包含的模拟量计算结果转换为归一化值；设置接收超时机制，若某个主控单元接收超时，则直接判断该主控单元的输出为错误；计算接收未超时的主控单元输出的归一化值误差，判断归一化值误差大于等于设定预值的主控单元输出结果为错误，小于设定预值则为正确；输出裁决结果。该方法解决裁决器对各主控单元模拟量输出结果的裁决问题和主控单元实时输入数据一致性问题。
一种拟态工业控制器归一化裁决方法装置

[发明专利]一种基于混合数据类型工业协议的拟态裁决方法及裁决器-CN202010612424.9有效
发明人：张奕;刘星宇;杨汶佼;吴立其;林会肖;林嵩松 -专利权人：之江实验室
申请日： 2020-06-30 - 公布日： 2020-10-13 - 主分类号： H04L29/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种基于混合数据类型工业协议的拟态裁决方法及裁决器。该方法包括：接收各主控制器单元发送的IO设备控制数据；对所述IO设备控制数据进行通信协议的解析和校验，获得通信异常的主控制器单元和通信正常的主控制器单元，对通信异常的主控制器单元进行标记；从通信正常的主控制器单元中选择出若干个主控制器单元发送的IO设备控制数据进入裁决池；对进入裁决池的主控制器单元发送的IO设备控制数据进行裁决，选择一个裁决为可信的主控制器单元发送的IO设备控制数据组包后下发给IO设备，并对裁决为异常状态的主控制器单元进行标记；多次裁决后，若某一个主控制器单元的异常状态标记计数超过设定的阈值，则对该主控制器单元发起清洗操作。
一种基于混合数据类型工业协议拟态裁决方法

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