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[发明专利]一种基于共体复用全息图的极紫外物镜装调方法-CN202310759047.5在审
发明人：卞殷旭;匡翠方;高金铭;刘旭;李海峰 -专利权人：浙江大学
申请日： 2023-06-26 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G02B27/62 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于共体复用全息图的极紫外物镜装调方法。通过使用共体复用全息图，保证了共体复用全息图自身、凹面主镜、标准自准直反射镜的姿态位置，实现了一个共体复用全息图同时且静态地标定了多个物体，避免了极紫外光刻物镜的误差来源。干涉仪的焦点与极紫外光刻物镜的光轴上物点重合，简化了装调系统。本发明的装调方法中，误差精度由标准干涉仪的测量精度、标准自准直反射镜的平整度和全息图精度三项保证。装调精度误差来源更少，误差更小。
一种基于共体复用全息图紫外物镜方法

[发明专利]一种激光直写样品的固定装置及工作方法-CN202310797264.3有效
发明人：孙秋媛;匡翠方;孙琦;马程鹏;张杨燕 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-07-03 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种激光直写样品的固定装置及工作方法，固定装置包括样品台框架，还包括能够可拆卸地设于所述样品台框架上的适配常规刻写模式的第一固定组件，或适配大尺寸浸入式刻写模式的第二固定组件，或适配光纤端面刻写模式的第三固定组件；第一固定组件为边沿限位式定位槽结构；第二固定组件为三层叠套筒式定位槽结构，以此实现晶圆的定位及光刻胶装载；第三固定组件为双板夹角式定位槽结构，以此实现光纤夹持定位。与现有技术相比，本发明提供了一种结构简单，普适性高，易于操作的一种激光直写样品的固定装置及其工作方法，以实现不同形状、尺寸激光直写样品的固定和定位，适配多种加工场景，可广泛应用于激光直写光刻领域。
一种激光样品固定装置工作方法

[发明专利]基于双抑制效应的飞秒激光直写光刻胶组合物及其应用-CN202211599240.9有效
发明人：关玲玲;匡翠方;邱毅伟;曹春;沈小明;夏贤梦;赖慧颖;李佳伟;马鹏程;付欢;王宵冰;庞茂璋;马致远 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2022-12-12 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于双抑制效应的高精度飞秒激光直写光刻胶组合物及其应用。所述飞秒激光直写光刻胶组合物包括单体、双光子引发剂和阻聚剂；所述单体选自丙烯酸酯类化合物和甲基丙烯酸酯类化合物中的一种或多种按任意配比的组合；以单体质量为100％计，双光子引发剂和阻聚剂的质量百分比为0.5‑5wt％和0.1‑5wt％。本发明公开的光刻胶组合物中加入了阻聚剂，利用化学抑制效应可以提高飞秒激光直写的刻写精度。本发明提供了所述光刻胶组合物在飞秒激光直写制备微结构中的应用，其结合了PPI的物理抑制和阻聚剂的化学抑制两种抑制效应，可以显著提高飞秒激光直写的刻写精度，获得极高精度的高质量刻写线条。
基于抑制效应激光光刻组合及其应用

[发明专利]基于多频条纹的X射线光学相衬成像系统及方法-CN202311146883.2在审
发明人：徐月暑;陶思玮;匡翠方;田宗翰;柏凌;曹雯;刘旭 -专利权人：浙江大学杭州国际科创中心
申请日： 2023-09-07 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G01N23/041 文献下载
摘要：本发明公开一种基于多频条纹的X射线光学相衬成像系统及方法，系统包括：光源聚焦模块，X射线产生装置产生X射线被聚焦装置收集并聚焦；相位光栅模块包括第一光栅、第二光栅及第三光栅，相互平行，并且结构相同、厚度相同及光栅周期相同；探测器模块包括闪烁体、成像模块及图像采集模块，闪烁体接收不同频率的摩尔条纹，通过闪烁体表面成像以形成不同频率的摩尔条纹分布图像，图像采集模块采集摩尔条纹图像；处理模块进行分解，得到吸收衬度图像、暗场衬度图像及微分相位衬度图像。通过本方法解决了传统泰伯劳三光栅X射线光学相衬成像系统的光子利用率低、光源相干性差导致成像灵敏度低等问题；同时能够在成像速度快的同时得到质量更高的图像。
基于条纹射线光学成像系统方法

