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[发明专利]基于双抑制效应的飞秒激光直写光刻胶组合物及其应用-CN202211599240.9有效
发明人：关玲玲;匡翠方;邱毅伟;曹春;沈小明;夏贤梦;赖慧颖;李佳伟;马鹏程;付欢;王宵冰;庞茂璋;马致远 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2022-12-12 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于双抑制效应的高精度飞秒激光直写光刻胶组合物及其应用。所述飞秒激光直写光刻胶组合物包括单体、双光子引发剂和阻聚剂；所述单体选自丙烯酸酯类化合物和甲基丙烯酸酯类化合物中的一种或多种按任意配比的组合；以单体质量为100％计，双光子引发剂和阻聚剂的质量百分比为0.5‑5wt％和0.1‑5wt％。本发明公开的光刻胶组合物中加入了阻聚剂，利用化学抑制效应可以提高飞秒激光直写的刻写精度。本发明提供了所述光刻胶组合物在飞秒激光直写制备微结构中的应用，其结合了PPI的物理抑制和阻聚剂的化学抑制两种抑制效应，可以显著提高飞秒激光直写的刻写精度，获得极高精度的高质量刻写线条。
基于抑制效应激光光刻组合及其应用

[发明专利]一种阳离子型双光子光刻胶及其图案化方法-CN202310703748.7在审
发明人：马致远;匡翠方;曹春;沈小明;付欢;马鹏程;王宵冰;庞茂璋;夏贤梦;赖慧颖;邱毅伟;李佳伟;关玲玲;钱全立;刘旭 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-06-14 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开了一种阳离子型双光子光刻胶及其图案化方法。所述阳离子型双光子光刻胶含有环氧树脂、活性稀释剂、光酸型引发剂和敏化剂；所述的环氧树脂选自下列至少一种：苯酚型酚醛环氧树脂、邻甲酚型酚醛环氧树脂、双酚A型酚醛环氧树脂、四酚基乙烷四缩水甘油醚环氧树脂；所述的敏化剂选自下列至少一种：2‑异丙基硫杂蒽酮、5‑硝基苊、7‑二乙氨基‑3‑噻吩甲酰基香豆素、苯并蒽酮、9‑苯基吖啶、苯并噻唑、N‑乙烯基咔唑和酚噻嗪。本发明提供的阳离子型光刻胶的灵敏度高，既满足了高速刻写的需求，也不需要复杂的敏化剂合成步骤；双光子刻写的速度可以达到100mm/s，线条质量均匀清晰。
一种阳离子光子光刻及其图案方法

[发明专利]一种膜层材料辅助生长的锌基多级微纳结构及其制备方法-CN202310742664.4在审
发明人：钱全立;匡翠方;曹春;关玲玲;邱毅伟;沈小明;庞茂璋;夏贤梦;赖慧颖;李佳伟;马鹏程;付欢;王宵冰;马致远 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-06-21 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： C23C26/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种膜层材料辅助生长的锌基多级微纳结构及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤：(1)在有机溶剂与水的混合液中加入锌源和含氮有机配体，在室温下充分混合均匀，得到澄清溶液；(2)在步骤(1)所得澄清溶液中加入有机羧酸配体，并在室温下充分混合均匀，得到制备锌基多级微纳结构的母液；(3)将膜层材料作为基底垂直置入步骤(2)所得母液中，置于90～120℃环境内保温15～48小时，即在所述基底表面得到锌基多级微纳结构。本发明的锌基多级微纳结构是由长条纳米棒或纳米线组装而成的球状形貌的锌基微纳结构，制备方法简单、流程短，原料方便易得，适合完成大面积多级微纳结构的制备。
一种材料辅助生长基多级微纳结构及其制备方法

