专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基于大语言模型的口语学习方法、装置-CN202310585313.7在审
  • 杨晓光;陈主斌;代露;张洁;王主龙 - 北京易言科技有限公司
  • 2023-05-23 - 2023-08-08 - G09B5/04
  • 本发明涉及一种基于大语言模型的口语学习方法、装置、电子设备及计算机可读介质。该方法通过设置场景、人设,使得学生能够选择感兴趣的场景以特定人设进行口语的学习,大语言模型基于特定场景、特定人设和学生口语内容、学生口语水平进行反馈,与学生进行互动式学习,并且,采用难度跟随机制,大语言模型的反馈的难度与学生口语水平相符或稍高于学生口语水平,达到了根据不同学生不同情况进行针对性学习的效果,学生能够随时随地进行外语口语的学习,并且,基于特定场景和人设的对话练习使得口语学习非常有针对性和实用性。
  • 基于语言模型口语学习方法装置
  • [发明专利]半导体激光器及其制作方法-CN202211609410.7在审
  • 郭丁凯;杨旭;代露 - 武汉仟目激光有限公司
  • 2022-12-14 - 2023-04-25 - H01S5/042
  • 本发明涉及半导体激光器技术领域,提供了一种半导体激光器的制作方法,包括如下步骤:S1,制备外延结构,外延结构包括具有高掺杂层的P型DBR,S2,在外延结构表面进行环形P型DBR的刻蚀,直至刻蚀至高掺杂层,S3,在高掺杂层上制作P型接触电极,并对P型接触电极进行处理,S4,接着制备N型电极,并对N型接触电极进行处理,S5,切割芯片。还提供一种半导体激光器,包括于衬底上依次生长的N型DBR、有源区、氧化层以及P型DBR,P型DBR被刻蚀至其高掺杂层,高掺杂层上设有P型接触电极。本发明将P型接触电极制作于P型DBR底部的高掺杂层上,使得电流不需要穿过整个p型DBR,比传统的制作工艺,能更好的降低芯片阻抗,降低功耗,提高芯片的调制速率。
  • 半导体激光器及其制作方法
  • [发明专利]双台阶光电器件及其制备方法-CN201910304530.8有效
  • 金迎春;肖黎明;代露 - 湖北光安伦芯片有限公司
  • 2019-04-16 - 2021-04-27 - H01L31/0352
  • 本发明涉及光电器件技术领域,提供了一种双台阶光电器件的制备方法,包括如下步骤:S1,于外延片上方依次制备第一掩膜图形和第二掩膜图形,第一掩膜图形的光刻窗口大于第二掩膜图形的光刻窗口;S2,以第二掩膜图形为掩膜对裸露在光刻窗口外的外延片进行刻蚀,直至第二掩膜图形消耗完,以获得第一层台阶;S3,以第一掩膜图形为掩膜继续对裸露在光刻窗口外的外延片进行刻蚀,以获得第二层台阶;S4,完成刻蚀后进行钝化以及电极制备,以得到双台阶光电器件。还提供一种双台阶光电器件。本发明通过采用第一掩膜图形和第二掩膜图形分别作为两次掩膜对外延片进行刻蚀,即通过一次刻蚀即得到双台阶结构,缩短了工艺流程,且避免了出现套刻偏差的情况。
  • 台阶光电器件及其制备方法
  • [发明专利]一种发光二极管的外延片及其制备方法-CN201610620080.X有效
  • 代露;万林;胡加辉 - 华灿光电(浙江)有限公司
  • 2016-07-29 - 2019-08-23 - H01L33/02
  • 本发明公开了一种发光二极管的外延片及其制备方法,属于光电子制造技术领域。该外延片包括依次层叠的衬底、缓冲层、成核层、未掺杂氮化镓层、N型层、有源层和P型层,成核层包括层叠的多层N型AlxGa1‑xN层,各层N型AlxGa1‑xN层的掺杂浓度不变,多层N型AlxGa1‑xN层的掺杂浓度沿外延片的层叠方向连续变化,通过成核层包括层叠的多层N型AlxGa1‑xN层,且各层N型AlxGa1‑xN层的掺杂浓度不变,多层N型AlxGa1‑xN层的掺杂浓度沿外延片的层叠方向连续变化,有利于电流的扩展,降低了外延片的电阻,进而降低外延片的正向电压,减少LED的能耗和发热量,延长使用寿命。
  • 一种发光二极管外延及其制备方法
  • [发明专利]一种发光二极管的外延片及制备方法-CN201610616141.5有效
  • 代露;万林;胡加辉 - 华灿光电(浙江)有限公司
  • 2016-07-29 - 2018-08-10 - H01L33/00