[发明专利]一种应用于非荧光多颗粒分辨的显微成像系统与方法-CN202310779338.0在审
发明人：杨思恒;刘文杰;张祖鑫;王权;王瑾;陈勰宇;周楠;董建杰;匡翠方 -专利权人：之江实验室
申请日： 2023-06-29 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G02B21/00 文献下载
摘要：一种应用于非荧光多颗粒分辨的显微成像系统及方法，包括光源模块、偏振调制模块、照明模块、成像模块、图像处理模块与位移调控模块，所述光源模块发射端设置有偏振调制模块，所述偏振调制模块发射端设置有照明模块，所述照明模块发射端设置有高倍物镜与样品台，所述成像模块入射端设置有样品台，所述图像处理模块与成像模块连接，所述位移调控模块与样品台连接。本发明利用干涉散射成像的偏振选择原理，通过照明光偏振态调控系统点扩散函数，实现对多颗粒的有效区分，提高成像系统对多个相近颗粒的分辨能力。
一种应用于荧光颗粒分辨显微成像系统方法

[发明专利]一种阳离子型双光子光刻胶及其图案化方法-CN202310703748.7在审
发明人：马致远;匡翠方;曹春;沈小明;付欢;马鹏程;王宵冰;庞茂璋;夏贤梦;赖慧颖;邱毅伟;李佳伟;关玲玲;钱全立;刘旭 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-06-14 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开了一种阳离子型双光子光刻胶及其图案化方法。所述阳离子型双光子光刻胶含有环氧树脂、活性稀释剂、光酸型引发剂和敏化剂；所述的环氧树脂选自下列至少一种：苯酚型酚醛环氧树脂、邻甲酚型酚醛环氧树脂、双酚A型酚醛环氧树脂、四酚基乙烷四缩水甘油醚环氧树脂；所述的敏化剂选自下列至少一种：2‑异丙基硫杂蒽酮、5‑硝基苊、7‑二乙氨基‑3‑噻吩甲酰基香豆素、苯并蒽酮、9‑苯基吖啶、苯并噻唑、N‑乙烯基咔唑和酚噻嗪。本发明提供的阳离子型光刻胶的灵敏度高，既满足了高速刻写的需求，也不需要复杂的敏化剂合成步骤；双光子刻写的速度可以达到100mm/s，线条质量均匀清晰。
一种阳离子光子光刻及其图案方法

[发明专利]X射线光栅多模态图像自适应融合方法、系统及装置-CN202311083848.0在审
发明人：徐月暑;田宗翰;匡翠方;陶思玮;柏凌;刘旭 -专利权人：浙江大学杭州国际科创中心
申请日： 2023-08-28 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G06T5/50 文献下载
摘要：本发明公开一种X射线光栅多模态图像自适应融合方法、系统与装置，方法包括：获取被测样品的吸收衬度图像、暗场衬度图像及微分相位衬度图像；并进行分解，得到对应的第一分解分量、第二分解分量及第三分解分量；分别进行融合前预处理，得到预处理后的结果；将预处理后的结果分别进行融合，得到第二融合经验模态分量和第二融合残差分量；进行细节增强处理得到第二增强经验模态分量，进行对比度增强处理得到第二增强残差分量；进行重建，并进行图像清晰度处理，得到重建图像。本发明解决了三种特征图像所反映的特征信息无法直接反映到统一结果之内的问题，融合后图像数据不受影响，具有直接在分解重建过程中进行图像降噪和增强的优势。
射线光栅多模态图像自适应融合方法系统装置

[发明专利]基于干涉点阵和DMD的边缘光抑制阵列并行直写装置-CN202110049599.8有效
发明人： 匡翠方;杨顺华;刘旭;李海峰;刘秋兰;丁晨良;杨臻垚 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2021-01-14 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于干涉点阵和DMD的边缘光抑制阵列并行直写装置，该装置主要包含两路光：一路光通过偏振分束器产生偏振方向两两相同的四光束，四光束在物镜焦平面重叠，进行振幅和强度叠加后产生干涉点阵，点阵暗斑用作抑制涡旋光阵列；另一路光通过数字微镜器件DMD产生激发光点阵，并投影到物镜焦平面上和抑制涡旋光阵列重合，在大视场中可得到万束量级以上边缘光抑制阵列，可用于高通量超分辨的双光子直写。
基于干涉点阵 dmd 边缘抑制阵列并行装置

