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[实用新型]一种环保牙刷柄-CN202020164320.1有效
发明人：刘乒 -专利权人：刘乒
申请日： 2020-02-12 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： A46B5/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种环保牙刷柄，包括刷柄部和刷头部，刷头部的顶端设有可植入刷毛的刷毛孔，刷柄部包括金属杆和硅胶层，硅胶层固定包裹于金属杆的外周，且金属杆靠近刷头部的一端延伸至硅胶层之外，设为插接部，刷头部的尾端与插接部可拆卸连接。本实用新型的公开一种环保牙刷柄其中，刷柄部采用金属杆和硅胶制成，金属杆可回收利用，硅胶可完全生物降解，避免对环境造成污染，同时，平时无需更换整个牙刷，只需更换刷头部即可，刷头部采用PLA料注塑而成，能够完全生物降解，一方面提供了便利，另一方面也保护了环境。
一种环保牙刷

[外观设计]牙刷-CN202030060407.X有效
发明人：刘乒 -专利权人：刘乒
申请日： 2020-02-26 - 公布日： 2020-06-26 - 主分类号： 04-02 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：牙刷。2.本外观设计产品的用途：用于清洁牙齿。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。
牙刷

[发明专利]一种环保牙刷柄及其生产方法-CN202010089119.6在审
发明人：刘乒 -专利权人：刘乒
申请日： 2020-02-12 - 公布日： 2020-05-15 - 主分类号： A46B5/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种环保牙刷柄，包括刷柄部和刷头部，刷头部的顶端设有可植入刷毛的刷毛孔，刷柄部包括金属杆和硅胶层，硅胶层固定包裹于金属杆的外周，且金属杆靠近刷头部的一端延伸至硅胶层之外，设为插接部，刷头部的尾端与插接部可拆卸连接。本发明还公开了一种环保牙刷柄及其生产方法，其中，刷柄部采用金属杆和硅胶制成，金属杆可回收利用，硅胶可完全生物降解，避免对环境造成污染，同时，平时无需更换整个牙刷，只需更换刷头部即可，刷头部采用PLA料注塑而成，能够完全生物降解，一方面提供了便利，另一方面也保护了环境。
一种环保牙刷及其生产方法

[实用新型]一种自动送料装置-CN201822059309.4有效
发明人：刘春玲;刘雄心;霍春宝;于洋;刘乒 -专利权人：辽宁工业大学
申请日： 2018-12-10 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： B23Q7/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种自动送料装置，包括底座，还包括物料排序模块、水平往返模块、竖直升降模块、轴向送料模块、自动夹料模块和控制模块；所述的物料排序模块水平固定在底板远离支撑臂的一端，且与底板之间的夹角为90度；所述的水平往返模块固定在水平支撑板上，用来带动竖直升降模块沿水平支撑板在水平方向移动；所述的竖直升降模块上垂直固定有与物料排序模块在同侧的轴向送料模块；轴向送料模块的末端下方垂直固定有自动夹料模块；该自动送料装置将简易机床的上料方式由人工上料转换为自动上料，实现了上料的自动化，减轻了工人的劳动强度，提高了工作效率。
自动送料装置排序模块竖直升降送料模块轴向底板水平支撑板垂直固定自动夹往返水平方向移动本实用新型工作效率简易机床控制模块模块固定人工上料上料方式水平固定自动上料夹角为支撑臂上料同侧底座自动化转换

[发明专利]一种自动送料装置及送料方法-CN201811501275.8在审
发明人：刘春玲;刘雄心;霍春宝;于洋;刘乒 -专利权人：辽宁工业大学
申请日： 2018-12-10 - 公布日： 2019-04-09 - 主分类号： B23Q7/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种的自动送料装置，包括底座，还包括物料排序模块、水平往返模块、竖直升降模块、轴向送料模块、自动夹料模块和控制模块；所述的物料排序模块水平固定在底板远离支撑臂的一端，且与底板之间的夹角为90度；所述的水平往返模块固定在水平支撑板上，用来带动竖直升降模块沿水平支撑板在水平方向移动；所述的竖直升降模块上垂直固定有与物料排序模块在同侧的轴向送料模块；轴向送料模块的末端下方垂直固定有自动夹料模块；该的自动送料装置将简易机床的上料方式由人工上料转换为自动上料，实现了上料的自动化，减轻了工人的劳动强度，提高了工作效率。
自动送料装置排序模块竖直升降送料模块轴向底板水平支撑板垂直固定自动夹往返水平方向移动工作效率简易机床控制模块模块固定人工上料上料方式水平固定自动上料夹角为支撑臂上料送料同侧底座自动化转换

