专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]支撑-CN201210006928.1在审
  • 魏志凌;高小平 - 昆山允升吉光电科技有限公司
  • 2012-01-11 - 2013-07-17 - F16M11/00
  • 本发明涉及一种支撑,主要解决现有技术中面接触式的操作无法保证其面的足够平整,在不同的操作过程中,操作台上物件放置的平面位置重现性不好,不利于精密的操作的问题。本发明通过采用一种支撑,包括支撑架和台面,所述支撑架包括三个支撑柱以及固定支撑柱的基,所述支撑柱分布在基台上,三个支撑柱位置所在点连线构成三角形,所述支撑柱的支撑部位为曲面结构或锥形结构的技术方案,较好地解决了该问题,可用于精密操作的支撑平台的工业生产中。
  • 支撑
  • [发明专利]支撑-CN201210006909.9无效
  • 魏志凌;高小平;潘世珎 - 昆山允升吉光电科技有限公司
  • 2012-01-11 - 2013-07-17 - F16M11/20
  • 本发明涉及一种支撑,主要解决现有技术中支撑支撑不稳定,操作台上物件放置的平面位置重现性不好,不利于精密的操作,以及支撑架不易调平的问题。本发明通过采用一种三点正交结构支撑架组成的支撑,包括三个支撑柱以及固定支撑柱的基;三个支撑柱分布在基台上的位置所在点构成一个三角形,所述支撑柱上有圆形通孔,另有一与其配套的调节条的技术方案,较好地解决了该问题,可用于精密操作的支撑架、支撑平台的工业生产中。
  • 支撑
  • [实用新型]支撑-CN201220010223.2有效
  • 魏志凌;高小平;潘世珎 - 昆山允升吉光电科技有限公司
  • 2012-01-11 - 2012-11-14 - F16M11/00
  • 本实用新型涉及一种支撑,主要解决现有技术中支撑支撑不稳定,操作台上物件放置的平面位置重现性不好,不利于精密的操作,以及支撑架不易调平的问题。本实用新型通过采用一种三点正交结构支撑架组成的支撑,包括三个支撑柱以及固定支撑柱的基;三个支撑柱分布在基台上的位置所在点构成一个三角形,所述支撑柱上有圆形通孔,另有一与其配套的调节条的技术方案,较好地解决了该问题,可用于精密操作的支撑架、支撑平台的工业生产中。
  • 支撑
  • [实用新型]支撑-CN201220010225.1有效
  • 魏志凌;高小平 - 昆山允升吉光电科技有限公司
  • 2012-01-11 - 2012-09-12 - F16M11/00
  • 本实用新型涉及一种支撑,主要解决现有技术中面接触式的操作无法保证其面的足够平整,在不同的操作过程中,操作台上物件放置的平面位置重现性不好,不利于精密的操作的问题。本实用新型通过采用一种支撑,包括支撑架和台面,所述支撑架包括三个支撑柱以及固定支撑柱的基,所述支撑柱分布在基台上,三个支撑柱位置所在点连线构成三角形,所述支撑柱的支撑部位为曲面结构或锥形结构的技术方案,较好地解决了该问题,可用于精密操作的支撑平台的工业生产中。
  • 支撑
  • [实用新型]支撑-CN202020927410.1有效
  • 向欣;尹官雄;李俊廷;陈云亮;余春宏;赵小龙;范涛 - 成都中电熊猫显示科技有限公司
  • 2020-05-27 - 2021-02-02 - G02F1/13
  • 本实用新型提供一种支撑,包括基座、载和高度调整机构,载台位于基座上并可相对于基座移动,载的远离基座的一侧具有用于承载基板的承载面,高度调整机构设置在基座和载之间,高度调整机构包括磁悬浮单元,磁悬浮单元设置于载的边缘区域,磁悬浮单元能够对载相对于基座的距离进行调节,以实现对承载面的高度的调节,通过设置磁悬浮单元,对载进行高度的调整和支撑,间接地对基板进行高度的调整和支撑,从而在不接触基板的情况下能够对基板进行高度的调整和支撑
  • 支撑
  • [实用新型]支承加工支撑-CN201520370903.9有效
  • 汤代祥;王力强 - 马鞍山市中工机械科技股份有限公司
  • 2015-06-02 - 2015-10-28 - B25H1/02
  • 本实用新型公开了支承加工支撑,支承加工支撑包括第一底座,第一底座的底部设有底座支脚,第一底座上方固定有第二底座,第二底座的上方设有支撑座,支撑座的上方两端设有支撑支撑台上均设有工作放置板,工作放置板上设有工作固定板,工作固定板上设有固定孔,第一底座上设有油槽,油槽的交汇处设有油孔,第一底座的底部设有排油管。本实用新型具有结构简单、巧妙,稳定性高,用于支撑加工的特点。
  • 支承加工支撑
  • [发明专利]支撑系统-CN201911091746.7在审
  • 张会 - 张会
  • 2019-11-10 - 2021-05-11 - B28C5/08
  • 一种支撑系统,包括支撑,所述支撑包括支撑身与高过一个滑槽撑持框;所述支撑身带有顶壁,所述滑槽撑持框面对面设于所述顶壁两边。这样有效避免了支撑常常因为所用的材质刚度不高常常出现损伤、在热量出现改变或者遭受外部作用不小之际常发生不小的应变、加大了维护时间的缺陷。
  • 支撑系统
  • [发明专利]患者支撑-CN201510045458.3有效
  • A.萨默 - 西门子公司
  • 2015-01-29 - 2017-12-08 - A61G7/14
  • 本本发明涉及一种患者支撑,其包含矗立于地面上的基底部和台上部,所述台上部具有能在其上直线移动的或者在其上反向接纳的卧榻板,其中所述台上部通过借助驱动装置可偏转的平行四边形的升降装置来与基底部相连接,所述台上部通过所述升降装置可以相对于基底部竖直地并且水平地运动
  • 患者支撑
  • [发明专利]晶片支撑-CN201980002640.7有效
  • 海野丰;本山修一郎 - 日本碍子株式会社
  • 2019-03-18 - 2023-07-21 - H01L21/683
  • 本发明提供陶瓷加热器(10),其具备:在上表面具有载置晶片(W)的晶片载置面(22)的陶瓷基板(10);和埋设于陶瓷基板(10)的内部的加热电极(26)。陶瓷基板(20)具有芯部(20a)和设于芯部(20a)的表面的表层部(20b)。表层部(20b)的体积电阻率比芯部(20a)的体积电阻率高,芯部(20a)的导热率比表层部(20b)的导热率高。表层部(20b)设于芯部(20a)的侧面(20a2)和芯部(20a)的上表面(20a1)中的至少未由晶片(W)覆盖的区域。
  • 晶片支撑

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