[发明专利]一种基于边缘光抑制阵列的并行直写装置和方法-CN202011638382.2有效
发明人： 匡翠方;杨顺华;刘旭;李海峰;丁晨良;魏震;徐良 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种基于边缘光抑制阵列的并行直写装置和方法，该装置可产生N×N强度独立可控的高质量PPI阵列，每个PPI刻写点由干涉点阵暗斑和激发光重合而成，具有高通量超分辨刻写的能力。装置主要包括两路光：一路光通过四光束干涉产生等强度等间距的光斑点阵，点阵暗斑用作涡旋抑制光；另一路光通过MLA产生N×N激发光点阵，同时通过SLM和DMD分别调控各激发光的位置和强度，实现涡旋光阵列与激发光点阵精密重合且刻写点大小独立可控。该装置与方法通过产生相同刻写点大小的PPI阵列，可进行高均匀度三维结构的高通量超分辨直写加工，控制刻写点大小使其具有特定分布，还可并行加工任意曲面结构，可应用于超分辨光刻等领域。
一种基于边缘抑制阵列并行装置方法

[发明专利]一种综合性单分子显微成像方法及装置-CN202310733625.8在审
发明人：刘文杰;王瑾;张祖鑫;王权;杨思恒;陈勰宇;周楠;董建杰;匡翠方 -专利权人：之江实验室
申请日： 2023-06-20 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G01N21/01 文献下载
摘要：一种综合性单分子显微成像方法及装置，包括激光器、透镜组、分束器、四分之一波片、反射镜、三维位移台、待测样品、长焦管透镜、推拉式滤光板、成像物镜和工业相机。在光路中首先改变反射镜的角度使得入射光以相应材料所对应的超临界角或表面等离子体共振角等多种角度入射；其次使用一个推拉式滤光板调节样品面反射光的收集与否，实现在一套系统中对同一样品的全内反射‑干涉散射显微成像、表面等离子体共振‑干涉散射成像、传统干涉散射成像以及暗场成像四种模式。本发明提供一种多模态可相互验证的无标记成像技术，可大幅提升装置利用率和在实际体系中的复用能力。
一种综合性分子显微成像方法装置

[发明专利]一种膜层材料辅助生长的锌基多级微纳结构及其制备方法-CN202310742664.4在审
发明人：钱全立;匡翠方;曹春;关玲玲;邱毅伟;沈小明;庞茂璋;夏贤梦;赖慧颖;李佳伟;马鹏程;付欢;王宵冰;马致远 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-06-21 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： C23C26/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种膜层材料辅助生长的锌基多级微纳结构及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤：(1)在有机溶剂与水的混合液中加入锌源和含氮有机配体，在室温下充分混合均匀，得到澄清溶液；(2)在步骤(1)所得澄清溶液中加入有机羧酸配体，并在室温下充分混合均匀，得到制备锌基多级微纳结构的母液；(3)将膜层材料作为基底垂直置入步骤(2)所得母液中，置于90～120℃环境内保温15～48小时，即在所述基底表面得到锌基多级微纳结构。本发明的锌基多级微纳结构是由长条纳米棒或纳米线组装而成的球状形貌的锌基微纳结构，制备方法简单、流程短，原料方便易得，适合完成大面积多级微纳结构的制备。
一种材料辅助生长基多级微纳结构及其制备方法