[实用新型]一种船舶计程仪中信息发送箱用的拨盘-CN200920012641.3有效
发明人：刘义;王树平;金宏;刘乒;王洪余 -专利权人：锦州北方航海仪器有限公司
申请日： 2009-03-31 - 公布日： 2010-05-05 - 主分类号： G01D11/00 文献下载
摘要：一种船舶计程仪中信息发送箱用的拨盘，解决了现有技术中的信息发送箱用的拨盘品种多、不能互换的问题，特征是它有一个圆柱形母盘，圆柱形母盘下端为轴套，对应于圆柱形母盘和轴套中心加工有轴孔；在圆柱形母盘上加工有可以实现双向联结功能的拨槽和拨销孔，在拨销孔中安装有拨销，在所述的轴套上加工有为了增加轴套弹性的相互垂直的两个盲槽和安装顶丝用的内螺纹孔，有益效果是，在同一个母盘上加工有拨槽和拨销孔，实现了拨盘双向联结功能，从而可用一种拨盘代替原有的多种拨销和拨盘；通过轴套上的两个盲槽和内螺纹孔可以增加其在轴上安装的紧密性，增加了与传动轴和各种电机轴联结传动扭矩的可靠性。
一种船舶计程信息发送

[发明专利]一种稳定栅氧化层电学厚度的方法-CN200810222114.5无效
发明人：刘明源;刘乒 -专利权人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2008-09-09 - 公布日： 2010-03-17 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种稳定栅氧化层电学厚度的方法，其特征在于，该方法包括：在浅沟槽隔离工艺中去除氮化硅的步骤与生长栅氧化层的步骤之间的任意步骤之前或之后，对圆片进行紫外光处理。本发明减少了衬底中氢的浓度，稳定了后续生长栅氧化层时的氧化率，进一步稳定了栅氧化层的电学厚度，提高了工艺稳定性。
一种稳定氧化电学厚度方法

[实用新型]船用计程仪平面传感器-CN200920012634.3有效
发明人：魏炳勋;武宝成;王树平;刘义;褚继平;刘乒 -专利权人：锦州北方航海仪器有限公司
申请日： 2009-03-31 - 公布日： 2010-01-27 - 主分类号： G01C22/00 文献下载
摘要：一种船用计程仪平面传感器，克服了现有技术中船用计程仪所采用的传统的杆式传感器电极处于测量杆两侧，测量杆细长，导致其机械强度低、在使用时需伸出船体外面一段距离才能进行测量，在近海浅水航行或通过渔网区时，经常由于测量杆提升不及时而造成测量杆被碰撞损坏的问题；特点是在杆体的底端安装有一个平面底板，在平面底板底部安装电极，所述的平面底板安装在杆体底端安装的螺母内。使用时，平面传感器通过球阀安装在船底，两电极平面与船底外表面相平，不突出船底，不会造成传感器因渔网等物体的刮、撞而毁坏，在保持原电磁计程仪的技术指标、工作稳定性、测量精度优点不变的情况下，提高了传感器的使用寿命。
用计平面传感器

[发明专利]等离子体刻蚀的终点监测方法-CN200710094531.1有效
发明人：刘乒;张世谋;杜珊珊 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2007-12-13 - 公布日： 2009-06-17 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种等离子体刻蚀的终点监测方法，在进行等离子体刻蚀的反应室内壁形成刻蚀交换层；在反应室内通入刻蚀剂对被刻蚀膜层进行等离子刻蚀，刻蚀交换层中包含所述刻蚀剂中包含的元素；监测反应室内被刻蚀膜层的OES曲线，当所述被刻蚀膜层的OES曲线的斜率为0时，即为刻蚀终点。这种终点判断方法可以准确的控制等离子体刻蚀的刻蚀终点，适合65nm及其以下半导体制作工艺中对于等离子体刻蚀工艺刻蚀终点的精确控制。
等离子体刻蚀终点监测方法

[发明专利]制作栅氧化层的方法-CN200710094491.0有效
发明人：刘明源;刘乒 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2007-12-13 - 公布日： 2009-06-17 - 主分类号： H01L21/283 文献下载
摘要：一种制作栅氧化层的方法，包括，采用短波照射具有浅沟槽隔离结构的衬底，将所述衬底中的离子或原子或键合结构从衬底中脱离逸出；在所述衬底上形成栅氧化层。所述制作栅氧化层的方法，避免了在形成栅氧化层的过程中残留离子或原子或键合结构才逸出，而影响栅氧化层的生长。
制作氧化方法