[发明专利]基于飞秒激光直写的图案化UiO系列无机膜的制备方法以及凝胶化配体溶液-CN202310708189.9在审
发明人：王宵冰;匡翠方;曹春;夏贤梦;关玲玲;沈小明;邱毅伟;马致远;马鹏程;庞茂璋;赖慧颖;李佳伟;付欢;钱全立;刘旭 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-06-15 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C08G83/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于飞秒激光直写的图案化UiO系列无机膜的制备方法以及凝胶化配体溶液。所述基于飞秒激光直写的图案化UiO系列无机膜的制备方法包括如下步骤：A：图案化ZrO2薄膜的制备；B：UiO系列无机膜的凝胶化配体溶液的制备；C：UiO系列无机膜的制备。本发明提供了一种用于制备UiO系列无机膜的凝胶化配体溶液，其通过如下方法制备：将有机配体和调节剂溶解在DMF中，制备得到凝胶化配体溶液；所述的调节剂为三乙胺或氢氧化钾；所述的有机配体为下列化合物a‑c中的一种。本发明采用凝胶法旋涂制备图案化UiO系列无机膜，不仅减少了溶剂用量，而且有效降低反应温度，能够获得微米尺度的图案化UiO系列无机膜。#imgabs0#
基于激光图案 uio 系列无机制备方法以及凝胶化配体溶液

[发明专利]可调折射率的含有杂多酸的激光直写光刻胶的制备以及基于该光刻胶的图案化方法-CN202310699369.5在审
发明人：李佳伟;匡翠方;曹春;邱毅伟;关玲玲;沈小明;赖慧颖;夏贤梦;马鹏程;付欢;庞茂璋;王宵冰;马致远;钱全立 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-06-13 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明公开了一种可调折射率的含有杂多酸的激光直写光刻胶的制备以及基于该光刻胶的图案化方法。所述含有杂多酸的激光直写光刻胶的制备方法包括以下步骤：S1：得到杂多酸溶液；S2：得到成膜树脂溶液；S3：得到含有光引发剂的活性单体溶液；S4：取适量活性单体溶液与杂多酸溶液混合均匀，再将成膜树脂溶液缓慢滴加至混合溶液中，先缓慢摇晃，再静置至溶液分层现象消失，得到含有杂多酸的激光直写光刻胶。本发明将杂多酸分散在光刻胶中，无需另加分散剂促进分散，所得光刻胶折射率在1.4‑1.8范围内可调；胶膜在目标区域内的透光率大于90％；填料均匀分散且粒径小，表面粗糙度低；利用双光子光刻可以制作2D和3D不同形状的结构。
可调折射率含有杂多激光光刻制备以及基于图案方法

[发明专利]一种激光直写高速高精度铜基光刻胶及其半导体图案化方法-CN202310701857.5在审
发明人：夏贤梦;匡翠方;曹春;沈小明;邱毅伟;关玲玲;李佳伟;赖慧颖;马鹏程;付欢;庞茂璋;马致远;王宵冰 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-06-14 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光直写高速高精度铜基光刻胶及其半导体图案化方法。所述激光直写铜基光刻胶包括铜基光刻胶单体、双光子引发剂、抑制剂和溶剂；所述的抑制剂为TEMPO、BTPOS和DMPO中的至少一种；所述激光直写铜基光刻胶中，铜基光刻胶单体的质量为溶剂质量的2‑8％，双光子引发剂的质量为铜基光刻胶单体质量的0.25％‑2.5％，抑制剂的质量为铜基光刻胶单体质量的0.25％‑2.5％。本发明提供的铜基光刻胶在780nm波长的飞秒激光下聚合，最高精度可达亚50nm，最高刻写速度可达200mm/s，热解后可获得氧化铜半导体的微纳图案。
一种激光高速高精度光刻及其半导体图案方法

