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[发明专利]光刻投影物镜及光刻机-CN202210384013.8在审
发明人： 侯宝路;王进霞;王彩红;王彦飞;王锋;李运锋 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2022-04-12 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻投影物镜，包括沿光轴顺次排列的第一镜组、第二镜组、第三镜组、第四镜组和第五镜组，所述第一镜组的光焦度#imgabs0#第二镜组的光焦度#imgabs1#第三镜组的光焦度#imgabs2#第四镜组的光焦度#imgabs3#和第五镜组的光焦度#imgabs4#满足#imgabs5##imgabs6#在满足高曝光分辨率的基础上可以减少透镜数量和非球面镜的数量，降低光刻投影物镜的设计成本及制造周期，提高产品市场竞争力；同时，通过正、负相间的光焦度组合，提高光刻投影物镜的像质校正能力，进而提高曝光成像质量，实现更小的曝光分辨率和CDU。相应的，本发明还提供了一种光刻机。
光刻投影物镜

[发明专利]曝光系统、曝光系统的物镜像面调节方法及光刻机-CN202111681792.X在审
发明人：江超群;侯宝路;湛宾洲;丁杨建;李运锋 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-12-30 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种曝光系统，包括照明单元、掩模板、物镜、工件台和控制单元，所述照明单元用于提供曝光光束，所述掩模板位于所述物镜的物面上，所述工件台上的待曝光基板位于所述物镜的像面上，所述物镜中设有楔形板，所述控制单元用于控制所述楔形板进行Rz和Ry方向组合的旋转以调整所述物镜的像面，所述曝光光束沿z轴方向传播，其中，y轴方向与所述z轴相互垂直，Rz为以Z轴为旋转轴的倾斜，Ry为以Y轴为旋转轴的倾斜。通过对所述楔形板进行Rz和Ry方向组合的旋转调整所述物镜的像面，补偿了所述楔形板进行Rz方向旋转引入的非对称旋转。
曝光系统物镜调节方法光刻

[发明专利]椭球面光轴检测方法及椭球面光轴检测装置-CN202010479605.9有效
发明人：李天鹏;侯宝路 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2020-05-29 - 公布日： 2023-02-10 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种椭球面光轴检测方法及椭球面光轴检测装置，椭球面光轴检测方法包括：将一变焦探测单元、一反射球单元和一待测椭球面安装到一光路中的相应位置上，所述变焦探测单元提供探测光并依据所述探测光产生一探测标记，所述反射球单元和所述待测椭球面相配合对所述探测标记所对应的光进行反射，以形成一与所述探测标记相对应的反射标记；以及，调整所述变焦探测单元的焦距、所述反射球单元的垂轴位置以及所述待测椭球面的位置和倾斜度，以使得所述变焦探测单元探测的所述反射标记最清晰。本发明的技术方案能够提高检测精度，实现闭环定量调整，进而使得调试效率得到提高。
椭球光轴检测方法装置

[发明专利]一种积分均匀性补偿方法、补偿装置及光刻设备-CN202110605088.X在审
发明人：蒋晓黎;侯宝路 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2021-05-31 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种积分均匀性补偿方法、补偿装置及光刻设备。其中积分均匀性补偿方法包括：获取整个视场的光强数据；根据光强数据，计算光场的积分均匀性；根据积分均匀性，计算均匀性需求的第一补偿量；根据成像单元的成像关系，计算均匀性需求的第二补偿量；根据第一补偿量和第二补偿量计算补偿版的形貌；根据补偿版的形貌制备补偿版，并将补偿版插入曝光系统中进行积分均匀性补偿。本发明实施例提供的积分均匀性补偿方法可以简化补偿过程，确保积分均匀性补偿的可靠性，降低补偿成本，提高各拼接视场积分均匀性的一致性，确保各视场均在最佳积分均匀性下曝光，提高产品制造质量。
一种积分均匀补偿方法装置光刻设备

[发明专利]光学系统透过率检测装置及其透过率和反射率检测方法-CN202010368195.0有效
发明人：李天鹏;侯宝路 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2020-04-30 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： G01N21/55 文献下载
摘要：本发明提供了一种光学系统透过率检测装置及其透过率和反射率检测方法，光学系统透过率检测装置包括光路调整单元、探测光测量单元和参考光测量单元，光路调整单元包括分光镜、小孔光阑和反射器，分光镜用于将入射光分为透射的初次探测光和反射的参考光，小孔光阑和反射器相配合用于根据需要对初次探测光进行反射形成反射探测光；探测光测量单元用于对反射探测光进行检测；参考光测量单元用于对参考光进行检测；探测光测量单元、参考光测量单元、分光镜和小孔光阑位于待测光学元件的同一侧。本发明的技术方案能够集中关键探测部件，优化探测布局，便于实现电气一体化设计，且能够提高测量精度。
光学系统透过检测装置及其反射率方法