  • 本发明公开了一种发光二极管的外延片及制备方法,属于光电子制造技术领域。该外延片包括蓝宝石衬底、低温缓冲层、成核层、高温缓冲层、N型层、有源层和P型层,高温缓冲层为N型掺杂的氮化镓层,成核层包括层叠的多层N型AlxGa1‑xN层,通过将成核层设计为多层掺杂浓度逐层递增的N型AlxGa1‑xN层,高温缓冲层设计为掺杂浓度在成核层和N型层之间,有利于底层电流扩展,降低芯片正向电压,从而降低芯片的能耗。而且AlxGa1‑xN层可以有效缓解GaN和蓝宝石衬底之间的晶格失配,加上高温缓冲层的掺杂浓度在成核层和N型层之间,进一步提高成核层、高温缓冲层、N型层之间的晶格匹配度,改善外延片的翘曲度。
  • 一种发光二极管外延制备方法
  • [外观设计]修鞋胶包装管-CN201730128124.2有效
  • 代露;李阳;袁峰 - 胡倪珺冉
  • 2017-04-17 - 2018-01-23 - 09-05
  • 1.本外观设计产品的名称修鞋胶包装管。2.本外观设计产品的用途本外观设计产品用于包装修鞋胶。3.本外观设计产品的设计要点本外观设计产品的设计要点在于产品的形状与图案的结合。4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片主视图。5.省略视图无省略视图。
  • 修鞋胶包装
  • [发明专利]发光二极管外延片及其制造方法-CN201410072064.2有效
  • 代露;魏世祯;谢文明 - 华灿光电(苏州)有限公司
  • 2014-02-28 - 2018-01-12 - H01L33/06
  • 本发明公开了一种发光二极管外延片及其制造方法,属于半导体技术领域。所述外延片包括蓝宝石衬底、以及依次层叠在所述蓝宝石衬底上的缓冲层、成核层、未掺杂GaN层、N型层、有源层、P型层,所述成核层包括多个AlxGa1‑xN层,0<x<1,所述多个AlxGa1‑xN层的Al组分含量沿所述外延片的生长方向逐层减少。本发明通过在蓝宝石衬底和未掺杂GaN层之间加入成核层,成核层包括多个AlxGa1‑xN层,0<x<1,可以避免未掺杂GaN层和衬底之间晶格不匹配。而且多个AlxGa1‑xN层的Al组分含量沿外延片的生长方向逐层减少,改善了最终生长出来的外延层的翘曲度,外延片内光电性能比较均匀,晶体质量较好。
  • 发光二极管外延及其制造方法
  • [外观设计]唇釉包装瓶-CN201730128337.5有效
  • 代露;李阳;袁峰 - 胡倪珺冉
  • 2017-04-17 - 2017-10-13 - 09-01
  • 1.本外观设计产品的名称唇釉包装瓶。2.本外观设计产品的用途本外观设计产品用于包装唇釉。3.本外观设计产品的设计要点本外观设计产品的设计要点在于产品的形状与图案的结合。4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片主视图。
  • 包装
  • [外观设计]唇彩包装瓶-CN201730128338.X有效
  • 代露;李阳;袁峰 - 胡倪珺冉
  • 2017-04-17 - 2017-10-13 - 09-01
  • 1.本外观设计产品的名称唇彩包装瓶。2.本外观设计产品的用途本外观设计产品用于包装唇彩。3.本外观设计产品的设计要点本外观设计产品的设计要点在于产品的形状与图案的结合。4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片主视图。
  • 包装
  • [实用新型]一种发光二极管的外延片-CN201620819625.5有效
  • 代露;万林;胡加辉 - 华灿光电(浙江)有限公司
  • 2016-07-29 - 2017-01-25 - H01L33/02
  • 本实用新型公开了一种发光二极管的外延片,属于光电子制造技术领域。该外延片包括蓝宝石衬底、低温缓冲层、成核层、高温缓冲层、N型层、有源层和P型层,高温缓冲层为N型掺杂的氮化镓层,成核层包括层叠的多层N型AlxGa1‑xN层,通过将成核层设计为多层掺杂浓度逐层递增的N型AlxGa1‑xN层,高温缓冲层设计为掺杂浓度在成核层和N型层之间,有利于底层电流扩展,降低芯片正向电压,从而降低芯片的能耗。而且AlxGa1‑xN层可以有效缓解GaN和蓝宝石衬底之间的晶格失配,加上高温缓冲层的掺杂浓度在成核层和N型层之间,进一步提高成核层、高温缓冲层、N型层之间的晶格匹配度,改善外延片的翘曲度。
  • 一种发光二极管外延

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