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[发明专利]一种加热盘、控制方法、存储介质及晶圆间距的调节机构-CN202310919957.5在审
发明人：赵坤;吴凤丽;杨华龙;张翔宇;张启辉;朱晓亮;高鹏飞 -专利权人：拓荆科技(上海)有限公司
申请日： 2023-07-25 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C23C16/46 文献下载
摘要：本发明提供了一种加热盘、控制方法、存储介质及晶圆间距的调节机构。所述加热盘包括：加热盘本体，用于加热其上的晶圆，以进行薄膜沉积；至少一个间距调节机构，其下端接触所述加热盘本体，而其上端至少在所述薄膜沉积的过程中支撑所述晶圆，其中，所述间距调节机构的下端由压电材料制成，根据受到的控制电压进行伸缩，以调节所述晶圆到所述加热盘本体的距离；以及控制器，连接所述至少一个间距调节机构的下端，并被配置为：根据所述加热盘本体的本体温度，确定所述间距调节机构的控制电压；以及将所述控制电压提供到所述间距调节机构的下端，以将所述晶圆到所述加热盘本体的距离调节到对应所述本体温度的目标距离。
一种加热控制方法存储介质间距调节机构

[实用新型]一种晶圆升降结构以及薄膜沉积设备-CN202320352954.3有效
发明人：杨天奇;吴凤丽;郑旭东;刘振;万亿;何吉超;董文惠;路希龙;杨华龙;张翔宇 -专利权人：拓荆科技股份有限公司
申请日： 2023-03-01 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种晶圆升降结构以及一种薄膜沉积设备。该晶圆升降结构包括：线性轴承，竖直安装于晶圆托盘，其中设有多个滚珠；顶针，安装于线性轴承内部，并经由多个滚珠滚动连接线性轴承；以及驱动机构，用于向顶针提供向上的驱动力，驱动顶针的顶端向上伸出线性轴承及晶圆托盘，以抬升晶圆。
一种升降结构以及薄膜沉积设备

[发明专利]旋转加热装置、气相沉积设备和方法-CN202310814758.8在审
发明人：张佳琦;尹艳超;张艳娟;谭华强;吴凤丽 -专利权人：拓荆科技(上海)有限公司
申请日： 2023-07-04 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： C23C16/46 文献下载
摘要：本申请公开了一种旋转加热装置、气相沉积设备和方法，涉及半导体技术领域。旋转加热装置包括承载部、驱动机构以及加热机构。承载部具有用于承载晶圆的承载面，承载部内设置有加热通道，加热通道具有入口和出口。驱动机构与承载部传动连接，用于驱动承载部旋转。加热机构用于向加热通道输送热媒。由于承载盘可以在驱动机构的驱动下转动，在转动的过程中成膜，能够改善因反应腔室内温度场、流场不均导致的晶圆表面气体难以均匀分布的问题，从而改善成膜质量。另外，通过向承载部内注入热媒来控制承载部的温度，能够使承载部保持在合适的工艺温度，并且承载部温度均匀，有利于提高沉积质量。
旋转加热装置沉积设备方法

[发明专利]晶圆托盘、气相沉积设备及薄膜制备方法-CN202210921681.X有效
发明人：王燚;张亚新;张孝勇;吴凤丽;谈太德;赵宇;杨艳 -专利权人：拓荆科技股份有限公司
申请日： 2022-08-02 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供了晶圆托盘、气相沉积设备及薄膜制备方法。所述晶圆托盘包括至少一个放置晶圆的开口及多个顶针。所述开口的边缘设置有顶针限位槽及多个安装孔。所述多个顶针可拆卸地安装于所述多个安装孔。所述顶针的侧面设有承载台。所述承载台的下部连接所述顶针限位槽，而其上部用于承载所述晶圆。通过配置多个可拆卸的顶针，技术人员可以根据开口位置、反应气体均匀性、加热均匀性等干扰因素，或者实际制备的产品薄膜厚度，调节晶圆各位置的安装高度，以调节对应位置的薄膜生长速率，从而提升产品薄膜厚度的均匀性，并提升晶圆托盘的利用率。
托盘沉积设备薄膜制备方法

[发明专利]一种扩散构件和半导体工艺设备-CN202310809470.1在审
发明人：张佳琦;尹艳超;谭华强;方成;吴凤丽 -专利权人：拓荆科技(上海)有限公司
申请日： 2023-07-03 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明的实施例提供了一种扩散构件及半导体工艺设备，涉及半导体制造技术领域。扩散构件用于安装在进气口，以进行导流和均流。扩散构件包括扩散件，扩散件具有导流面，扩散件的上沿扩散件的周向间隔设置有多个导流通道，且导流通道贯穿扩散件。由进气口流入的工艺气体可沿导流面和导流通道流动。其能够提高半导体工艺设备的镀膜厚度的均一性。
一种扩散构件半导体工艺设备