[发明专利]光学系统透过率检测装置及光学系统透过率检测方法-CN202010368203.1有效
发明人：李天鹏;侯宝路;杨若霁 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2020-04-30 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： G01N21/59 文献下载
摘要：本发明提供了一种光学系统透过率检测装置及光学系统透过率检测方法，光学系统透过率检测装置包括光路调整单元、探测光测量单元和参考光测量单元，光路调整单元包括分光镜和反射器，分光镜用于将入射光分为透射的初次探测光和反射的参考光，反射器用于对初次经过待测物镜组件的初次探测光进行反射形成反射探测光，且反射探测光能再次经过待测物镜组件后到达探测光测量单元；探测光测量单元用于检测反射探测光；参考光测量单元用于检测参考光；探测光测量单元和参考光测量单元位于待测物镜组件的同一侧。本发明的技术方案能够集中关键探测部件，优化探测布局，便于实现电气一体化设计，并提高装置的通用性和适用性，以及进一步提高测量精度。
光学系统透过检测装置方法

[发明专利]曝光系统以及光刻设备-CN202110436871.8在审
发明人：湛宾洲;侯宝路 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-04-22 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光系统和光刻设备，所述曝光系统包括发光单元、照明单元、投影物镜单元以及能量探测单元，所述发光单元发射的光束经所述照明单元传输至所述投影物镜单元，所述投影物镜单元将所述光束投影在工件上，所述能量探测单元用于所述光源的能量监测，所述发光单元包括灯室以及光源，将所述光源设置于所述灯室的内部，所述能量探测单元设置于所述灯室的外部。本发明提高了能量探测单元(ED)的稳定性，有利于提高能量探测单元与工件的线性度，提升剂量控制稳定性和精度，进而提升尺寸均匀性(CDU)控制能力，并且减少能量探测单元标定周期，提高光刻产率。
曝光系统以及光刻设备

[发明专利]曝光剂量控制系统及曝光系统-CN202110320470.6在审
发明人： 侯宝路;王彩红 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-03-25 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种曝光剂量控制系统及曝光系统，所述曝光剂量控制系统设置于曝光光路的外侧；所述曝光剂量控制系统包括：探测光收集单元，用于收集光源发出的泄露于所述曝光光路外侧的部分出射光，并将收集的部分所述出射光作为探测光；以及，探测光探测单元，用于探测所述探测光的光强，所述探测光探测单元的探测面与曝光像面共轭。本发明的技术方案能够减少对曝光能量和曝光光学性能的影响，以及提高曝光剂量控制的精度和稳定性。
曝光剂量控制系统系统

[发明专利]大视场成像物镜-CN201911206582.8有效
发明人：李润芝;于大维;侯宝路;李运锋 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： G02B13/06 文献下载
摘要：本发明中提供一种大视场成像物镜，沿光束入射方向依次包括具有正光焦度的第一透镜组、光阑、具有正光焦度的第二透镜组、具有负光焦度的第三透镜组及具有正光焦度的第四透镜组，其中，物镜总长≤850mm，适用于450‑650nm的宽光谱，放大倍率为‑10x，物方的数值孔径NA≤0.3，物方视场的直径为8.4mm。相比于现有成像镜头，本发明提供的成像物镜，在相同的接近衍射极限的像质要求下，具有更长工作距，更大视场范围，能够满足系统的空间需求，可有效实现大孔径、大倍率、双远心系统的像差校正。
视场成像物镜

[发明专利]一种光刻投影物镜及光刻机-CN201910752824.7有效
发明人： 侯宝路;王彩红;王进霞 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2019-08-15 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： G02B13/00 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种光刻投影物镜及光刻机，所述光刻投影物镜包括沿光轴且由物面指向像面顺次排列的第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组；所述第一透镜组的焦距为f1，所述第二透镜组的焦距为f2，所述第三透镜组的焦距为f3，f1、f2和f3满足：‑4＜f2/f1＜‑1，‑0.4＜f3/f2＜‑0.1，0.4＜f3/f1＜0.8。本发明实施例提供一种光刻投影物镜及光刻机，以实现扩大曝光视场的同时还能够实现高的分辨率。
一种光刻投影物镜