[发明专利]一种基于马来酰亚胺的自引发双光子光刻胶及其制备和图案化方法-CN202310709968.0在审
发明人：沈小明;匡翠方;马致远;付欢;马鹏程;王宵冰;刘锡;汤孟博;庞茂璋;赖慧颖;钱全立 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-06-15 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： G03F7/037 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于马来酰亚胺的自引发双光子光刻胶及其图案化方法。所述基于马来酰亚胺的自引发双光子光刻胶含有100份的马来酰亚胺化合物、10‑30份的丙烯酸多环戊烯基酯和20‑50份的高折射率芴系活性交联剂。本发明的基于马来酰亚胺的自引发双光子光刻胶避免了常规双光子引发剂的使用，从而可以避免普通光刻胶中残留的光引发剂及光解碎片存在着迁移渗透和进一步光化学反应的可能；丙烯酸多环戊烯基酯的阻氧效应可以保证光刻胶在空气中正常使用；而高折射率芴系活性交联剂则可以有效调节光刻胶的折射率以提升刻写效果。该光刻胶经飞秒激光刻写、显影后，能够得到特征尺寸在百纳米级的二维线条，也能够刻写出数百微米的三维结构。
一种基于马来亚胺引发光子光刻及其制备图案方法

[发明专利]飞秒激光直写光刻胶成膜树脂、负性飞秒激光直写光刻胶及其图案化方法-CN202310708192.0在审
发明人：付欢;曹春;匡翠方;沈小明;马鹏程;邱毅伟;赖慧颖;关玲玲;夏贤梦;李佳伟;刘旭;马致远;王宵冰;庞茂璋;钱全立 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-06-15 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C08F220/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种飞秒激光直写光刻胶成膜树脂、负性飞秒激光直写光刻胶及其图案化方法。所述飞秒激光直写光刻胶成膜树脂的化学结构式如式(I)所示，该飞秒激光直写光刻胶成膜树脂为无规共聚物，重均分子量Mw在1.7‑2.2kDa之间，分布指数D在1.4‑2之间。本发明提供的负性飞秒激光直写光刻胶包括3‑5wt％所述的成膜树脂、5‑10wt％活性单体、0.1‑1wt％双光子引发剂和85‑91wt％溶剂。本发明所述的成膜树脂可以提高负性光刻组合物的抗刻蚀性，提升胶膜与晶圆的附着力，从而提高光刻图形的分辨率，改善图形形貌。
激光光刻胶成膜树脂负性飞秒及其图案方法

[发明专利]一种具有高精度和低表面粗糙度的飞秒激光直写光刻胶及其应用-CN202310274942.8在审
发明人：匡翠方;邱毅伟;庞茂璋;曹春;沈小明;詹刚垚;关玲玲;李佳伟;钱全立;孙秋媛;赖慧颖;付欢;马鹏程;夏贤梦;刘旭 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-03-17 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有高精度和低表面粗糙度的飞秒激光直写光刻胶及其应用。所述光刻胶包含单体和光引发剂，所述单体包含稀释单体和直写单体；所述的稀释单体通过如下方法制备：式(I)所示的异氰酸酯丙烯酸酯中的至少一种与式(II)所示的全氟二醇中的至少一种反应生成含氟丙烯酸酯，以该含氟丙烯酸酯为稀释单体。本发明提供了所述的光刻胶在飞秒激光直写制备微结构中的应用。本发明不仅可使飞秒激光直写结构具有较高的直写精度，而且可使其具有较低的表面粗糙度，还能增强直写结构与基底的附着力。CH2＝CR2‑C(O)‑(O‑R3)m‑NCO(I)HO‑CH2‑R1‑CH2‑OH(II)
一种具有高精度表面粗糙激光光刻及其应用

[发明专利]水凝胶材料及其制备方法-CN202110079214.2有效
发明人：唐秀之;庞茂璋;曾冠杰 -专利权人：中南大学
申请日： 2021-01-21 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： C08F120/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种水凝胶材料及其制备方法，所述水凝胶材料包括如下配方原料：水凝胶单体、溶剂、引发剂和助引发剂，其特征在于还包括多孔氧化石墨烯。本发明通过原位聚合法制备了多孔氧化石墨烯增强增韧水凝胶，通过多孔氧化石墨烯表面丰富的官能团和容许高分子链通过的孔洞来提高材料的机械性能，在受力拉伸过程中。本发明的水凝胶材料具备良好的机械性能，且本发明的制备方法工艺简单，质量可控性高，生产成本低。
凝胶材料及其制备方法

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