[发明专利]一种盖板以及流体气相沉积装置-CN202310713243.9在审
发明人：张艳娟;张佳琦;尹艳超;谭华强;吴凤丽 -专利权人：拓荆科技(上海)有限公司
申请日： 2023-06-15 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开了一种盖板以及流体气相沉积装置，涉及半导体沉积技术领域。该盖板设置有穹顶曲面，盖板用于盖设于喷淋盘上，穹顶曲面与喷淋盘共同围成气流空腔，穹顶曲面为非平整面，穹顶曲面用于对工艺气体进行导流，以使其均匀流至喷淋盘上。与现有技术相比，本发明提供的盖板由于采用了非平整面设置的穹顶曲面，所以能够对工艺气体进行稳定导流，导流效果好，沉积速率高，保证工艺气体的流速和分布均匀性，从而提高成膜的平整度和均匀性。
一种盖板以及流体沉积装置

[发明专利]喷淋板和半导体工艺设备-CN202310686155.4在审
发明人：高鹏飞;杨华龙;赵坤;朱晓亮;张启辉;张翔宇;吴凤丽 -专利权人：拓荆科技(上海)有限公司
申请日： 2023-06-09 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开了一种喷淋板和半导体工艺设备，由于孔板能够可拆卸设置于任一个所述抽气孔，且孔板可选择性设置通孔，这样通过将孔板来遮挡抽气孔，若是孔板设置有通孔，则气流只能够通过孔径更小的通孔进入到抽气孔中，若是孔板未设置通孔，则孔板直接封住该抽气孔，若是喷淋板本体上不设置孔板，则抽气孔为原来设置的口径，这样一来，通过孔板是否设置在抽气孔处，又或者在孔板上设置通孔来改变抽气孔的孔径，从而改变喷淋板抽气孔对腔内气流分布情况的影响，以适应新的工艺配方，降低研发成本以及缩短研发周期。
喷淋半导体工艺设备

[发明专利]一种背面沉积腔室及化学气相沉积设备-CN202310365398.8在审
发明人：刘振;魏有雯;吴凤丽 -专利权人：拓荆科技(上海)有限公司
申请日： 2023-04-06 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C23C16/04 文献下载
摘要：本申请公开了一种背面沉积腔室及化学气相沉积设备，涉及半导体处理设备技术领域，本申请的背面沉积腔室，应用于背面沉积应力薄膜，包括壳体，壳体内部形成有空腔，空腔内相对设置有第一分气组件和第二分气组件，第一分气组件和第二分气组件之间用于设置待镀晶圆，空腔内包围第一分气组件和第二分气组件设置有衬套组件，衬套组件上设置有抽气孔。本申请提供的背面沉积腔室及化学气相沉积设备能够抑制等离子体外散，从而提高等离子体的利用率，避免对空腔的污染。
一种背面沉积化学设备

[实用新型]一种半导体薄膜沉积设备-CN202320860217.4有效
发明人：黄明策;吴凤丽 -专利权人：拓荆科技(上海)有限公司
申请日： 2023-04-17 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体制造设备技术领域，更具体的说，涉及一种半导体薄膜沉积设备。本实用新型提供的半导体薄膜沉积设备，包括腔体、盖板、连接部件、升降机构、驱动机构和外部抬举机构：所述盖板，设置于腔体上方；所述连接部件，一端连接盖板，另一端连接升降机构；所述升降机构，设置于腔体内部，在驱动机构的驱动力作用下执行升降动作，带动盖板上升或下降；所述驱动机构，与升降机构连接，对升降机构施加驱动力；所述外部抬举机构，设置在腔体外部，与连接部件连接，对连接部件施加抬举力，与升降机构协同作用带动盖板上升。本实用新型可以减小升降机构的摩擦力，提高升降机构的使用寿命，不易损坏。
一种半导体薄膜沉积设备

[实用新型]一种法兰装置-CN202320811798.2有效
发明人：张启辉;吴凤丽;杨华龙;赵坤;高鹏飞;朱晓亮;张翔宇 -专利权人：拓荆科技(上海)有限公司
申请日： 2023-04-11 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： F16L23/02 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种法兰装置，包括分别与两个管道固定连接的两个法兰盘，以及夹在两个法兰盘之间的连接阀门，两个法兰盘与连接阀门三者之间通过多个贯穿的长螺钉固定连接，沿两个法兰盘与连接阀门的侧面周向设有多个卡接件，卡接件横跨两个法兰盘与连接阀门的侧周，在轴向上固定两个法兰盘与连接阀门三者之间的相对位置以使两个法兰盘与连接阀门三者之间保持平行，从而防止长螺钉由于螺纹偏斜而发生锁死。
一种法兰装置