[发明专利]通孔及双镶嵌结构的形成方法-CN200710094539.8有效
发明人：孙武;刘乒;张世谋 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2007-12-13 - 公布日： 2009-06-17 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明公开了一种通孔的形成方法，包括步骤：提供衬底；在所述衬底上形成刻蚀停止层；在所述刻蚀停止层上形成介质层；检测所述介质层的厚度；根据所述介质层的厚度确定随后的刻蚀工艺的工艺条件；在所述介质层上形成通孔图形；按照所述工艺条件对所述介质层进行刻蚀，以形成通孔。本发明还相应地公开了一种双镶嵌结构的形成方法。采用本发明的通孔及双镶嵌结构的形成方法，可以有效避免过刻蚀或刻蚀不足现象的出现，提高了通孔或双镶嵌结构的形成质量。
镶嵌结构形成方法

[发明专利]形成浅沟槽隔离结构的方法和形成浅沟槽的刻蚀方法-CN200710094466.2有效
发明人：刘乒;陈海华;张世谋 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2007-12-13 - 公布日： 2009-06-17 - 主分类号： H01L21/762 文献下载
摘要：一种形成浅沟槽隔离结构的方法，包括：提供依次带有垫氧化层和腐蚀阻挡层的半导体衬底；在腐蚀阻挡层上形成掩膜层，所述掩膜层上形成有与浅沟槽位置对应的开口；以掩膜层为罩幕，沿开口刻蚀腐蚀阻挡层至露出垫氧化层；以掩膜层和腐蚀阻挡层为罩幕，刻蚀垫氧化层和半导体衬底，形成浅沟槽；去除掩膜层后，在浅沟槽内侧沉积衬氧化层，并将绝缘氧化层填充满浅沟槽；去除腐蚀阻挡层和垫氧化层，形成浅沟槽隔离结构。本发明还提供一种形成浅沟槽的刻蚀方法。本发明在腐蚀阻挡层上形成刻蚀过程中保护腐蚀阻挡层的掩膜层，使刻蚀气体对腐蚀阻挡层不会产生影响，腐蚀阻挡层的厚度也不发生变化，从而使浅沟槽隔离结构的隔离效果提高。
形成沟槽隔离结构方法刻蚀

[发明专利]侧墙基层形成方法-CN200710094494.4有效
发明人：刘乒;马擎天;张海洋 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2007-12-13 - 公布日： 2009-06-17 - 主分类号： H01L21/28 文献下载
摘要：一种侧墙基层形成方法，包括：提供半导体基底，所述半导体基底具有栅极；确定环绕所述栅极的侧墙基层的宽度；将所述半导体基底固定于静电卡盘上；提供所述侧墙基层的宽度与所述静电卡盘的温度之间的对应关系，所述侧墙基层的宽度不同时，对应的静电卡盘的温度使所述侧墙基层的均匀性满足产品要求；根据所述对应关系和确定的所述侧墙基层的宽度选定所述静电卡盘的温度；在所述温度下，在所述半导体基底上形成侧墙基层。可增强形成的所述侧墙基层的宽度的均匀性，且制程简单、无需进行设备改进。
墙基形成方法

[发明专利]获得曝光设备聚焦位置的方法和聚焦检测方法-CN200710094563.1无效
发明人：林益世;李庆刚;刘乒 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2007-12-13 - 公布日： 2009-06-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：获得曝光设备聚焦位置的方法，包括：测量经所述曝光设备曝光生成的光敏材料层图案的侧壁角角度；将所述侧壁角角度输入侧壁角角度与曝光设备聚焦位置坐标的函数关系，获得该侧壁角对应的聚焦位置坐标。本发明还提供曝光设备聚焦检测的方法、半导体衬底表面平坦度的检测方法和提高光敏材料层图案侧壁角一致性的方法。本发明的检测方法可在线检测，能够节省时间。
获得曝光设备聚焦位置方法检测

[发明专利]CMOS晶体管及其制作方法-CN200710094467.7无效
发明人：刘乒;马擎天;张海洋 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2007-12-13 - 公布日： 2009-06-17 - 主分类号： H01L21/8238 文献下载
摘要：一种CMOS晶体管，包括：半导体衬底，所述半导体衬底包括隔离结构、位于隔离结构之间的PMOS有源区和NMOS有源区，PMOS有源区与NMOS有源区相邻；栅极，位于PMOS有源区与NMOS有源区的半导体衬底上；NMOS有源区栅极两侧的半导体衬底内形成有n型低掺杂漏极和n型源/漏极；PMOS有源区栅极两侧的半导体衬底内形成有p型低掺杂漏极和p型源/漏极，PMOS有源区的栅极两侧有偏移间隙壁及位于偏移间隙壁上的侧墙，NMOS有源区的栅极两侧有侧墙。本发明还提供一种CMOS晶体管的制作方法。使PMOS有源区与NMOS有源区的栅漏间电容值差距减小。
cmos 晶体管及其制作方法

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