[发明专利]一种基于边缘光抑制的共路相位调制激光直写方法与装置-CN202111240501.3有效
发明人： 匡翠方;刘秋兰;杨臻垚;张智敏;朱大钊;徐良;刘旭 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2021-10-25 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于边缘光抑制的双光束共路相位调制激光直写方法与装置，包括引发光刻胶产生聚合反应的激发光源和抑制（或中断）光刻胶聚合的抑制光源。两束准直光以互相垂直的线偏振态进行合束，合束后的两束光经过同一个空间光调制器（SLM）进行相位调制。将所述SLM分成两部分，对应偏振的激发光被SLM第一部分调制相位进行像差校正，最后经过物镜聚焦形成圆形实心光斑；与激发光偏振相垂直的抑制光被SLM第二部分调制相位，最后经过物镜聚焦形成环形空心光斑。激发光的圆形实心光斑与抑制光环形空心光斑中心重合。本发明通过将SLM进行区分复用，对基于边缘光抑制的激光直写技术的双光束同时进行光场调控，实现共路相位调制。
一种基于边缘抑制相位调制激光方法装置

[发明专利]分光检测系统和光束指向检测与稳定系统-CN202310425344.6在审
发明人：马程鹏;匡翠方;徐良;丁晨良;魏震 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-04-18 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： G01J1/42 文献下载
摘要：本申请提供一种分光检测系统和光束指向检测与稳定系统。分光检测系统用于检测光束指向控制组件出射的光束的性质，包括分光检测组件和控制器。分光检测组件包括分光组件和检测组件，分光组件用于反射和透射光束，检测组件用于接收光束反射形成的反射光束，检测反射光束的性质。控制器连接于检测组件和光束指向控制组件之间，控制器用于根据反射光束的性质，确定光束调整量，控制光束指向控制组件根据光束调整量调制光源发出的光束。本申请提供的分光检测系统通过设置控制器根据检测组件检测得到的光束性质，控制光束指向控制组件调制光源发出的光束，降低光束在长距离传播的过程中的偏移和光学器件引入的指向误差，提高光束的稳定性。
分光检测系统光束指向稳定

[发明专利]一种基于离轴全息的干涉散射成像方法及装置-CN202310553207.0在审
发明人：王瑾;刘文杰;张祖鑫;王权;杨思恒;陈勰宇;周楠;董建杰;匡翠方 -专利权人：之江实验室
申请日： 2023-05-17 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： G03H1/00 文献下载
摘要：一种基于离轴全息的干涉散射成像方法及装置，通过调节光路中分光棱镜或反射镜或二维扫描振镜的位置与方向使得参考光即入射到样品面被盖玻片反射的光与物光即样品出散射的光产生夹角，形成离轴全息并进行全息图像的实时采集；根据采集到的图像对其进行频域滤波，消除载频后从复振幅中提取信息进行重构以获得振幅和相位分布，再对包裹相位进行展开得到连续的相位分布图。本发明通过干涉散射技术与数字全息技术相结合的方式，对采集的单颗粒样品图像进行频谱分离，实现对待测样品信号在同级背景下的实时恢复，同时可以获得丰富的样品相位信息，提升方法的多重信息获取能力。
一种基于全息干涉散射成像方法装置

[发明专利]基于飞秒激光直写的图案化UiO系列无机膜的制备方法以及凝胶化配体溶液-CN202310708189.9在审
发明人：王宵冰;匡翠方;曹春;夏贤梦;关玲玲;沈小明;邱毅伟;马致远;马鹏程;庞茂璋;赖慧颖;李佳伟;付欢;钱全立;刘旭 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-06-15 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C08G83/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于飞秒激光直写的图案化UiO系列无机膜的制备方法以及凝胶化配体溶液。所述基于飞秒激光直写的图案化UiO系列无机膜的制备方法包括如下步骤：A：图案化ZrO2薄膜的制备；B：UiO系列无机膜的凝胶化配体溶液的制备；C：UiO系列无机膜的制备。本发明提供了一种用于制备UiO系列无机膜的凝胶化配体溶液，其通过如下方法制备：将有机配体和调节剂溶解在DMF中，制备得到凝胶化配体溶液；所述的调节剂为三乙胺或氢氧化钾；所述的有机配体为下列化合物a‑c中的一种。本发明采用凝胶法旋涂制备图案化UiO系列无机膜，不仅减少了溶剂用量，而且有效降低反应温度，能够获得微米尺度的图案化UiO系列无机膜。#imgabs0#
基于激光图案 uio 系列无机制备方法以及凝胶化配体溶液

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