专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种直拉法生长无位错锗单晶热场和生长工艺-CN202111680194.0有效
  • 王宇;冯德伸;刘宁;王博;李燕;雷同光;林泉 - 中国有研科技集团有限公司
  • 2021-12-30 - 2023-06-27 - C30B29/08
  • 本发明公开了一种直拉法生长无位错锗单晶热场和生长工艺。该热场的结构包括筒形主加热器和圆盘形底加热器,在主加热器外层依次设置有石墨保温桶、固化碳毡保温桶,在石墨保温桶和固化碳毡保温桶上端设有紧贴炉壁的多层保温盖,相邻的两层保温盖之间用石英块隔开;热屏悬挂在保温盖上,并从保温盖朝向靠近单晶的方向延伸到熔体液面上方的位置;热屏采用多层结构设计,热屏的主体结构为喇叭形,靠近单晶的内层热屏采用上薄下厚的楔形结构,两层热屏之间具有间隙。锗单晶的生长过程中,在籽晶前端浸入熔体前,需要分为四个烤晶悬停位置,使籽晶缓慢地从冷区浸入热区;调整热场的温度梯度,保证单晶生长环境的稳定性。
  • 一种直拉法生长无位错锗单晶热场工艺
  • [发明专利]锗单晶及锗单晶的热处理工艺-CN202110202067.3在审
  • 王博;冯德伸;易见伟;王宇;李燕;马远飞;于洪国;林泉;雷同光 - 有研光电新材料有限责任公司
  • 2021-02-23 - 2021-07-06 - C30B29/08
  • 本发明提供了一种锗单晶及锗单晶的热处理工艺,该热处理工艺包括以下步骤:在惰性气氛中,对锗单晶依次进行第一恒温阶段、第一降温阶段、第二恒温阶段、第二降温阶段的处理;其中,第一恒温阶段为:升温至750~850℃,然后恒温保持一定时间;第一降温阶段为:以一定的速度降温至450~550℃;第二恒温阶段为:在450~550℃的条件下恒温一定时间,并且所述第二恒温阶段的恒温时间大于所述第一恒温阶段的恒温时间;第二降温阶段为:以一定的速度降温至20~30℃。该热处理工艺能够有效消除250mm以上大直径锗单晶中的残余应力,提高锗单晶的光学均匀性,对红外锗单晶加工和制造环节有重要作用。
  • 锗单晶热处理工艺
  • [实用新型]用于悬浮坩埚的调节支架以及坩埚套装-CN201920877424.4有效
  • 王宇;冯德伸;张嘉亮;雷同光;张路;林泉 - 北京国晶辉红外光学科技有限公司
  • 2019-06-11 - 2020-05-29 - C30B29/08
  • 本实用新型提供的一种用于悬浮坩埚的调节支架以及坩埚套装,涉及锗单晶生长技术领域,包括:坩埚套;至少两个支撑杆;支撑杆的一端通过伸缩结构安装在坩埚套的外部,以能够沿着支撑杆的长度方向相对于坩埚套伸缩。基于上述技术方案,随着锗单晶的生长悬浮坩埚内腔的熔体会减少,由于支撑架与外坩埚的内侧壁相抵接但不连接,所以悬浮坩埚能够继续通过浮力作用而悬浮在熔体中,并随着熔体的减少悬浮坩埚也会随之下降,从而使外坩埚内的熔体通过悬浮坩埚上的通孔补入至悬浮坩埚的内腔中,保证悬浮坩埚内的熔体深度稳定,使悬浮坩埚内部热场不发生变化,保证锗单晶的生长环境稳定,能够良好的生长。
  • 用于悬浮坩埚调节支架以及套装

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