[发明专利]一种气体分配装置-CN202310508822.X在审
发明人：魏有雯;吴凤丽;董文惠;郭月 -专利权人：拓荆科技(上海)有限公司
申请日： 2023-05-06 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供了一种气体分配装置，包括：形状为多面立方体的集成歧管，该多面立方体包括多个进气面和一个输出面，每个该进气面及该输出面上分别设有多个第一进气口和多个输出口，该集成歧管的内部设有多条相互独立的气道以使得该进气面上的每个第一进气口与该输出面上的一个输出口相连通。
一种气体分配装置

[发明专利]均匀抽气结构、真空腔室、薄膜制备装置及方法-CN202210933966.5有效
发明人：杨华龙;野沢俊久;吴凤丽 -专利权人：拓荆科技股份有限公司
申请日： 2022-08-04 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明提供了一种均匀抽气结构、一种真空腔室、一种薄膜制备装置、一种薄膜制备方法、一种晶圆，以及一种电子器件。所述均匀抽气结构包括晶圆支撑座及抽气挡板。所述晶圆支撑座安装于真空腔室内部，其下部边缘设有向上翻起的弯折结构。抽气挡板设于所述真空腔室的抽气口，其横向尺寸为所述弯折结构的外侧横向尺寸与内侧横向尺寸的均值。所述抽气挡板伸入所述弯折结构，以将所述弯折结构分为两段弯折的抽气通道。所述真空腔室内部的气体依次经过所述两段弯折的抽气通道以排出所述真空腔室。
均匀结构空腔薄膜制备装置方法

[实用新型]一种薄膜沉积设备-CN202320261267.0有效
发明人：野沢俊久;杨华龙;吴凤丽;张启辉;朱晓亮;赵坤;高鹏飞 -专利权人：拓荆科技股份有限公司
申请日： 2023-02-20 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种薄膜沉积设备，包括气源、反应腔体、排气通道、第一管路及第二管路。所述气源经由所述第一管路连接所述排气通道，用于向所述排气通道传输前期气压不稳的气源气体。所述气源经由所述第二管路连接所述反应腔体，用于向所述反应腔体传输气压稳定后的气源气体。所述薄膜沉积设备还包括流阻调节装置。所述流阻调节装置被设置于所述第一管路和/或所述第二管路，用于均衡所述第一管路及所述第二管路中的气体流阻，以消除切换所述第一管路及所述第二管路瞬间的气压波动。
一种薄膜沉积设备

[发明专利]加热盘的气路系统、控制方法及存储介质-CN202211048690.9有效
发明人：野沢俊久;张翔宇;吴凤丽;杨华龙;杨天奇 -专利权人：拓荆科技股份有限公司
申请日： 2022-08-29 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： C23C16/46 文献下载
摘要：本发明提供了加热盘的气路系统、控制方法、存储介质、气相沉积设备及半导体加工设备。所述气路系统包括进气管道、抽气管道及方向阀。所述进气管道的第一端通往所述加热盘表面的第一位置。所述抽气管道的第一端通往所述加热盘表面的第二位置。所述方向阀包括多种状态。所述方向阀在第一状态下经由其第一气路将所述进气管道的第二端连通到气源，并经由其第二气路将所述抽气管道的第二端连通到抽气泵，以组成所述加热盘的真空吸附气路。所述方向阀在第二状态下经由其第三气路将所述进气管道的第二端和/或所述抽气管道的第二端连通到所述气源，以组成所述进气管道和/或所述抽气管道的第一吹扫气路。
加热系统控制方法存储介质

[发明专利]一种衬底的装载和拾取装置及衬底的装载和拾取方法-CN202010588248.X有效
发明人：王燚;吴凤丽 -专利权人：拓荆科技股份有限公司
申请日： 2020-06-24 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： B25J15/08 文献下载
摘要：本发明提供了一种衬底的装载和拾取装置及衬底的装载和拾取方法，包括：基座、机械臂、机械手、卡闸、衬底托盘、衬托底座和升降装置。本发明将采用一次性放置多个衬底，同时进行装载和拾取，通过基座中的升降装置，有序地将衬底从衬底托盘中顶起，随后机械臂、机械手对衬底进行自动装载和拾取，该装置运行方式灵活，处理效果稳定，提高了工作效率，减轻工人劳动强度，具有极高的生产经济价值。
一种衬底装载拾取装置方法

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