[发明专利]光透过率调整装置-CN201911054439.1有效
发明人：王彩红;侯宝路 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2019-10-31 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： G02B26/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种光透过率调整装置，包括：光源，用于提供入射光，入射光的入射方向为X方向，垂直于X方向的方向为Y方向，由X方向和Y方向界定出XY平面，垂直于XY平面的方向为Z方向；沿X方向排列的至少两个透光板，至少两个透光板中具有2N个可旋转透光板，N为正整数，2N个可旋转透光板中的任意N个可旋转透光板绕Y方向旋转，另外N个可旋转透光板绕Z方向旋转，并且，通过旋转2N个可旋转透光板，以使得任意N个可旋转透光板和另外N个可旋转透光板对于入射光的透射率一一对应之差异小于等于预定值。本发明提供的光透过率调整装置可以确保出射光与入射光的偏振度一致，而不改变光束的偏振态，从而保证了后续操作的精确执行。
透过调整装置

[发明专利]曝光系统、光刻机及曝光方法-CN202011126454.5在审
发明人： 侯宝路;周畅 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2020-10-20 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供的曝光系统包括依次设置的灯室结构、耦合镜组、匀光单元、中继镜组和投影物镜；所述曝光系统还包括光阑和/或所述灯室结构具有快门，所述光阑设置于所述快门后方或所述中继镜组的孔径光阑位置；所述灯室结构用于提供光束，所述光束经所述耦合镜组、匀光单元、中继镜组传输至所述投影物镜，通过平滑调整所述光阑的口径或所述快门的口径以衰减所述光束，实现所述曝光系统的能量的连续衰减。进一步的，所述耦合镜组还包括变焦切换组件，通过平滑调整变焦切换组件配合平滑调整所述光阑或者所述快门的孔径，可以实现能量连续衰减的同时，保证所述曝光系统的光学性能不变。
曝光系统光刻方法

[发明专利]一种透过率调整装置-CN201811582754.7有效
发明人：赵仁洁;侯宝路;湛宾洲;胡小林;吴飞 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-12-24 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： G02B26/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种透过率调整装置，包括：旋转中心区域，以及围绕旋转中心区域设置的环形结构；环形结构包括透过率调整区和完全透光区；透过率调整区垂直于旋转中心区域轴向的第一侧边与完全透光区垂直于旋转中心区域轴向的第三侧边连接；透过率调整区垂直于旋转中心区域轴向的第二侧边与完全透光区垂直于旋转中心区域轴向的第四侧边连接；透过率调整区设置有阵列排布的透光孔，透过率调整区的透光面积在沿围绕旋转中心区域的顺时针或逆时针方向上逐渐增大。本发明提供了一种透过率调整装置，以解决现有的机械式透过率调整装置的透过率调整上限受到限制，并且不能实现透过率的连续调整的问题。
一种透过调整装置

[发明专利]像质补偿装置、方法和光学成像系统-CN201911382724.6在审
发明人：王进霞;侯宝路;丁杨建;孙俊阳 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2019-12-27 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种像质补偿装置、方法和光学成像系统，所述像质补偿装置包括像质检测机构、处理器、至少一补偿镜片和至少一角度控制机构，像质检测机构与处理器相连，所述补偿镜片与所述角度控制机构相连；像质检测机构用于检测光学成像系统的像质数据并传输给处理器；处理器用于根据获取的像质数据，计算出补偿镜片的角度调整量；角度控制机构用于根据角度调整量，使补偿镜片旋转相应角度，以改变补偿镜片的面型，进而实现像质的补偿。本发明结构简单，装配难度低，可以使得补偿镜片360度旋转以进行像质补偿，易于调节，有效提高像质补偿的稳定性和可靠性，保证成像质量。
补偿装置方法光学成像系统

[发明专利]一种投影物镜及曝光系统-CN201811311756.2有效
发明人： 侯宝路 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-11-06 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： G02B13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种投影物镜及曝光系统。所述投影物镜包括从物平面开始沿光轴依次设置的具有正光焦度的第一透镜组、具有负光焦度的第二透镜组、具有正光焦度的第三透镜组、孔径光阑、具有正光焦度的第四透镜组、具有负光焦度的第五透镜组以及具有正光焦度的第六透镜组；第一透镜组和第六透镜组基于孔径光阑对称，第二透镜组和第五透镜组基于孔径光阑对称，第三透镜组和第四透镜组基于孔径光阑对称，且满足以下关系式：‑0.7f1/f2‑0.3，‑1.1f2/f3‑0.6，‑1.1f5/f4‑0.6，‑0.7f6/f5‑0.3，其中，f1、f2、f3、f4、f5以及f6分别是第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组、第五透镜组以及第六透镜组的焦距。本发明实施例提供的技术方案，提升了投影物镜的兼容性，提高了曝光系统的模块化水平。
一种投影物镜曝光系统

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